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钛阳极磁控溅射钽的工艺研究 被引量:13
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作者 潘建跃 孙凤梅 罗启富 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2004年第10期26-28,共3页
 涂层钛阳极在使用中会因氧化而失效。为了开发新型的涂层钛阳极,进行了磁控溅射钽作钛阳极底层的研究。通过改变溅射功率、氩气压力及溅射时间,对不同工艺条件下沉积的钽膜进行了分析。用XRD分析了溅射层的成分及相结构;通过SEM,AFM...  涂层钛阳极在使用中会因氧化而失效。为了开发新型的涂层钛阳极,进行了磁控溅射钽作钛阳极底层的研究。通过改变溅射功率、氩气压力及溅射时间,对不同工艺条件下沉积的钽膜进行了分析。用XRD分析了溅射层的成分及相结构;通过SEM,AFM观察了钽膜的微观形貌和颗粒尺寸;用拉开法测定了钽膜的附着力。综合分析了影响钽膜质量的因素,推荐磁控溅射3~4μm钽膜的优化工艺为:功率100~130W,氩气压力0.1~0.3Pa,溅射时间45~50min。钽膜作为底层可提高二氧化铅阳极的使用寿命40倍以上。 展开更多
关键词 磁控溅射 钽膜 涂层钛阳极 工艺
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非平衡磁控溅射沉积Ta-N薄膜的结构与电学性能研究 被引量:11
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作者 杨文茂 张琦 +2 位作者 陶涛 冷永祥 黄楠 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1593-1595,1602,共4页
采用直流反应非平衡磁控溅射技术在单晶Si(100)和玻璃表面沉积氮化钽(Ta-N)薄膜。分别测试了薄膜的结构、成分、电阻率和吸收光谱,研究了氯氩流量比(N2:Ar)变化对Ta—N薄膜的结构和电学性能的影响。研究结果表明随N2:Ar增加,... 采用直流反应非平衡磁控溅射技术在单晶Si(100)和玻璃表面沉积氮化钽(Ta-N)薄膜。分别测试了薄膜的结构、成分、电阻率和吸收光谱,研究了氯氩流量比(N2:Ar)变化对Ta—N薄膜的结构和电学性能的影响。研究结果表明随N2:Ar增加,依次生成六方结构的γ-Ta2N、面心立方结构(fcc)的δ-TaNx体心四方结构(bct)的TaNx;N2:Ar在0.2~0.8的范围内,Ta—N薄膜中只存在着fcc δ-TaNx;当N2:Ar〉1之后,Ta—N薄膜中fCC δ-TaN,和bct TaNx共存。Ta—N薄膜电阻率随N2:Ar流量比增加持续增加,当N2:Ar为1.2时,薄膜变为绝缘体,光学禁带宽度为1.51eV。 展开更多
关键词 ta-N 薄膜 非平衡磁控溅射 反应溅射 XRD 电阻率
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辐射变色膜用于标识输注辐照血液辐照剂量的研究 被引量:6
3
作者 孙鹏 蒋波 +3 位作者 何捷 任芙蓉 江少恩 林理彬 《中国输血杂志》 CAS CSCD 2008年第5期339-342,共4页
目的制备可标识血液辐照剂量的辐射变色膜,了解其吸光度峰值与淋巴细胞反应抑制率之间的对应关系。方法分别用5、15、25、35、50Gy 5种辐射剂量的射线照射所制备的辐射变色膜和血液,测定辐照前后辐射变色膜的吸光度和淋巴细胞反应抑制... 目的制备可标识血液辐照剂量的辐射变色膜,了解其吸光度峰值与淋巴细胞反应抑制率之间的对应关系。方法分别用5、15、25、35、50Gy 5种辐射剂量的射线照射所制备的辐射变色膜和血液,测定辐照前后辐射变色膜的吸光度和淋巴细胞反应抑制率。结果该辐射变色膜具有低剂量响应特征,与血液同时被辐照后,薄膜颜色由粉红色变为蓝色,其吸收峰的吸光度与血液淋巴细胞反应抑制率具有相关性。结论经肉眼观察辐射变色膜可确定血袋是否经辐照,测定辐射变色膜的吸光度可定量标识血液的辐照剂量。该辐射变色膜在血液辐照预防TA-GVHD中具有重要的应用前景。 展开更多
关键词 标识 Γ射线 血液辐照 ta-GVHD 辐射变色膜
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不同电压对TA1板材氧化膜的厚度及着色的影响
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作者 傅鸿博 李媛媛 《五金科技》 2024年第2期63-65,共3页
钛作为一种独特的金属元素,凭借其出色的物理和化学性质,已经在我们的生活中占据了不可或缺的地位。在日用五金领域,钛锅、钛水杯、钛质餐具等钛制品也逐渐走向成熟。而作为钛制品其表面氧化膜不仅具备独特的物理特性,其绚丽多彩的颜色... 钛作为一种独特的金属元素,凭借其出色的物理和化学性质,已经在我们的生活中占据了不可或缺的地位。在日用五金领域,钛锅、钛水杯、钛质餐具等钛制品也逐渐走向成熟。而作为钛制品其表面氧化膜不仅具备独特的物理特性,其绚丽多彩的颜色也被作为相关产品的一大特点。本文采用阳极氧化法在磷酸中通过对不同电压下TA1钛板表面TiO2氧化膜厚度与其色彩关系进行分析。发现在电解液为稀磷酸时,表面生成的TiO2厚度与电压呈现比较严格的线性关系,颜色变化与白光干涉颜色图谱一致,5V与100V较为接近,符合干涉色特点。在特定电压下时间对氧化膜的厚度影响不大。 展开更多
