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WS_2薄膜/空间液体润滑剂复合润滑体系的摩擦学性能研究 被引量:7
1
作者 权鑫 孙嘉奕 翁立军 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期665-672,共8页
采用射频溅射技术制备了WS2薄膜,考察了WS2/全氟聚醚(815Z)和WS2/聚烯烃取代环戊烷(P201)两种固/液复合润滑体系的真空摩擦学性能.通过扫描电子显微镜(SEM)、三维表面轮廓仪对磨损表面的微观形貌进行了分析,采用X射线能量色散谱(EDS)和... 采用射频溅射技术制备了WS2薄膜,考察了WS2/全氟聚醚(815Z)和WS2/聚烯烃取代环戊烷(P201)两种固/液复合润滑体系的真空摩擦学性能.通过扫描电子显微镜(SEM)、三维表面轮廓仪对磨损表面的微观形貌进行了分析,采用X射线能量色散谱(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)分析了磨损表面元素的组成和化学状态.探讨了两种固/液复合润滑体系的摩擦磨损特性和失效机理.结果表明:WS2/815Z复合润滑体系中,二者相容性较差,摩擦系数较高、波动较大,且表现出较高的磨损率;WS2薄膜与P201的相容性较好,组成的复合润滑体系表现出较低且平稳的摩擦系数和较低的磨损率,具有良好的协同效应. 展开更多
关键词 ws2薄膜 全氟聚醚 聚烯烃取代环戊烷 固/液复合润滑体系 摩擦磨损
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不同层厚比WS_x/a-C多层膜的组织结构与摩擦学特性 被引量:4
2
作者 郑晓华 章荣 +3 位作者 史玉龙 沈靖枫 李昂 杨芳儿 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期659-665,共7页
利用磁控溅射法在单晶硅上制备了不同层厚比的WS_x/a-C纳米多层膜(调制周期约50 nm)。用扫描电镜、X射线衍射、能谱、X射线光电子谱和Raman光谱对薄膜的形貌、成分和组织结构等进行了表征。采用纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦仪测试了... 利用磁控溅射法在单晶硅上制备了不同层厚比的WS_x/a-C纳米多层膜(调制周期约50 nm)。用扫描电镜、X射线衍射、能谱、X射线光电子谱和Raman光谱对薄膜的形貌、成分和组织结构等进行了表征。采用纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦仪测试了薄膜的硬度、结合力和在大气环境下(相对湿度约70%)的摩擦学性能。结果表明:随着层厚比L_(a-C)/L_(WS_x)的增加,多层膜的n_s/n_w比由1.38增大至1.62,并伴随着WS_2尺寸的减小以及薄膜致密度和平整度的提高,a-C层和WS_x层的结构无明显变化;多层膜的磨损率仅为纯WS_x膜的1/3~1/4,摩擦因数由0.26降至0.2,硬度和磨损率均出现峰值,而结合力呈相反变化趋势。层厚比L_(a-C)/L_(WS_x)为1:39的多层膜的摩擦因数为0.26,磨损率为9.8×10^(-14)m^3/Nm,耐磨性最佳。 展开更多
关键词 ws_2 A-C 多层膜 摩擦与磨损 磁控溅射
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基底温度对脉冲激光沉积WS_x薄膜组织结构和摩擦学性能的影响 被引量:4
3
作者 张继 郑晓华 +2 位作者 杨芳儿 寇云峰 宋仁国 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期612-618,共7页
采用脉冲激光沉积法(PLD)在不同温度单晶硅基底上制备了WSx固体润滑薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、形貌和微观结构进行了分析,采用球-盘式磨损试验机测试了薄膜在大气环境下(相对湿度... 采用脉冲激光沉积法(PLD)在不同温度单晶硅基底上制备了WSx固体润滑薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、形貌和微观结构进行了分析,采用球-盘式磨损试验机测试了薄膜在大气环境下(相对湿度50%~60%)的摩擦学特性.结果表明:室温下所获得的薄膜为微晶结构;在RT~300℃范围内,随着温度的升高,薄膜表面趋于光滑、致密,且形成晶态WSx的趋势逐渐增大,薄膜与基底间的结合力增大,但薄膜中S和W的含量之比(S/W比)从1.84逐步下降到1.49.薄膜的摩擦系数在RT~200℃范围内与其S/W比呈反比关系,在300℃条件下,薄膜中形成了大量的WS2晶体,摩擦系数最低且耐磨性能也最好. 展开更多
