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溶液中阴离子对UV/H_2O_2降解4-硝基酚的影响 被引量:21
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作者 张文兵 肖贤明 +2 位作者 傅家谟 盛国英 崔明超 《中国环境科学》 EI CAS CSSCI CSCD 北大核心 2002年第4期301-304,共4页
利用间歇式光反应器,研究了溶液中阴离子HCO3-、Cl-、及NO3-对UV/H2O2氧化4-硝基酚的影响.结果表明,UV/H2O2能有效地除去水溶液中4-硝基酚及TOC.随着HCO3-、Cl-及NO3-浓度的增加,4-硝基酚氧化速率减少.溶液中阴离子对UV/H2O2体系中主要... 利用间歇式光反应器,研究了溶液中阴离子HCO3-、Cl-、及NO3-对UV/H2O2氧化4-硝基酚的影响.结果表明,UV/H2O2能有效地除去水溶液中4-硝基酚及TOC.随着HCO3-、Cl-及NO3-浓度的增加,4-硝基酚氧化速率减少.溶液中阴离子对UV/H2O2体系中主要氧化剂OH自由基的清除作用是4-硝基酚降解速率下降的原因.利用一级反应动力学对4-硝基酚的降解进行了拟合,得到了满意的结果. 展开更多
关键词 溶液 阴离子 4-硝基酚 uv/h2o2技术 高级氧化 废水处理
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UV/H_2O_2降解水中硝基酚及影响因素 被引量:16
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作者 张文兵 肖贤明 +2 位作者 傅家谟 盛国英 刘光汉 《环境科学研究》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期9-11,15,共4页
UV H2 O2 氧化对硝基酚实验表明 ,H2 O2 光解产生·OH自由基是对硝基酚降解的直接原因 ,12min内 2 5mg L的对硝基酚去除率达到98%以上。溶液中TOC变化与对硝基酚的去除并不同步 ,说明对硝基酚的降解中生成了一系列的中间产物 ,然后... UV H2 O2 氧化对硝基酚实验表明 ,H2 O2 光解产生·OH自由基是对硝基酚降解的直接原因 ,12min内 2 5mg L的对硝基酚去除率达到98%以上。溶液中TOC变化与对硝基酚的去除并不同步 ,说明对硝基酚的降解中生成了一系列的中间产物 ,然后再达到完全矿化的。体系中H2 O2 浓度变化显示产生的中间产物对H2 O2 光解没有明显影响。研究中还对对硝基酚起始质量浓度、H2 O2 浓度及pH影响进行了考察。研究认为UV H2 O2 展开更多
关键词 uv/h2o2技术 对硝基酚 降解 废水处理 高级氧化技术 脱毒
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UV/H_2O_2法对印染废水生化出水中不同种类有机物的去除效果 被引量:22
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作者 李新 刘勇弟 +4 位作者 孙贤波 徐宏勇 钱飞跃 李欣珏 李暮 《环境科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期2728-2734,共7页
采用UV/H2O2高级氧化法对印染废水生化出水的处理进行研究,探讨了不同反应时间、H2O2投加量、反应初始pH值等因素对UV254,ADMI7.6、DOC和COD去除效果的影响.结果表明,以UV254、ADMI7.6、DOC和COD的去除率为筛选依据,确定出最佳参数组合... 采用UV/H2O2高级氧化法对印染废水生化出水的处理进行研究,探讨了不同反应时间、H2O2投加量、反应初始pH值等因素对UV254,ADMI7.6、DOC和COD去除效果的影响.结果表明,以UV254、ADMI7.6、DOC和COD的去除率为筛选依据,确定出最佳参数组合为:反应初始pH值为原水pH 7.4~8.1,H2O2投加量为4.5 mmol.L-1,紫外光照射时间为50 min,在最佳处理条件下,UV254、ADMI7.6、DOC和COD的去除率分别达到77%、94%、40%和69%.通过XAD-8/XAD-4吸附树脂联用技术将印染废水生化出水中溶解性有机物分为疏水酸、非酸疏水物质、弱疏水物质及亲水物质4类有机物,研究了UV/H2O2氧化工艺对生化出水中各种有机物及色度的去除效果.实验结果表明,对于该印染废水的生化出水,疏水性物质是引起色度的主要物质,所占比例以ADMI7.6表征时为92%,其中以非酸疏水物质的贡献最大,达到53%.UV/H2O2高级氧化法处理此水样中的弱疏水性有机物、疏水酸和非酸疏水物质均有较好的处理效果,对亲水性有机物的处理效果较差.实验表明,相对分子质量>10 000的大分子有机物对DOC和ADMI7.6的去除贡献较大,对UV254的去除贡献接近一半. 展开更多
关键词 印染废水生化出水 uv/h2o2 高级氧化法 树脂分离 相对分子质量分布
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UV/H_2O_2降解羟苯甲酮反应动力学及影响因素 被引量:22
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作者 冯欣欣 杜尔登 +3 位作者 郭迎庆 李华杰 刘翔 周方 《环境科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期2129-2137,共9页