关键词 ta1 氧化膜 着色
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Sol-Gel法合成K(Ta,Nb)O_3材料 被引量:6
5
作者 包定华 王世敏 +3 位作者 顾豪爽 黄桂玉 卢朝靖 邝安祥 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第1期32-36,共5页
以金属醇盐乙酸钾[K(OC2H5)],乙醇铌[Nb(OC2H5)5]和乙醇钽[Ta(OC2H5)5]为原料,用Sol-Gel法合成了K(Ta,Nb)O3超细粉末和薄膜,研究了工艺参数如前驱体溶液浓度、热处理温度等因素... 以金属醇盐乙酸钾[K(OC2H5)],乙醇铌[Nb(OC2H5)5]和乙醇钽[Ta(OC2H5)5]为原料,用Sol-Gel法合成了K(Ta,Nb)O3超细粉末和薄膜,研究了工艺参数如前驱体溶液浓度、热处理温度等因素对材料结构及物性的影响.粉料的粒径为20~40nm,所需合成温度约为700℃,比通过传统的固相反应制备同种材料的合成温度低近100℃;以SrTiO3(100)单晶作基片,采用匀胶法获得了沿(100)高取向生长的K(Ta0.65Nb0.35)O3薄膜,薄膜表面均匀、致密,室温时呈立方相晶格结构.研究表明,选择物理性质相似、晶格常数相匹配的材料作基片,适当控制工艺参数,尤其是前驱体溶液的浓度、升降温速度及烧结温度是获得优质薄膜的关键. 展开更多
关键词 钽铌酸钾 超细粉 陶瓷材料 合成Sol-Gel法
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工业纯钛TA2在液体推进剂单推-3中的耐蚀机理
6
作者 唐占梅 郭伟 +1 位作者 蒋榕培 方涛 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第5期123-130,共8页
发动机贮箱长寿命服役是航天技术发展的必然要求,工业纯钛TA2是火箭发动机重要结构材料之一,然而该材料与液体推进剂的长期相容性机理仍缺乏深入的研究,难以满足推进剂贮箱长寿命评估的需要。针对典型液体推进剂单推-3(DT-3),采用电化... 发动机贮箱长寿命服役是航天技术发展的必然要求,工业纯钛TA2是火箭发动机重要结构材料之一,然而该材料与液体推进剂的长期相容性机理仍缺乏深入的研究,难以满足推进剂贮箱长寿命评估的需要。针对典型液体推进剂单推-3(DT-3),采用电化学方法研究工业纯钛TA2在液体推进剂DT-3中的电化学腐蚀行为,应用扫描电镜(SEM)、光电子能谱(XPS)分析TA2表面钝化膜的结构特征。动电位极化曲线测试表明,TA2在DT-3中自腐蚀电流密度为58 nA/cm^(2),腐蚀速率约为0.5μm/a,点蚀电位为2.15 V,耐点蚀能力强;具有两段钝化电位区,在点蚀电位下,肼和硝酸肼对TA2钝化膜的破裂溶解过程具有协同效应。交流阻抗谱测试表明,TA2表面钝化膜具有很高的反应阻抗,抗均匀腐蚀性能良好,且随着阳极电位的升高,表面钝化反应机理一致。氧化膜XPS分析表明,较高钝化电位下形成的钝化膜更完善,形成的是外层为TiO_(2),内层为Ti_(2)O_(3)、TiO的双层结构特征的钝化膜。获得的TA2在DT-3中的电化学腐蚀机理对贮箱寿命评估具有重要指导作用。 展开更多
关键词 液体推进剂 ta2 电化学腐蚀 极化 光电子能谱(XPS) 钝化膜
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Exploration of growth conditions of TaAs Weyl semimetal thin film using pulsed laser deposition
7
作者 李世恩 林泽丰 +9 位作者 胡卫 闫大禹 陈赋聪 柏欣博 朱北沂 袁洁 石友国 金魁 翁红明 郭海中 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第4期582-586,共5页
Ta As,the first experimentally discovered Weyl semimetal material,has attracted a lot of attention due to its high carrier mobility,high anisotropy,nonmagnetic properties and strong interaction with light.These make i... Ta As,the first experimentally discovered Weyl semimetal material,has attracted a lot of attention due to its high carrier mobility,high