关键词 薄膜 ws2 脉冲激光沉积 基底温度 固体润滑
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Effect of WS_2 particle size on mechanical properties and tribological behaviors of Cu-WS_2 composites sintered by SPS 被引量:2
4
作者 Jin ZHOU Chao MA +2 位作者 Xiao KANG Lei ZHANG Xin-li LIU 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第6期1176-1185,共10页
The mechanical properties and tribological behaviors of Cu-WS2 composites fabricated by spark plasma sintering(SPS) using two different WS2 particle sizes of 0.6 and 5.0 μm and Cu powders as raw materials were inve... The mechanical properties and tribological behaviors of Cu-WS2 composites fabricated by spark plasma sintering(SPS) using two different WS2 particle sizes of 0.6 and 5.0 μm and Cu powders as raw materials were investigated. The results indicate that the bending strength and tribological behavior of Cu-WS2 composites are greatly affected by the size of WS2 particles. The bending strength of Cu-WS2 composites with the WS2 particle size of 5.0 μm is 292.2 MPa. As the size of WS2 particle decreases to 0.6 μm, the bending strength also decreases to 181.5 MPa. Moreover, as the WS2 particle size decreases from 5.0 to 0.6 μm, the wear rate of Cu-WS2 composite sharply increases from 2.99×10^-14 to 6.13×10^-14 m^3/(N·m) and its friction coefficient increases from 0.158 to 0.172. The size of WS2 particle(5.0 μm) plays an important role in forming transfer film formed on the counter-face. The sample with 5.0 μm WS2 particle forms smoother and more continuous transfer film, which results in a low wear rate and friction coefficient of the Cu-WS2 composites. 展开更多
关键词 Cu-ws2 composites mechanical properties wear rate friction coefficient continuous transfer film spark plasma sintering
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单层,少层和块状WS2薄膜中声子位移随温度的变化(英文) 被引量:2
5
