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纯氮气氛活性屏离子渗氮的研究 被引量:6
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作者 赵慧丽 赵程 孙定国 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期10-12,共3页
在纯氮气氛中,利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对 38CrMoAl钢进行了离子渗氮处理,并对渗层的组织结构、硬度、深度等进行了分析。结果表明,只有直流辉光放电电压高于 800V时,在纯氮气氛中才能进行活性屏离子渗氮处理。通过对等离子放电空... 在纯氮气氛中,利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对 38CrMoAl钢进行了离子渗氮处理,并对渗层的组织结构、硬度、深度等进行了分析。结果表明,只有直流辉光放电电压高于 800V时,在纯氮气氛中才能进行活性屏离子渗氮处理。通过对等离子放电空间的粒子进行XRD分析发现,放电电压低于 800V时,沉积在基材表面的粒子主要是氧化铁(Fe3O4 );放电电压高于 800V时,沉积在基材表面的粒子才是能进行活性屏离子渗氮处理的铁的氮化物(ε、γ′)。 展开更多
关键词 活性屏离子渗氮 纯氮 氧化铁 氮化铁
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40Cr钢富氮层快速离子渗氮技术的探索 被引量:6
2
作者 韩莉 赵程 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期124-128,共5页
用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对40Cr钢进行快速离子渗氮技术的研究。本项研究是利用氮在奥氏体与铁素体中分别具有不同的溶解度和扩散速度的特性,采用了在共析温度以上短时间溶氮和在共析温度以下长时间扩散渗氮的两种不同的渗氮机制,进... 用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对40Cr钢进行快速离子渗氮技术的研究。本项研究是利用氮在奥氏体与铁素体中分别具有不同的溶解度和扩散速度的特性,采用了在共析温度以上短时间溶氮和在共析温度以下长时间扩散渗氮的两种不同的渗氮机制,进行交替渗氮处理。试验结果表明,采用这种新的渗氮工艺不仅可以显著提高渗氮处理中氮在钢中的内扩散速度,而且渗氮层具有较高的硬度。这种快速渗氮工艺可以用"吸收-扩散"渗氮模型进行解释。 展开更多
关键词 40CR钢 活性屏离子渗氮 快速渗氮 富氮层
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工件电位对奥氏体不锈钢活性屏离子渗氮的影响 被引量:6
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作者 赵程 王礼银 韩莉 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期42-45,共4页
用活性屏离子渗氮技术分别对处于悬浮电位和阳极电位的AISI316L奥氏体不锈钢进行低温渗氮处理。并对渗氮层的组织、形貌、相结构、显微硬度和耐蚀性能进行分析。结果表明,在这两种电位状态下处理的试样均可获得具有S相结构特征的单相硬... 用活性屏离子渗氮技术分别对处于悬浮电位和阳极电位的AISI316L奥氏体不锈钢进行低温渗氮处理。并对渗氮层的组织、形貌、相结构、显微硬度和耐蚀性能进行分析。结果表明,在这两种电位状态下处理的试样均可获得具有S相结构特征的单相硬化层。渗氮层不仅具有高的硬度,还有良好的耐蚀性能。在活性屏离子渗氮过程中,从活性屏上溅射下来的中性S相粒子也可以起到氮载体的作用。活性屏空间中性粒子和电子的撞击足以消除不锈钢表面钝化膜对氮的阻隔作用。 展开更多
关键词 奥氏体不锈钢 活性屏离子渗氮 悬浮电位 阳极电位
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AISI 316L奥氏体不锈钢在阳极电位的活性屏离子渗氮 被引量:5
4
作者 赵程 王礼银 +1 位作者 韩莉 刘基凯 《青岛科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2007年第5期431-434,共4页
用活性屏离子渗氮技术对处于阳极电位的AISI 316L奥氏体不锈钢进行低温渗氮处理,并将渗氮层的组织、形貌、相结构、显微硬度和耐蚀性能与在悬浮电位下处理的试样作对比。结果表明,奥氏体不锈钢在两种电位状态下渗氮处理获得了同样的、具... 用活性屏离子渗氮技术对处于阳极电位的AISI 316L奥氏体不锈钢进行低温渗氮处理,并将渗氮层的组织、形貌、相结构、显微硬度和耐蚀性能与在悬浮电位下处理的试样作对比。结果表明,奥氏体不锈钢在两种电位状态下渗氮处理获得了同样的、具有S相结构的单相硬化层。渗层不仅具有高的硬度,还有良好的耐蚀性能。在活性屏离子渗氮过程中,从活性屏上溅射下来的中性S相粒子起着氮载体的作用。活性屏空间粒子的撞击消除了不锈钢表面钝化膜对氮的阻隔作用。 展开更多