有机防晒剂随着日常使用不断进入环境中,成为一类新兴污染物.考察了UV/H2O2工艺对典型有机防晒剂羟苯甲酮(BP-3)的水相光化学降解特征,并对BP-3降解反应的影响因素包括初始BP-3浓度、H2O2浓度、UV光强、共存阳离子和阴离子、叔丁醇和腐... 有机防晒剂随着日常使用不断进入环境中,成为一类新兴污染物.考察了UV/H2O2工艺对典型有机防晒剂羟苯甲酮(BP-3)的水相光化学降解特征,并对BP-3降解反应的影响因素包括初始BP-3浓度、H2O2浓度、UV光强、共存阳离子和阴离子、叔丁醇和腐殖酸投加量等进行了研究.结果表明,BP-3的降解速率常数随初始BP-3浓度升高而降低,随着H2O2浓度增大而增高,随着UV光强增强而增大;阴离子会在一定程度上降低反应速率,阳离子中Fe3+会产生类芬顿反应,促进生成·OH,对降解反应有显著的促进作用,投加叔丁醇和腐殖酸皆会抑制降解反应进行.采用每一对数减小级电能输入(EEo)指标对UV/H2O2工艺的电能利用效率进行了评价,Fe3+的加入显著减小了EEo.研究不同因素对UV/H2O2工艺降解效果的影响,可对实际工程中采用UV/H2O2去除苯甲酮类有机防晒剂提供参考. 展开更多
关键词 羟苯甲酮 uv/h2o2 有机防晒剂 去除率 降解速率常数
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UV/H_2O_2光化降解水中邻二氯苯的反应机理 被引量:17
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作者 徐涛 肖贤明 刘红英 《中国环境科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期547-551,共5页
通过UV/H2O2光化高级氧化法,对水中邻二氯苯的降解途径及机理,降解反应的影响参数进行了系统的研究.结果表明,光化降解邻二氯苯的反应迅速,弱酸性或中性环境较有利于降解反应的进行,H2O2的投入量在特定的条件下具有一个最佳值.采用离子... 通过UV/H2O2光化高级氧化法,对水中邻二氯苯的降解途径及机理,降解反应的影响参数进行了系统的研究.结果表明,光化降解邻二氯苯的反应迅速,弱酸性或中性环境较有利于降解反应的进行,H2O2的投入量在特定的条件下具有一个最佳值.采用离子色谱(IC)、GC/MS等方法鉴定出邻二氯苯降解的中间产物主要为2,3-二氯苯酚、3,4-二氯苯酚、2-氯苯酚、甲酸、乙酸、乙二酸等.依此推导出了邻二氯苯的UV/H2O2光化降解的途径和机理. 展开更多
关键词 uv/h2o2技术 催化降解 邻二氯苯 反应机理
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UV-H_2O_2工艺对焦化废水中氰化物深度处理研究 被引量:3
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作者 黄思远 孙贤波 +2 位作者 钱飞跃 毕凌威 陈波 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2014年第12期54-56,共3页
在新颁布的《炼焦化学工业污染物排放标准》(GB 16171—2012)中,总氰化物的排放限值降至0.2 mg/L,这使得传统除氰工艺已无法满足处理要求。以某焦化厂经生化、混凝处理后的出水为研究对象,探究了UV-H2O2工艺用于深度除氰的可行性。实验... 在新颁布的《炼焦化学工业污染物排放标准》(GB 16171—2012)中,总氰化物的排放限值降至0.2 mg/L,这使得传统除氰工艺已无法满足处理要求。以某焦化厂经生化、混凝处理后的出水为研究对象,探究了UV-H2O2工艺用于深度除氰的可行性。实验结果表明:在p H=10、n(H2O2)∶n(CN)=250∶1的条件下,UV-H2O2工艺处理30 min后总氰去除率可达80%,出水总氰(<0.18 mg/L)满足新标准要求。 展开更多
关键词 焦化废水 uv-h2o2工艺 总氰
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Photolysis pathway of nitroaromatic compounds in aqueous solutions in the UV/H_2O_2 process 被引量:2
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作者 GOH Ngoh Khang 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第6期1061-1064,共4页
Nitroaromatic compounds such as nitrobenzene and nitrophenols are largely synthesised and particularly often occur in water bodies as toxic pollutants. The degradation of these compounds in the environment via direct ... Nitroaromatic compounds such as nitrobenzene and nitrophenols are largely synthesised and particularly often occur in water bodies as toxic pollutants. The degradation of these compounds in the environment via direct photolysis and by biological treatment is difficult and usually slow. In our two previous published papers, we have discussed the advanced oxidation of nitrobenzene and nitrophenols in aqueous solutions irradiated by direct photolysis using polychromatic light and by means of UV/H2O2 process. The experimental results suggested the UV/H2O2 process is an effective and efficient technology for complete mineralization of these organic compounds. Based on the results therein, comprehensive reaction mechanism for nitrobenzene photolysis was proposed with detailed discussions. 展开更多