anisotropy,nonmagnetic properties and strong interaction with light.These make it an ideal candidate for the study of Weyl fermions and applications in quantum computation,thermoelectric devices,and photodetection.For further basic physics studies and potential applications,large-size and high-quality Ta As films are urgently needed.However,it is difficult to grow As-stoichiometry Ta As films due to the volatilization of As during the growth.To solve this problem,we attempted to grow Ta As films on different substrates using targets with different As stoichiometric ratios via pulsed laser deposition(PLD).In this work,we found that partial As ions of the Ga As substrate are likely to diffuse into the Ta As films during growth,which was preliminarily confirmed by structural characterization,surface topography and composition analysis.As a result,the As content in the Ta As film was improved and the Ta As phase was achieved.Our work presents an effective method for the fabrication of Ta As films using PLD,enabling possible use of the Weyl semimetal film for functional devices. 展开更多
关键词 Weyl semimetal ta As film pulsed laser deposition
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超薄四面体非晶碳膜光学常数的精确测定 被引量:2
8
作者 许世鹏 李玉宏 +3 位作者 陈维铅 林莉 李江 薛仰全 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期124-128,共5页
目的联合使用光谱型椭偏仪(SE)和分光光度计,精确测定超薄四面体非晶碳薄膜(ta-C)的光学常数。方法由于该薄膜的厚度对折射率、消光系数有很大的影响,仅采用椭偏参数拟合,难以准确得到该薄膜的光学常数,椭偏法测定的未知参数数量大于方... 目的联合使用光谱型椭偏仪(SE)和分光光度计,精确测定超薄四面体非晶碳薄膜(ta-C)的光学常数。方法由于该薄膜的厚度对折射率、消光系数有很大的影响,仅采用椭偏参数拟合,难以准确得到该薄膜的光学常数,椭偏法测定的未知参数数量大于方程数,椭偏方程无唯一解。因此,加入透过率与椭偏参数同时进行拟合(以下简称SE+T法),以简单、快速、准确地得到该薄膜的光学常数。结果薄膜具有典型的非晶碳膜特征,SE和SE+T两种拟合方法得到的光学常数具有明显的差异,消光系数k在可见以及红外区最大差值可达0.020,紫外区最大的偏差约为0.005;折射率n在500 nm波长以上最大差值为0.04,在紫外光区和可见光区两种方法得到的n趋于一致。联用时的拟合结果具有更好的唯一性,而且拟合得到的光学常数变得平滑。结论椭偏与分光光度计联用适合精确测定测量范围内的超薄四面体非晶薄膜的光学常数。 展开更多
关键词 ta-C 薄膜 光学常数 椭偏仪 分光光度计 色散模型
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不锈钢基Ti/ta-C复合膜沉积与热应力研究 被引量:1
9
作者 陈长琦 何涛 +1 位作者 王国栋 张心凤 《真空》 CAS 2017年第6期7-11,共5页
ta-C薄膜是性能优良的耐摩擦超硬薄膜,但其残余应力过大问题严重影响了其力学性能及实际应用。根据脉冲磁过滤多弧离子镀沉积ta-C薄膜的工艺,进行了膜系设计并沉积制备出以不锈钢为基底的Ti/ta-C复合膜。通过有限元方法,建立数值计算模... ta-C薄膜是性能优良的耐摩擦超硬薄膜,但其残余应力过大问题严重影响了其力学性能及实际应用。根据脉冲磁过滤多弧离子镀沉积ta-C薄膜的工艺,进行了膜系设计并沉积制备出以不锈钢为基底的Ti/ta-C复合膜。通过有限元方法,建立数值计算模型,研究了薄膜热应力与膜层厚度、基底厚度和沉积温度等参数变化的规律,得到Ti/ta-C复合膜的热应力分布,模拟与理论计算结果误差较小,揭示了脉冲磁过滤多弧离子镀沉积ta-C薄膜厚度的有效控制的途径,为完善脉冲磁过滤多弧离子镀沉积ta-C薄膜的工艺,提供了理论依据。实验研究了不同沉积温度下薄膜的硬度和残余应力、热应力的关系,结果表明,热应力增加会导致薄膜硬度降低,但不会导致残余应力的明显变化,即热应力不是脉冲磁过滤多弧离子镀沉积ta-C薄膜残余应力过大的主要因素。 展开更多