关键词 奥氏体不锈钢 活性屏离子渗氮 阳极电位 悬浮电位
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活性屏与工件的距离对40Cr钢活性屏离子渗氮行为的影响 被引量:5
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作者 郭俊文 田林海 +1 位作者 林乃明 唐宾 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期31-37,共7页
为提高40Cr钢的抗磨及耐蚀性能,用304不锈钢冲孔板制成的活性屏对40Cr钢进行离子渗氮(ASPN)处理,研究了活性屏与工件的距离对渗层组织结构和性能的影响,并与普通直流离子渗氮(DCPN)进行了比较。用光学显微镜(OM)、X射线衍射仪(XRD)、辉... 为提高40Cr钢的抗磨及耐蚀性能,用304不锈钢冲孔板制成的活性屏对40Cr钢进行离子渗氮(ASPN)处理,研究了活性屏与工件的距离对渗层组织结构和性能的影响,并与普通直流离子渗氮(DCPN)进行了比较。用光学显微镜(OM)、X射线衍射仪(XRD)、辉光放电光谱仪(GDOES)、显微硬度计、往复摩擦磨损试验机和电化学工作站对渗层组织、相成分、硬度、耐磨及耐腐蚀性能进行分析。结果表明:经不锈钢活性屏离子渗氮处理后,试样表面得到了致密均匀的渗氮层,渗层主要由ε-Fe2-3N、γ′-Fe4N和CrN相组成,且随着试样与活性屏距离从10mm、20mm增加到30mm,对应的渗层厚度从6μm、4.7μm减小到3.5μm。经氮化处理后,40Cr钢的耐磨性和耐腐蚀性都有显著的提高,ASPN处理后试样的耐腐蚀性较DCPN有明显的提高。 展开更多
关键词 活性屏离子渗氮 40CR钢 渗氮层 耐磨性 耐蚀性
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高速钢的活性屏离子渗氮 被引量:4
6
作者 赵慧丽 刘玲 +1 位作者 朱彦军 赵程 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2008年第10期71-73,共3页
利用活性屏离子渗氮技术对W18Cr4V高速钢进行渗氮处理,对其组织、硬度和渗层深度进行分析,并与普通直流离子渗氮作比较。结果表明,经活性屏离子渗氮处理后,渗氮层硬度梯度变得平缓,且最高硬度不在表面,而是在距表面一定距离处,这将能提... 利用活性屏离子渗氮技术对W18Cr4V高速钢进行渗氮处理,对其组织、硬度和渗层深度进行分析,并与普通直流离子渗氮作比较。结果表明,经活性屏离子渗氮处理后,渗氮层硬度梯度变得平缓,且最高硬度不在表面,而是在距表面一定距离处,这将能提高高速钢的耐疲劳性能,改善高速钢的内在质量。 展开更多
关键词 活性屏离子渗氮 高速钢 硬度梯度
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活性屏等离子渗氮技术在高压开关零件上的应用 被引量:3
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作者 张丹丹 王安平 +1 位作者 刘作庆 张全民 《热加工工艺》 北大核心 2021年第4期138-140,共3页
传统的直流等离子渗氮技术存在一些固有缺点,容易导致几何形状复杂的零件表面产生较多表面缺陷。采用一种新的等离子渗氮技术——活性屏等离子渗氮(ASPN)技术对高压开关领域零件进行处理。结果表明,ASPN技术应用到高压开关零件上,可以... 传统的直流等离子渗氮技术存在一些固有缺点,容易导致几何形状复杂的零件表面产生较多表面缺陷。采用一种新的等离子渗氮技术——活性屏等离子渗氮(ASPN)技术对高压开关领域零件进行处理。结果表明,ASPN技术应用到高压开关零件上,可以获得均匀美观且质量良好的零件表面,同时获得了较高的表面硬度和扩散层深度,零件的耐磨性能和耐蚀性能均被提高。 展开更多
关键词 活性屏等离子渗氮 组织 表面硬度 硬度梯度 耐蚀性能
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Study of the Active Screen Plasma Nitriding 被引量:1
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作者 ZhaoCheng C.X.Li +1 位作者 H.Dong T.Bell 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期330-333,共4页