关键词 PhoToLYSIS PAThWAY NITRoBENZENE NITRoPhENoLS uv/h2o2 process
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Photodegradation of nitroaromatic compounds in aqueous solutions in the UV/H_2O_2 process 被引量:1
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作者 GOH Ngoh Khang 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第6期886-893,共8页
Photodegradation of nitrobenzene and nitrophenols in aqueous solutions by means of UV/H2 O2 process was studied in the Rayox batch reactors. Three nitrophenol isomers were identified as main photoproducts in the irrad... Photodegradation of nitrobenzene and nitrophenols in aqueous solutions by means of UV/H2 O2 process was studied in the Rayox batch reactors. Three nitrophenol isomers were identified as main photoproducts in the irradiated NB aqueous solutions. The distribution of nitrophenol isomers follows the order p-〉 m-〉 o-nitrophenol. Other intermediates detected include nitrohydroquinone, nitrocatechol, catechol, benzoquinone, phenol, nitrate/nitrite ions, formic acid, glyoxylic acid, maleic acid, oxalic acid and some aliphatic ketones and aldehydes. The degradation of nitrobenzene and nitrophenols at initial stages follows the first-order kinetics and the decay rate constants for nitrobenzene(NB) are around l0^-3-10^-2 s^-1 and for nitrophenols are around 10^-2 s^-1. The decomposition of H2 O2 in the presence of NB and each nitrophenol isomers follows zero-order kinetics. The quantum yields at initial stages for NB decay were estimated around 0.30 to 0.36, and for NPs decay is around 0.31-0.54. 展开更多
关键词 PhoToDEGRADATIoN NITRoBENZENE NITRoPhENoLS uv/h2 o2 process
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Influence of coexisting substances on the photodegradation behaviors of 17α-ethinylestradiol (EE_2) in the UV/H_2O_2 process 被引量:1
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作者 张照韩 冯玉杰 +2 位作者 王鲁 刘雨 任南琪 《Journal of Harbin Institute of Technology(New Series)》 EI CAS 2011年第5期31-36,共6页
The batch photodegradation reactor was used to investigate the influence of the common coexisting substances in wastewater,such as H+,anions (HCO3-,Cl-and NO3-) and organic compounds (methanol and bisphenol A),on the ... The batch photodegradation reactor was used to investigate the influence of the common coexisting substances in wastewater,such as H+,anions (HCO3-,Cl-and NO3-) and organic compounds (methanol and bisphenol A),on the photodegradation behaviors of EE2 in the UV/H2O2 process.The results indicated that the addition of coexisting substances can influence the photodegradation behaviors of EE2 and it also follows the first-order kinetics.The acidic (pH 2-4) and alkaline (pH 10-12) medium benefit the photodegradation of EE2,but the photodegradation rate constant of EE2 keeps almost constant in the pH value of 4-10.The addition of anions,such as HCO3-,Cl-and NO3-,can inhibit the photodegradation of EE2,and the rate constant has a negative linear relationship with the concentration of the anions.However,the reduction degrees vary with the anions kinds,and the inhibition effect of the three anions is in the order of HCO3->NO3->Cl-.Addition of 5 mg/L methanol and bisphenol A can reduce the photodegradation rate constant of EE2by 84.31% and 72%,respectively.By comparison,the retardant effect of methanol is much more evident.In the studied concentrations range,the photodegradation rate constant of EE2 is the unary quadratic function of the organic compounds concentrations. 展开更多
关键词 EE2 ANIoNS Coexisting organic compounds uv/h2o2 process Photodegradation rate constant
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UV/H_2O_2法深度处理焦化废水的研究 被引量:1
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作者 安冉 宋秀兰 《中北大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2016年第3期296-303,共8页
焦化厂生物和混凝处理出水中残留的有机物制约了其安全排放,故有必要研究其深度处理技术.以某焦化废水处理厂尾水为研究对象,用UV/H_2O_2法对其进行处理.采用单因素和正交实验的方法考察了光源距离、H_2O_2浓度、pH值和温度对色度、TOC... 焦化厂生物和混凝处理出水中残留的有机物制约了其安全排放,故有必要研究其深度处理技术.以某焦化废水处理厂尾水为研究对象,用UV/H_2O_2法对其进行处理.采用单因素和正交实验的方法考察了光源距离、H_2O_2浓度、pH值和温度对色度、TOC和UV254去除率的影响.正交实验结果表明,对TOC去除率影响顺序为光源距离>温度>pH>H_2O_2浓度.两种方法确定的最佳条件一致,即距光源距离为4cm、H_2O_2浓度为24mmol/L,温度40℃,pH为5,光照反应时间为2h,TOC、色度和UV_(254)去除率分别为68.76%,97.76%和96.84%.TOC降解符合一级反应动力学.经UV/H_2O_2处理后,焦化废水尾水中一些难以生物降解的有机物得到了部分或完全去除. 展开更多
关键词 焦化废水 uv/h2o2 残留有机物
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UV/H_2O_2工艺处理污水厂尾水CDOM的三维荧光分析 被引量:1
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作者 杜尔登 王聿琳 +3 位作者 樊鑫鑫 王晓艳 李静 王利平 《常州大学学报(自然科学版)》 CAS 2018年第6期53-58,共6页
使用UV/H_2O_2工艺深度处理污水厂尾水,评估对水中有色可溶性有机物(CDOM)的去除效果。基于三维荧光光谱组合平行因子分析,提取出3个有效荧光组分,分别代表C1(色氨酸类蛋白)、C2(类腐殖酸)和C3(酪氨酸类蛋白)。UV/H_2O_2工艺能有效去除C... 使用UV/H_2O_2工艺深度处理污水厂尾水,评估对水中有色可溶性有机物(CDOM)的去除效果。基于三维荧光光谱组合平行因子分析,提取出3个有效荧光组分,分别代表C1(色氨酸类蛋白)、C2(类腐殖酸)和C3(酪氨酸类蛋白)。UV/H_2O_2工艺能有效去除CDOM荧光组分,使用响应面分析对反应条件进行优化,优化后最佳反应条件为:H_2O_2投加量1.2mg/L、紫外光强7.1mW/cm2、反应时间43min,荧光组分C1预测和实际去除率分别为94.2%和91.8%,说明响应面能够有效描述UV/H_2O_2工艺降解反应过程,优化降解反应条件,为UV/H_2O_2氧化工艺工程应用提供技术参考。 展开更多
关键词 uv/h2o2工艺 CDoM 荧光光谱 平行因子分析
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UV+H_2O_2法预处理含酚废水实验研究 被引量:1