关键词 复合薄膜 ta-C 热应力 残余应力 有限元
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磁控溅射法制备低电阻率Ta薄膜研究 被引量:1
10
作者 邵花 王文东 +1 位作者 刘训春 夏洋 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第18期2625-2629,共5页
在无匹配层、常温、溅射气体为纯Ar的条件下,利用直流磁控溅射法在Si表面制备了Ta薄膜,系统研究了工作气压及直流功率对薄膜电阻率及微观结构的影响。分别用四探针测试仪、X射线衍射仪、原子力显微镜对不同条件下制备的Ta薄膜电阻率、... 在无匹配层、常温、溅射气体为纯Ar的条件下,利用直流磁控溅射法在Si表面制备了Ta薄膜,系统研究了工作气压及直流功率对薄膜电阻率及微观结构的影响。分别用四探针测试仪、X射线衍射仪、原子力显微镜对不同条件下制备的Ta薄膜电阻率、相结构及表面形貌进行表征。结果发现,随溅射气压升高,高阻β相出现,薄膜电阻率随之增大;在相同溅射气压下,随着溅射功率的增加,薄膜电阻率先降低后升高。优化溅射工艺后制得的Ta薄膜的电阻率低至29.7μΩ·cm。 展开更多
关键词 磁控溅射 ta 薄膜电阻率
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想象与转换:小说《洛丽塔》的电影符号学解读 被引量:1
11
作者 曹晓娇 《俄罗斯文艺》 CSSCI 2018年第1期113-119,共7页
纳博科夫的小说《洛丽塔》曾两度被改编为电影,是一部倍受争议的作品。然而,无论怎样评价《洛丽塔》,评论者大都是将作品与现实生活、社会的伦理道德联系起来。其实,纳博科夫的主要创作目的并非是要反映现实,或者是探讨伦理问题,而是要... 纳博科夫的小说《洛丽塔》曾两度被改编为电影,是一部倍受争议的作品。然而,无论怎样评价《洛丽塔》,评论者大都是将作品与现实生活、社会的伦理道德联系起来。其实,纳博科夫的主要创作目的并非是要反映现实,或者是探讨伦理问题,而是要激发读者的想象,让读者在想象世界中享受艺术,获取审美感。也许电影艺术中的蒙太奇手法等,是能够在很短时间内激发欣赏者想象力的有效途径。纳博科夫采用了小说的电影化创作艺术,在裁剪与衔接、空间与视觉以及时间与想象三个方面,不断地在文字叙述与镜头画面间转换,构成了《洛丽塔》自身独特的意义再生机制,让读者或观众能够在不同的接受语境中,感受小说文本的艺术魅力,给予文本以多元解读,赋予文本以无限的生命力。 展开更多
关键词 《洛丽塔》电影符号学 洛特曼 意义再生机制
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In vitro investigation of blood compatibility of titanium oxide film doped with Ta^(5+)
12
作者 Xi Tingfei Huang Nan +4 位作者 Tian Wenhua Yang Ping Leng Yongxiang Chen Jungying Sun Hong(Center of Medical Devices, National lnstitUte for Col1trol of Pl1annaceutical and Biological Products, Beijing, 100050, China)(Depttient of Materials Engineering, Southw 《Chinese Journal of Biomedical Engineering(English Edition)》 1999年第3期16-17,共2页
关键词 ta In vitro investigation of blood compatibility of titanium oxide film doped with ta
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熔融6061和4043铝合金在纯钛表面的反应润湿
13
作者 钟伟强 靳鹏 +2 位作者 李富祥 林巧力 陈剑虹 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第12期17-24,共8页