Active screen plasma nitriding (ASPN) is a novel nitriding process, which overcomes many of the practical problems associated with the conventional DC plasma nitriding (DCPN). Experimental results showed that the meta... Active screen plasma nitriding (ASPN) is a novel nitriding process, which overcomes many of the practical problems associated with the conventional DC plasma nitriding (DCPN). Experimental results showed that the metallurgical characteristics and hardening effect of 722M24 steel nitrided by ASPN at both floating potential and anodic (zero) potential were similar to those nitrided by DCPN. XRD and high-resolution SEM analysis indicated that iron nitride particles with sizes in sub-micron scale were deposited on the specimen surface in AS plasma nitriding. These indicate that the neutral iron nitride particles, which are sputtered from the active screen and transferred through plasma to specimen surface, are considered to be the dominant nitrogen carrier in ASPN. The OES results show that NH could not be a critical species in plasma nitriding. 展开更多
关键词 等离子渗氮 aspn DCPN SEM
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钛合金精密零件的活性屏离子渗氮 被引量:2
9
作者 罗铸 崔怀玲 李敏 《航天制造技术》 2012年第5期23-27,共5页
采用活性屏离子渗氮技术对钛合金进行渗氮处理,并将渗氮层的组织、形貌、维氏硬度和零件的变形情况与普通离子氮化的试件作对比。结果表明,活性屏离子氮化的组织和性能优于普通离子氮化,工件变形小、表面光洁度高、操作简单、过程可控... 采用活性屏离子渗氮技术对钛合金进行渗氮处理,并将渗氮层的组织、形貌、维氏硬度和零件的变形情况与普通离子氮化的试件作对比。结果表明,活性屏离子氮化的组织和性能优于普通离子氮化,工件变形小、表面光洁度高、操作简单、过程可控、质量一致性好,可以解决钛合金精密零件普通离子氮化存在的问题。 展开更多
关键词 钛合金 活性屏离子氮化 精密零件
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偏压在大尺寸活性屏等离子渗氮中的作用机理 被引量:1
10
作者 郑少梅 李丽华 赵程 《青岛科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2015年第1期77-79,101,共4页
通过采用大尺寸活性屏进行等离子渗氮处理,研究和分析了偏压及其"阈值"对大尺寸活性屏渗氮的影响。实验结果表明:采用大尺寸活性屏渗氮时,加在工件上的偏压是一个决定性的因素,只有当负偏压大于"阈值"时,无论距活... 通过采用大尺寸活性屏进行等离子渗氮处理,研究和分析了偏压及其"阈值"对大尺寸活性屏渗氮的影响。实验结果表明:采用大尺寸活性屏渗氮时,加在工件上的偏压是一个决定性的因素,只有当负偏压大于"阈值"时,无论距活性屏多远的试样都能取得较好的渗氮效果。通过理论分析认为这个偏压阈值恰好是能够引起工件表面产生自溅射所需要的最低电压。研究认为采用大尺寸活性屏渗氮时,距离活性屏较远的工件是靠施加在其上的偏压引起工件表面产生自溅射生成大量的纳米粒子作为渗氮的载体实现渗氮的。 展开更多
关键词 活性屏离子渗氮 大尺寸活性屏 偏压“阈值” 自溅射
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活性屏等离子渗氮工艺中双重辉光放电下氮的输运机理 被引量:1
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作者 郑少梅 郝国祥 陈启 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期319-323,共5页
采用大尺寸铜质活性屏进行活性屏等离子渗氮处理,在距离活性屏不同位置处分别放置玻璃片,用来收集主电压和偏压同时存在时,即等离子空间处于双重辉光放电模式下阴极溅射产生的在渗氮过程中起到载体作用的纳米粒子。通过对粒子形貌、化... 采用大尺寸铜质活性屏进行活性屏等离子渗氮处理,在距离活性屏不同位置处分别放置玻璃片,用来收集主电压和偏压同时存在时,即等离子空间处于双重辉光放电模式下阴极溅射产生的在渗氮过程中起到载体作用的纳米粒子。通过对粒子形貌、化学成分进行分析,以此揭示双重辉光放电条件下活性屏离子氮化工艺中氮的输运机理。实验结果表明:主电压和偏压同时存在时,离活性屏距离不同的玻璃片上收集到的粒子形状和尺寸与只加主电压时有所不同;且随着离活性屏距离的改变,粒子的形状、尺寸及化学元素含量都不相同,但粒子中氮元素的含量都很高。分析认为这是因为双重辉光放电条件下,活性屏和工件都会产生阴极溅射,因此收集到的溅射粒子的来源不同,一部分来源于活性屏溅射,而另一部分来源于偏压引起工件表面产生的自溅射,对于距离活性屏较远的工件来说,施加在工作台上上的偏压是活性氮原子从气相输运到工件表面的关键。 展开更多