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作者 司亚康 刘艳娟 +1 位作者 韩永艳 师梦闪 《山东化工》 CAS 2018年第9期169-171,共3页
采用UV+H_2O_2法预处理含酚废水,利用单因素实验与正交实验确定了废水处理最佳工艺条件,结果表明,在反应时间180min,pH值6,H_2O_2浓度50 mmol/L条件下,含酚废水的COD去除率可达到48.4%,该方法具有投资成本低,去除效果好、经济适用等优点。
关键词 uv+h2o2方法 含酚废水 CoD去除率 正交实验
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DBP formation from degradation of DEET and ibuprofen by UV/chlorine process and subsequent post-chlorination 被引量:3
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作者 Ehsan Aghdam Yingying Xiang +3 位作者 Jianliang Sun Chii Shang Xin Yang Jingyun Fang 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第8期146-154,共9页
The formation of disinfection by-products(DBPs) from the degradation of N,N-diethyl-3-methyl benzoyl amide(DEET) and ibuprofen(IBP) by the ultraviolet irradiation(UV)/chlorine process and subsequent post-chlor... The formation of disinfection by-products(DBPs) from the degradation of N,N-diethyl-3-methyl benzoyl amide(DEET) and ibuprofen(IBP) by the ultraviolet irradiation(UV)/chlorine process and subsequent post-chlorination was investigated and compared with the UV/H_2O_2 process.The pseudo first-order rate constants of the degradation of DEET and IBP by the UV/chlorine process were 2 and 3.1 times higher than those by the UV/H_2O_2 process, respectively, under the tested conditions. This was due to the significant contributions of both reactive chlorine species U(RCS) and hydroxyl radicals(HO) in the UV/chlorine process. Trichloromethane, 1,1,1-trichloro-2-propanone and dichloroacetic acid were the major known DBPs formed after 90% of both DEET and IBP that were degraded by the UV/chlorine process. Their yields increased by over 50%after subsequent 1-day post-chlorination. The detected DBPs after the degradation of DEET and IBP comprised 13.5% and 19.8% of total organic chlorine(TOCl), respectively, and the proportions increased to 19.8% and 33.9% after subsequent chlorination, respectively. In comparison to the UV/H_2O_2 process accompanied with post-chlorination, the formation of DBPs and TOCl in the UV/chlorine process together with post-chlorination was 5%–63% higher,Ulikely due to the generation of more DBP precursors from the attack of RCS, in addition to HO. 展开更多
关键词 Pharmaceuticals and personal care products Disinfection by-products uv/chlorine process uv/h2o2 process Chlorination
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UV/H_2O_2高级氧化法深度去除水中臭味物质 被引量:9
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作者 王昊 《中国给水排水》 CAS CSCD 北大核心 2018年第19期48-51,共4页