作者 刘新科 王佳乐 +5 位作者 许楚瑜 罗江流 梁迪斯 岑俞诺 吕有明 李治文 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2019年第10期1134-1141,共8页
近年来,二维过渡金属二硫化物(TMD)由于其良好的物理和化学性质而引起人们的关注。其中,石墨烯由于其高达200000 cm2·V-1·s-1高电子迁移率得到了深入研究。由于石墨烯没有带隙,因此基于石墨烯的器件难以实现高的电流开关比。... 近年来,二维过渡金属二硫化物(TMD)由于其良好的物理和化学性质而引起人们的关注。其中,石墨烯由于其高达200000 cm2·V-1·s-1高电子迁移率得到了深入研究。由于石墨烯没有带隙,因此基于石墨烯的器件难以实现高的电流开关比。对于二维过渡金属二硫化物例如MoS2、MoSe2、WSe2和WS2,这些材料可以根据层数来调节的带隙。其中,单层和多层MoS2薄膜已进行了广泛深入研究。已经有人实现具有优异电学性能的基于MoS2的场效应晶体管(FET)。与MoS2、MoSe2和MoTe2相比,WS2具有更低的面内电子质量,这表明基于WS2的FET具有更高的载流子迁移率或更高的输出电流。与MoS2相比,WS2缺乏系统的研究,需要更多的研究工作来进一步发掘基于WS2的场效应晶体管的潜能。因此,我们使用机械剥离法来制备WS2晶体单层(1L),少层(FL)和块状WS2薄膜。使用3M透明胶带转移WS2薄膜,并且使用514 nm激光器对1L、FL和块状WS2膜进行了变温的拉曼研究。随着膜厚度增加到块状,对于1L WS2,A1g(Γ)和E2g1(Γ)模式分别显示蓝移和红移。此外,当拉曼振动模式在E12g(Γ)和A1g(Γ)之间交换时,"交叉"温度被识别为1L、FL和块状WS2膜。与MoS2相比,随着膜厚度的变化,WS2在E2g1(Γ)和A1g(Γ)之间表现出较小的频率变化(Δ),并且从拉曼峰值位置随温度变化来看,WS2比MoS2少一个量级。这项工作为基于WS2的器件设计提供了物理指导。 展开更多
关键词 二硫化钨 薄膜厚度 拉曼 光致发光 振动模式
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沉积压力对磁控溅射WS2薄膜摩擦学性能的影响 被引量:1
6
作者 贺江涛 蔡海潮 薛玉君 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期180-187,共8页
目的研究不同沉积压力对磁控溅射WS2薄膜微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响。方法采用射频磁控溅射法制备WS2薄膜。利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜微观形貌、成分和晶相结构进行表征。用纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和... 目的研究不同沉积压力对磁控溅射WS2薄膜微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响。方法采用射频磁控溅射法制备WS2薄膜。利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜微观形貌、成分和晶相结构进行表征。用纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和白光干涉三维形貌仪测试薄膜的力学性能和摩擦磨损性能。结果随着沉积压力增大,WS2薄膜疏松多孔结构明显降低,粗大柱状晶显著细化,薄膜致密度得到有效改善。沉积压力大于0.8Pa时,WS2薄膜表现出明显的(101)晶面择优取向。WS2薄膜硬度变化与薄膜中S/W原子比变化趋势相反,弹性模量逐渐减小。沉积压力0.4 Pa时,由于WS2薄膜大部分易滑移(002)晶面平行于基体表面,摩擦系数最低,为0.092,但其耐磨性能最差。沉积压为1.6 Pa时,WS2薄膜的磨损率最低,为2.34×10^-7 mm^3/(N·m),表现出良好的耐磨性能。结论改变沉积压力可以显著提高WS2薄膜致密度,改善薄膜的力学性能,提升WS2薄膜的摩擦磨损性能。 展开更多
关键词 沉积压力 磁控溅射 ws2薄膜 摩擦系数 磨损率
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溅射沉积WS_x/Ni/a-C/Ni多层膜的微结构及大气环境摩擦学性能 被引量:1
7
作者 杨芳儿 王贡启 +2 位作者 龚润泽 刘涛 郑晓华 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期82-89,共8页