关键词 活性屏等离子渗氮 双重辉光放电 偏压 输运机理 渗氮载体
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纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理及其影响因素 被引量:1
12
作者 张勇 赵慧丽 +1 位作者 朱彦军 赵程 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2008年第16期71-73,共3页
利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对38CrMoAl钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理,对渗氮层的硬度、深度、组织结构以及收集粒子的形貌、结构等进行了分析研究。结果表明,电压较低时,Fe主要与O结合生成大量的氧化铁而不能进行ASPN处理,氧起主... 利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对38CrMoAl钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理,对渗氮层的硬度、深度、组织结构以及收集粒子的形貌、结构等进行了分析研究。结果表明,电压较低时,Fe主要与O结合生成大量的氧化铁而不能进行ASPN处理,氧起主导作用;只有在电压较高、Fe与N的结合能力较强时才主要生成吸附大量活性氮原子的氮化铁进行ASPN处理。 展开更多
关键词 纯氮 活性屏离子渗氮
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放电电压对纯氮ASPN处理的影响
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作者 赵慧丽 赵程 孙定国 《青岛科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2004年第5期430-433,共4页
采用高电压、低气压的离子渗氮工艺,利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对合金钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理。对渗氮层的硬度、深度和组织结构等进行了分析研究。结果表明,在纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理过程中放电电压起关键作用,只有... 采用高电压、低气压的离子渗氮工艺,利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对合金钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理。对渗氮层的硬度、深度和组织结构等进行了分析研究。结果表明,在纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理过程中放电电压起关键作用,只有当直流辉光放电电压高于800 V时,才能进行离子渗氮处理。通过分析用铜片采集的等离子放电空间的粒子发现,放电电压高于800 V时,沉积在铜片表面的粒子是能进行渗氮处理的氮化铁;而放电电压低于800 V时,沉积在铜片表面的粒子主要是氧化铁。 展开更多
关键词 放电电压 活性屏离子渗氮处理 合金钢 氧化铁 X射线衍射
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大尺寸活性屏等离子渗氮工艺中偏压阈值的计算模型
14
作者 郑少梅 李丽华 《青岛科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2016年第2期205-207,213,共4页
大尺寸活性屏进行离子渗氮工艺处于主电压和偏压同时产生辉光放电的特殊放电模式,研究表明:此时施加在工件上的偏压存在一个阈值,且该阈值是影响渗氮效果的关键因素。通过对活性屏等离子渗氮工艺中带电离子在偏压鞘层中的行为以及等离... 大尺寸活性屏进行离子渗氮工艺处于主电压和偏压同时产生辉光放电的特殊放电模式,研究表明:此时施加在工件上的偏压存在一个阈值,且该阈值是影响渗氮效果的关键因素。通过对活性屏等离子渗氮工艺中带电离子在偏压鞘层中的行为以及等离子空间中粒子之间的能量传递的研究,尝试建立了一种能够预测施加在工件上的偏压阈值的数学计算模型,并将该数学模型得到的偏压阈值的理论值与实验所得到的阈值进行了比较,结果基本吻合。分析认为,通过该数学模型的建立可以为大尺寸活性屏等离子工艺的参数优化设计和实际生产提供合理的偏压阈值的参考值。 展开更多
关键词 活性屏等离子渗氮 偏压阈值 偏压鞘层 计算模型
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