利用改良座滴法研究了高真空条件下熔融6061和4043铝合金在600,650,700℃分别与纯钛(TA2)的反应润湿行为。结果表明:Al/Ti体系属于典型的反应润湿,铝合金中微量的Si元素在界面上产生了明显富集且满足热力学条件;界面上形成了富Si的致密... 利用改良座滴法研究了高真空条件下熔融6061和4043铝合金在600,650,700℃分别与纯钛(TA2)的反应润湿行为。结果表明:Al/Ti体系属于典型的反应润湿,铝合金中微量的Si元素在界面上产生了明显富集且满足热力学条件;界面上形成了富Si的致密的层片状Ti_7Al_5Si_(12)相,致密层产生后阻碍熔体润湿母材;Ti_7Al_5Si_(12)相的分解及三相线附近疏松的粒状Al_3Ti相产生后能够破除钛表面的氧化膜,进而促进润湿;6061/TA2和4043/TA2两润湿体系铺展动力学均可由反应产物控制(Reaction Product Model)模型描述,整个润湿铺展过程分为两个阶段,即先呈指数铺展、后呈线性铺展;6061铝合金对应两个阶段的铺展活化能分别为56kJ/mol和112kJ/mol,4043铝合金以指数铺展为主,铺展活化能为47kJ/mol,Ti_7Al_5Si_(12)相的分解对应于指数铺展阶段。 展开更多
关键词 反应润湿 热浸镀 前驱膜 ta2
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Preparation of c-Axis Oriented LiNb_(1-x) Ta_xO_3 Films on Si(111) Substrates by a Modified Sol-gel Process
14
作者 QIANG Liang sheng FU Hong gang 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2002年第3期255-257,共3页
In this work, we succeeded in the preparation of LiNb 1- x Ta x O 3 films on Si(111) substrates by means of sol gel process, and the usual sol gel process for the preparation of LiNbO 3 and LiTaO 3 films on Si substra... In this work, we succeeded in the preparation of LiNb 1- x Ta x O 3 films on Si(111) substrates by means of sol gel process, and the usual sol gel process for the preparation of LiNbO 3 and LiTaO 3 films on Si substrates was improved by adding a 33% aqueous solution of CH 3CH 2OH to the mixed sols of LiNb(OCH 2CH 3) 6 and LiTa(OCH 2CH 3) 6 . The crystallization behavior of LiNb 1- x Ta x O 3 films on Si(111) substrates has been studied. Highly c axis oriented LiNb 1- x Ta x O 3 films have been obtained within the tantalum composition range of \{0< x <0 33\}. Some factors such as the hydrogen termination of the silicon surface, the RTP annealing process that provides the unidirectional heat flow and the preheating temperature are discussed to analyze the crystallization of the c axis oriented films. 展开更多
关键词 LiNb 1- x ta x O 3 film Crystallization behavior Si substrate Sol gel
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TaN薄膜在微波薄膜匹配负载器件中的应用
15
作者 彭斌 蒋中东 +1 位作者 王磊 张万里 《微波学报》 CSCD 北大核心 2014年第S1期154-157,共4页
本文研究了Ta N薄膜在微波薄膜匹配负载器件中的应用。利用Ta N薄膜设计了工作频率为DC-18GHz,承受功率10W的匹配负载1,工作频率为DC-18GHz,承受功率60W的匹配负载2,以及工作频率为30-35GHz,承受功率为100W的高频高功率匹配负载3。采用... 本文研究了Ta N薄膜在微波薄膜匹配负载器件中的应用。利用Ta N薄膜设计了工作频率为DC-18GHz,承受功率10W的匹配负载1,工作频率为DC-18GHz,承受功率60W的匹配负载2,以及工作频率为30-35GHz,承受功率为100W的高频高功率匹配负载3。采用磁控溅射制备了Ta N电阻膜,采用掩膜图形化技术制备了所设计的薄膜匹配负载器件。测试结果表明,三款器件的电压驻波比在各自工作频率范围内均小于1.3,和仿真结果基本一致。同时对器件3测试了其功率负载能力,在加载功率100W,加载时间60分钟后,器件表面最高温度为107°C,匹配负载的电阻值变化了1.4%,表明所制备的负载器件具有良好的功率承载能力。 展开更多