采用磁控溅射技术在硅基体上交替沉积WS2、Ni及非晶碳(a-C)层制备出不同Ni层厚度的WSx/Ni/a-C/Ni多层膜.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪等研究了多层膜的成分及微观结构;通过纳米压痕仪、划痕仪和球... 采用磁控溅射技术在硅基体上交替沉积WS2、Ni及非晶碳(a-C)层制备出不同Ni层厚度的WSx/Ni/a-C/Ni多层膜.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪等研究了多层膜的成分及微观结构;通过纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机等评价了薄膜的力学及大气环境中的摩擦学性能.结果表明:随着Ni层厚度的增加,WSx/Ni/a-C/Ni多层膜的致密度下降,ns/nw值(S与W原子百分数之比)由0.84降至0.73,WSx层以微晶或非晶的形式存在.多层膜的硬度和磨损率均随Ni层厚度的增加先降低后升高,但摩擦系数由0.22升至0.38,结合力先增大后减小. Ni层厚度为6 nm的多层膜的硬度可达13.4 GPa,抗氧化性能和耐磨性最优,磨损率仅为9.47×10–14 m3/(Nm). 展开更多
关键词 二硫化钨 Ni 非晶态碳(a-C) 多层膜 摩擦学性能 磁控溅射
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溅射沉积WS_2/Ag纳米复合薄膜在不同环境中的摩擦磨损性能研究 被引量:20
8
作者 赖德明 涂江平 +3 位作者 张升才 王倩 彭世敏 何丹农 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期515-519,共5页
利用直流磁控溅射方法在钛合金基底上制备W S2/Ag纳米复合薄膜,采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜以及能谱仪对复合薄膜的表面形貌和组织结构进行分析,用球-盘式摩擦磨损试验机对复合薄膜在真空和潮湿空气环境中的摩擦磨损性能进行研... 利用直流磁控溅射方法在钛合金基底上制备W S2/Ag纳米复合薄膜,采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜以及能谱仪对复合薄膜的表面形貌和组织结构进行分析,用球-盘式摩擦磨损试验机对复合薄膜在真空和潮湿空气环境中的摩擦磨损性能进行研究.结果表明:溅射沉积制备的W S2/Ag复合薄膜为非晶态结构,弥散分布于W S2基体中的晶态纳米Ag相提高了薄膜与基底的界面结合强度;与纯W S2薄膜相比,W S2/Ag纳米复合薄膜虽然在不同环境中的摩擦系数有所增加,但其在潮湿空气中的耐磨性能(磨损寿命)具有较大幅度的提高,且摩擦状态更稳定. 展开更多
关键词 ws2/Ag纳米复合薄膜 磁控溅射 摩擦磨损性能 环境
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磁控溅射MoS_2/WS_2复合薄膜的工艺与摩擦学性能研究 被引量:8
9
作者 孙建 李长生 +3 位作者 金岚 唐华 张叶 李学超 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期398-402,共5页
采用MoS2/WS2复合靶材在不锈钢和硅基片上溅射MoS2/WS2纳米薄膜,通过多次实验,得到溅射MoS2/WS2薄膜的最佳工艺如下:溅射气压4.0Pa,靶基距为70mm,溅射功率为150W,溅射时间为3h。使用X-射线衍射仪,能谱仪,扫描电子显微镜对薄膜的成分和... 采用MoS2/WS2复合靶材在不锈钢和硅基片上溅射MoS2/WS2纳米薄膜,通过多次实验,得到溅射MoS2/WS2薄膜的最佳工艺如下:溅射气压4.0Pa,靶基距为70mm,溅射功率为150W,溅射时间为3h。使用X-射线衍射仪,能谱仪,扫描电子显微镜对薄膜的成分和结构进行分析。采用HH-3000薄膜结合强度划痕试验仪,纳米压痕测试系统,UNT-3摩擦磨损试验机对薄膜进行机械性能和摩擦磨损性能分析,结果表明:在大气环境中,WS2/MoS2复合薄膜摩擦性能要优于纯MoS2薄膜。 展开更多
关键词 MoS2/ws2复合薄膜磁控溅射摩擦学性能
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类石墨烯二硫化钨薄膜的化学气相沉积法制备及其应用 被引量:5
10