针对给水厂传统工艺难以有效处理高藻、高臭味原水的问题,采用中试探究了UV/H_2O_2高级氧化法对土臭素(GSM)和二甲基异冰片(2-MIB)这两种典型臭味物质的去除效能。结果表明,当H_2O_2剂量为6 mg/L、UV功率为2.0 kW、进水流量为2.9 m^3/h... 针对给水厂传统工艺难以有效处理高藻、高臭味原水的问题,采用中试探究了UV/H_2O_2高级氧化法对土臭素(GSM)和二甲基异冰片(2-MIB)这两种典型臭味物质的去除效能。结果表明,当H_2O_2剂量为6 mg/L、UV功率为2.0 kW、进水流量为2.9 m^3/h时,UV/H_2O_2系统对GSM和2-MIB的去除率最高可分别达到99.52%和99.26%,相应浓度均可降至5 ng/L以下,满足《生活饮用水卫生标准》(GB 5749—2006)的要求;另外,对单位耗能参数(E_(Eo))与H_2O_2投加剂量的关系进行拟合,发现该系统在去除水中臭味物质时能耗较低。 展开更多
关键词 uv/h2o2高级氧化法 土臭素 二甲基异冰片 单位耗能参数(EE0)
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移动模块化水处理系统应付水环境突发事件探讨 被引量:1
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作者 任志鹏 《上海环境科学》 CAS 2016年第3期132-133,138,共3页
水环境突发事件后对污染物进行及时处理十分重要。本文介绍了移动式模块化水处理系统(污水处理车)的模块化设计及其应用。指出移动模块化水处理系统针对不同性质的水环境突发事件,可分别或组合采用物理和化学工艺,如紫外高级氧化处理... 水环境突发事件后对污染物进行及时处理十分重要。本文介绍了移动式模块化水处理系统(污水处理车)的模块化设计及其应用。指出移动模块化水处理系统针对不同性质的水环境突发事件,可分别或组合采用物理和化学工艺,如紫外高级氧化处理高浓度废液和有毒有害物质,高效混凝剂和"磁种+混凝剂"提高反应速率和沉降速度,在第一时间进行现场救援。 展开更多
关键词 水环境事件 移动式模块化 污水处理车 紫外高级氧化
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不同光源UV/H_(2)O_(2)工艺降解四环素动力学 被引量:4
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作者 胡晋博 李梦凯 +4 位作者 蔡恒文 严群 连军锋 李文涛 强志民 《环境工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第8期2618-2626,共9页
光源选择对于基于紫外(UV)的高级氧化工艺(UV-AOPs)十分重要。通过细管流光反应系统(MFPS)对比了低压UV(LPUV)汞灯、中压UV(MPUV)汞灯及真空UV/UV(VUV/UV)汞灯3种UV光源下UV/H_(2)O_(2)工艺对四环素(TC)的降解动力学,并建立了降解动力... 光源选择对于基于紫外(UV)的高级氧化工艺(UV-AOPs)十分重要。通过细管流光反应系统(MFPS)对比了低压UV(LPUV)汞灯、中压UV(MPUV)汞灯及真空UV/UV(VUV/UV)汞灯3种UV光源下UV/H_(2)O_(2)工艺对四环素(TC)的降解动力学,并建立了降解动力学模型。结果表明,VUV/UV光源对TC(0.1 mg·L^(-1)和5.0 mg·L^(-1))的光降解速率常数明显大于LPUV与MPUV光源。随着初始投加H_(2)O_(2)浓度的增大,LPUV/H_(2)O_(2)和MPUV/H2O2对TC(0.1 mg·L^(-1)和5.0 mg·L^(-1))的降解速率常数快速增大。然而,VUV/UV/H_(2)O_(2)对低质量浓度TC(0.1 mg·L^(-1))的降解速率常数随H2O2浓度的增大逐渐降低,对高质量浓度TC(5.0 mg·L^(-1))的降解速率常数逐渐增大。实验结果与降解动力学模型模拟相符。在实际UV-AOPs光源选择中,单纯降解动力学对比具有测试结果准确性高、费用低等优势,但存在无法考虑灯效、氧化剂费用等缺点,因此,还应结合中试实验的能耗对比综合考虑。 展开更多
关键词 细管流光反应系统 四环素 uv光源 动力学模型 uv/h_(2)o_(2)工艺
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UV/H_(2)O_(2)工艺对常规砂滤出水中有机物的去除特性
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作者 王永强 李桂芳 +4 位作者 宋武昌 孙韶华 张素珍 李梅 贾瑞宝 《中国给水排水》 CAS CSCD 北大核心 2022年第17期60-66,共7页
针对UV/H_(2)O_(2)水处理过程中有机物特性变化尚不明确等问题,以某水厂(以引黄水库水为原水,采用常规处理工艺)的砂滤出水为处理对象,构建了规模为5 m^(3)/h的UV/H_(2)O_(2)中试系统,长期稳定运行结果显示,H_(2)O_(2)利用率为46%左右,C... 针对UV/H_(2)O_(2)水处理过程中有机物特性变化尚不明确等问题,以某水厂(以引黄水库水为原水,采用常规处理工艺)的砂滤出水为处理对象,构建了规模为5 m^(3)/h的UV/H_(2)O_(2)中试系统,长期稳定运行结果显示,H_(2)O_(2)利用率为46%左右,COD_(Mn)和UV_(254)的平均去除率分别为5.7%和50.3%,当2-甲基异莰醇(2-MIB)加标浓度为110 ng/L时去除率几乎可达100%。对工艺进出水中有机物的分子质量分布、三维荧光光谱、溶解性有机物(DOM)组分、三卤甲烷生成势(THMFPs)进行分析发现,该工艺可将水中的大分子有机物降解为小分子有机物,出水中荧光物质减少、芳香性降低,DOM各组分含量减少、占比改变,THMFPs略有增加。 展开更多
关键词 uv/h_(2)o_(2)工艺 有机物 2-甲基异莰醇(2-MIB) 三卤甲烷生成势
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