作者 尤运城 曾甜 +2 位作者 刘劲松 胡廷松 台国安 《化学进展》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2015年第11期1578-1590,共13页
类石墨烯过渡金属硫属化合物如Mo S2、WS2、Mo Se2、WSe2等因为具有层数依赖的带隙结构而受到了广泛关注。尤其是本征态的WS2为双极性半导体,它同时具有n型和p型电输运特性,有望在电子电路、存储器件、光电探测和光伏器件方面得以广泛... 类石墨烯过渡金属硫属化合物如Mo S2、WS2、Mo Se2、WSe2等因为具有层数依赖的带隙结构而受到了广泛关注。尤其是本征态的WS2为双极性半导体,它同时具有n型和p型电输运特性,有望在电子电路、存储器件、光电探测和光伏器件方面得以广泛应用。近年来,化学气相沉积技术已经被广泛用于制备大面积二维硫属化合物(如Mo S2,Mo Se2,WS2和WSe2)原子层薄膜。目前关于其他二维材料体系的综述文献介绍较多,但是针对WS2介绍的综述文献还鲜有报道。因此,本文综述了类石墨烯WS2薄膜的化学气相沉积法制备和相关器件的国内外研究进展,讨论了WS2薄膜的化学气相沉积法制备机理及生长因素如硫粉含量、载气的成分、反应温度、基底材料等对薄膜成膜质量的影响,介绍了WS2薄膜在晶体管、光电器件及与其他二维材料构成的异质结构器件的最新研究成果,并对可能存在的问题进行了分析和述评。 展开更多
关键词 ws2薄膜 化学气相沉积法 晶体管 异质结构 光电器件
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沉积压力对磁控溅射La-Ti/WS2复合薄膜结构和摩擦学性能的影响 被引量:3
11
作者 蔡海潮 薛玉君 +2 位作者 王景华 叶军 贺江涛 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第7期168-174,183,共8页
目的研究不同沉积压力对磁控溅射La-Ti/WS_2复合薄膜微观结构及摩擦学性能的影响。方法采用非平衡射频磁控溅射法制备WS_2薄膜和La-Ti/WS_2复合薄膜。利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜微观形貌、成分和晶向结构进行表征。用... 目的研究不同沉积压力对磁控溅射La-Ti/WS_2复合薄膜微观结构及摩擦学性能的影响。方法采用非平衡射频磁控溅射法制备WS_2薄膜和La-Ti/WS_2复合薄膜。利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜微观形貌、成分和晶向结构进行表征。用纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和白光干涉三维形貌仪测试薄膜的力学性能和摩擦磨损性能。结果掺杂La和Ti可以改善WS_2复合薄膜的微观结构。在给定的沉积压力下,La-Ti/WS_2复合薄膜均呈岛状生长模式,组织均匀,且排列较为紧凑,结构致密性好。随着沉积压力的增大,WS_2(002)衍射峰向高θ值偏移,晶面间距减小,晶格发生收缩。复合薄膜的硬度和弹性模量随着沉积压力的增大,先增大后减小。沉积压力为1.2 Pa时,La-Ti/WS_2复合薄膜的摩擦系数低至0.07左右,磨损率低至2.45×10^(–8) mm^3/(N·m)。结论沉积压力对La-Ti/WS_2复合薄膜的性能有较大影响,合适的沉积压力可以提升La-Ti/WS_2复合薄膜的摩擦磨损性能。 展开更多
关键词 沉积压力 磁控溅射 La-Ti/ws2复合薄膜 摩擦系数 磨损
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二维WS2薄膜的制备及光电特性 被引量:1
12
作者 丁馨 徐铖 +2 位作者 许珂 朱静怡 马锡英 《微纳电子技术》 北大核心 2020年第5期366-371,共6页
以硫化钨(WS2)水溶液为原料、氩气为携载气体、利用化学气相沉积(CVD)法在硅衬底上制备了二维WS2薄膜,并研究了其形貌、晶体结构、光吸收特性及光电特性等。发现利用该方法生长的WS2薄膜非常光滑均匀,并具有良好的结晶性。另外,发现WS2... 以硫化钨(WS2)水溶液为原料、氩气为携载气体、利用化学气相沉积(CVD)法在硅衬底上制备了二维WS2薄膜,并研究了其形貌、晶体结构、光吸收特性及光电特性等。发现利用该方法生长的WS2薄膜非常光滑均匀,并具有良好的结晶性。另外,发现WS2薄膜不仅在466 nm处有很强的蓝光发射,还在617和725 nm处有显著的红光发射,前者可能是由于量子尺寸效应引起的分立能级的发光,后者则分别对应WS2单层和多层的本征发射。最后,研究了WS2/Si异质结的光电效应和温度效应,发现随照射光功率或温度的增加,异质结的电流显著增大,说明WS2/Si异质结对光照和温度非常敏感,可用于制备太阳电池和光探测器等新型光电子器件。 展开更多
关键词 硫化钨(ws2)薄膜 化学气相沉积(CVD)法 ws2/Si异质结 光电特性 温度效应
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磁控溅射WS_2薄膜的制备工艺及其性能 被引量:2
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作者 宋玉波 代明江 +3 位作者 余志明 韦春贝 侯惠君 肖晓玲 《真空》 CAS 北大核心 2011年第2期25-27,共3页
采用孪生中频磁控溅射的方法在低温条件下制备了WS2薄膜,利用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDX)、显微硬度仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机对薄膜的物相结构、微观形貌以及摩擦学性能进行了研究。结果表明:所制备... 采用孪生中频磁控溅射的方法在低温条件下制备了WS2薄膜,利用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDX)、显微硬度仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机对薄膜的物相结构、微观形貌以及摩擦学性能进行了研究。结果表明:所制备的WS2薄膜呈现出明显的(002)晶面择优生长,S/W原子比1.52,在大气环境中摩擦系数可低于0.01,载荷与转速对薄膜的摩擦系数影响显著,在一定范围内加大载荷和提高转速都会增大其摩擦系数。 展开更多
关键词 ws2薄膜 中频磁控溅射 低温 摩擦系数
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润滑相粒度对Ag-WS2复合材料摩擦磨损行为的影响
14
作者 李云 孙阳 +2 位作者 康潇 张雷 周科朝 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第11期3064-3071,共8页
采用放电等离子烧结技术制备WS2粒度分别为80 nm,600 nm和6μm的Ag-WS2固体润滑复合材料,研究WS2粒度对复合材料摩擦磨损行为的影响,并对Ag-WS2复合材料磨损表面微观形貌进行分析。研究结果表明:随着WS2粒度由6μm降低至80 nm,Ag-WS2复... 采用放电等离子烧结技术制备WS2粒度分别为80 nm,600 nm和6μm的Ag-WS2固体润滑复合材料,研究WS2粒度对复合材料摩擦磨损行为的影响,并对Ag-WS2复合材料磨损表面微观形貌进行分析。研究结果表明:随着WS2粒度由6μm降低至80 nm,Ag-WS2复合材料的摩擦因数从0.21降低到0.09,磨损率由4.68×10^−5 mm3/(N·m)降低到3.35×10^−5 mm^3/(N·m),Ag-WS2复合材料磨损机制由磨粒磨损和疲劳磨损共同作用转变为轻微的磨粒磨损;WS2粒度显著影响界面润滑膜的形成,粒度越小的WS2越容易填充到磨损表面的沟槽或微凸体的间隙结构中,有助于形成连续、平整的润滑膜,从而显著降低Ag-WS2复合材料的摩擦因数和磨损率。 展开更多
关键词 Ag-ws2复合材料 润滑相粒度 润滑膜 摩擦磨损
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硫粉气化温度对制备WS2薄膜的影响
15
作者 陶雪华 夏述平 +2 位作者 崔宇 邱云帆 熊礼威 《武汉工程大学学报》 CAS 2021年第2期187-191,共5页
采用熔融盐辅助化学气相沉积(CVD)法在蓝宝石(Al_2O_3)衬底上制备WS_2薄膜,改变硫粉的气化温度(750~800℃),探寻其对WS_2薄膜生长的影响,为制备出大面积WS_2薄膜提供理论依据。采用光学显微镜、扫描电子显微镜(SEM)和拉曼(Raman)光谱对W... 采用熔融盐辅助化学气相沉积(CVD)法在蓝宝石(Al_2O_3)衬底上制备WS_2薄膜,改变硫粉的气化温度(750~800℃),探寻其对WS_2薄膜生长的影响,为制备出大面积WS_2薄膜提供理论依据。采用光学显微镜、扫描电子显微镜(SEM)和拉曼(Raman)光谱对WS_2薄膜的形貌、结晶性和厚度进行分析。800℃时,WS_2薄膜平均边长可达310μm,Raman特征峰的波数差为64.60 cm~(-1)(单层)。随着硫粉气化温度的升高,WS_2薄膜的生长经历了形貌及尺寸的转变,这表明在沉积过程中,硫粉引入时机对WS_2薄膜的形核、生长至关重要,适当的气化温度可以制备出尺寸较大、结晶性能良好的WS_2薄膜。 展开更多
关键词 ws_2薄膜 表面形貌 熔融盐 化学气相沉积 气化温度
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限制空间法制备大尺寸单层二硫化钨薄膜
16
作者 张秀梅 肖少庆 +2 位作者 史丽弘 南海燕 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期1254-1260,共7页
采用一种限制空间的化学气相沉积方法,在整个SiO_2(300 nm)/Si衬底上制备出了大面积、大尺寸、高质量的单层WS_2薄膜,薄膜尺寸随生长时间可控,最大尺寸可达500μm。利用光镜、原子力显微镜(AFM)、荧光、拉曼以及XPS等手段对所得的单层W... 采用一种限制空间的化学气相沉积方法,在整个SiO_2(300 nm)/Si衬底上制备出了大面积、大尺寸、高质量的单层WS_2薄膜,薄膜尺寸随生长时间可控,最大尺寸可达500μm。利用光镜、原子力显微镜(AFM)、荧光、拉曼以及XPS等手段对所得的单层WS_2样品进行了表征。结果表明:限制空间方法可以很好地对两种源粉的比例进行调控,制备的单层WS_2薄膜样品以三角形为主导,有着清洁的表面、均匀的荧光和拉曼强度分布,以及较高的单晶质量。限制空间化学气相沉积方法操作简单,可控性与可重复性高,可以为其他过渡金属硫属化合物单层薄膜材料的大面积、大尺寸、高质量生长提供借鉴。 展开更多
关键词 限制空间 单层ws2薄膜 CVD 大尺寸
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WS_(2)和h-BN纳米添加剂对半流体锂基润滑脂极压抗磨性能影响研究 被引量:3
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作者 关强 张绪伟 +6 位作者 何娇 李征 魏云玲 任付娥 龚楠 丁昊昊 王文健 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第8期233-242,共10页
目的探究片层状的二硫化钨(WS_(2))和六方氮化硼(h-BN)纳米添加剂对00#锂基润滑脂极压性能和抗磨性能的影响,对比2种纳米材料润滑性能的差异。方法分别配制出含WS_(2)和h-BN纳米添加剂的00#半流体锂基润滑脂,对润滑脂的滴点以及锥入度... 目的探究片层状的二硫化钨(WS_(2))和六方氮化硼(h-BN)纳米添加剂对00#锂基润滑脂极压性能和抗磨性能的影响,对比2种纳米材料润滑性能的差异。方法分别配制出含WS_(2)和h-BN纳米添加剂的00#半流体锂基润滑脂,对润滑脂的滴点以及锥入度理化指标进行了测定,然后使用MRS10A四球磨损试验机对润滑脂的极压抗磨性能进行考察。通过扫描电子显微镜(SEM)和光学显微镜(OM)观察磨斑磨损的形貌特征,并使用光电子能谱仪(XPS)对磨斑表面的元素进行检测与分析,探讨WS_(2)和h-BN纳米添加剂的作用机理。结果与基础脂相比,含WS_(2)纳米添加剂的润滑脂在质量分数为0.5%时摩擦因数最大可降低12.7%,磨斑直径可降低10.5%;含h-BN纳米添加剂的润滑脂在质量分数为0.25%时摩擦因数降低了4.2%,在质量分数为0.5%时磨斑直径最大降低22.1%;2种纳米添加剂的加入均使润滑脂的最大无卡咬负荷提高了40.0%。通过SEM和OM观察的形貌及轮廓特征可以看出,WS_(2)与h-BN纳米添加剂可以有效地改善磨斑表面质量,降低磨斑表面粗糙度,对磨损表面起到一定的修复作用。XPS元素结果分析显示,WS_(2)纳米添加剂在摩擦表面会发生摩擦化学反应生成Fe_(2)O_(3)、FeO和FeS_(2)等反应薄膜,而在h-BN磨斑表面则主要会反应生成B_(2)O_(3)、Fe_(2)O_(3)、FeO等反应膜。摩擦反应膜的生成可以起到提高润滑脂极压抗磨性能的作用,而粒子片层间发生滑移时剪切作用力相对较低则是纳米添加剂可以起到降低摩擦因数的主要原因。以WS_(2)和h-BN纳米添加剂复配的铁路机车牵引齿轮脂按Q/CR762-2020《铁路机车牵引齿轮脂》技术指标进行理化性能检测,测定结果完全满足该标准。结论WS_(2)和h-BN都具有明显改善润滑脂润滑性能的作用,WS_(2)对降低摩擦因数的作用好于h-BN,但h-BN可以更好地降低磨损量,两者都可以有效提高润滑脂的极压性能。 展开更多
关键词 ws2 H-BN 纳米添加剂 抗磨性 极压性 反应膜
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模拟空间原子氧辐照下X射线光电子能谱仪的原位表征功能开发
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作者 刘建 剡珍 +1 位作者 郝俊英 刘维民 《分析测试技术与仪器》 CAS 2023年第1期37-42,共6页
对现有的X射线光电子能谱仪进行功能开发,在不改变仪器工作原理、不影响现有功能的前提下,将研制的空间交变温度原子氧辐照装置集成到其快速进样室,重点解决集群结构的匹配和性能兼容问题,实现模拟空间交变温度原子氧辐照环境下材料的... 对现有的X射线光电子能谱仪进行功能开发,在不改变仪器工作原理、不影响现有功能的前提下,将研制的空间交变温度原子氧辐照装置集成到其快速进样室,重点解决集群结构的匹配和性能兼容问题,实现模拟空间交变温度原子氧辐照环境下材料的原位表征功能.采用Kapton膜的质量损失方法测试空间交变温度原子氧辐照装置的原子氧通量密度,氧气流量、偏压和微波电流均对原子氧通量密度有较大影响.系统测试表明,原子氧辐照使WS 2薄膜表面发生了严重氧化,影响了薄膜的化学组成.不同温度原子氧辐照导致了不可忽略的化学组成与结构的差异. 展开更多
关键词 X射线光电子能谱仪 原子氧辐照 温度交变 原位表征 ws_(2)薄膜
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磁控溅射不同元素掺杂WS_(2)薄膜的组织和纳米压痕力学性能 被引量:3
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作者 贺江涛 蔡海潮 +2 位作者 薛玉君 杨芳 马喜强 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第12期24-28,36,共6页
采用磁控溅射法在不同沉积压力(0.8,1.2Pa)下分别制备WS_(2)薄膜、Ti/WS_(2)复合薄膜和La-Ti/WS_(2)复合薄膜,研究了薄膜的组织结构和纳米压痕力学性能。结果表明:WS_(2)薄膜呈疏松多孔结构,晶粒粗大,孔洞较多,组织致密性差;与WS_(2)薄... 采用磁控溅射法在不同沉积压力(0.8,1.2Pa)下分别制备WS_(2)薄膜、Ti/WS_(2)复合薄膜和La-Ti/WS_(2)复合薄膜,研究了薄膜的组织结构和纳米压痕力学性能。结果表明:WS_(2)薄膜呈疏松多孔结构,晶粒粗大,孔洞较多,组织致密性差;与WS_(2)薄膜相比,Ti/WS_(2)复合薄膜的晶粒尺寸减小,组织变得致密,掺杂镧后薄膜的晶粒尺寸进一步减小,组织更致密;镧的掺杂还降低了薄膜中硫与钨的原子比,增加了硬质钨相的相对含量,提高了薄膜的硬度和变形抗力。 展开更多
关键词 磁控溅射 ws_(2)薄膜 镧掺杂 晶粒尺寸 纳米压痕力学性能
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射频溅射MoS_2、WS固体润滑膜在脂润滑下的摩擦学特性
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作者 罗虹 刘家浚 +1 位作者 朱宝亮 刘芬 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 1995年第1期44-49,共6页
用球-盘试验机研究了射频溅射MoS2,WS2固体润滑膜在脂润滑下的摩擦学特性,并用XPS,SEM和EDX等方法进行了分析.结果指出,在锂基脂润滑下,表面溅射MOS2薄膜后摩擦系数降低,擦伤载荷成几倍或几十倍增长,尤其... 用球-盘试验机研究了射频溅射MoS2,WS2固体润滑膜在脂润滑下的摩擦学特性,并用XPS,SEM和EDX等方法进行了分析.结果指出,在锂基脂润滑下,表面溅射MOS2薄膜后摩擦系数降低,擦伤载荷成几倍或几十倍增长,尤其在高滑动速度下效果更加明显,可在一定载荷范围内代替2#主轴油进行润滑,摩擦中MOS2膜表层组织很容易剥落,摩擦中与基体结合较牢的主要是表面下的有效膜厚。因而在本试验条件下两种厚度MOS2膜的摩擦学性能基本无差别,溅射WS2膜中含氧量很高,且在整个膜层中均以WO3存在,因此减摩效果不理想。 展开更多
关键词 MoS_2 ws_2 射频溅射 润滑脂 摩擦系数
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