关键词 微波匹配负载 ta N薄膜 电压驻波比 高频大功率
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Investigation on the Initial Stage of Film Growth in Situ
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作者 Zhenzhong QI Guopin DU Hanqi KE and Weiguo YAO(Institute of Solid State Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, 230031, China) 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 1994年第6期451-454,共4页
The initial stage of Ag film growth on Cu(100). Ta(100) and Ta(110) single crystals as well as YBaCuO on Si single crystal covered by Pd was investigated in situ by means of LAS 600 surface analysis system with a sput... The initial stage of Ag film growth on Cu(100). Ta(100) and Ta(110) single crystals as well as YBaCuO on Si single crystal covered by Pd was investigated in situ by means of LAS 600 surface analysis system with a sputtering source in sample preparation chamber. The results show that the initial state for Ag / Cu(100) film growth is typical S-K model, for Ag / Ta(100) and Ag / Ta(110)they have the same S-K characteristics, but due to the different surface energies of two crystalline planes. there is some difference for Ag / Ta (100) and Ag / Ta(110). YBCO sputterjng process is rather complex and Cu is the first element appearing in the film. 展开更多
关键词 ta Investigation on the Initial Stage of film Growth in Situ AG Cu
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玻璃基片上钽薄膜屈曲结构的边界效应研究
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作者 陈小军 余森江 +1 位作者 焦志伟 陈苗根 《台州学院学报》 2012年第6期13-17,共5页
利用直流磁控溅射方法在玻璃基片上沉积了金属钽薄膜,研究了边界效应对薄膜屈曲结构的影响。结果表明:制备态的钽薄膜包含较大的残余压应力,促使薄膜与基片脱层而形成屈曲结构;屈曲结构在薄膜边界处成核生长,并逐渐扩展到薄膜内部区域;... 利用直流磁控溅射方法在玻璃基片上沉积了金属钽薄膜,研究了边界效应对薄膜屈曲结构的影响。结果表明:制备态的钽薄膜包含较大的残余压应力,促使薄膜与基片脱层而形成屈曲结构;屈曲结构在薄膜边界处成核生长,并逐渐扩展到薄膜内部区域;在薄膜边界处,屈曲结构呈垂直边界的平行直线状条纹结构,随着距离的增加,屈曲结构逐渐分叉形成无规网格结构或电话线结构。利用薄膜的单轴应力和等双轴应力模型,对屈曲结构边界处的形貌特征进行了深入分析。 展开更多
关键词 钽薄膜 屈曲 内应力 边界效应
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氧含量对钽电解电容器阳极氧化膜形成及漏电流的影响 被引量:18
18
作者 伍尊中 姚卫东 袁坤阳 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 2006年第2期32-34,共3页
针对阳极氧化膜在钽电解电容器中所起的重要作用,对比分析了钽阳极块中氧含量对其形成及电性能的影响,并简述了有关影响机理。结果表明:钽阳极块中的氧含量主要由原料钽粉中的杂质氧含量所决定,且与阳极块的压制、烧结及赋能条件等相关... 针对阳极氧化膜在钽电解电容器中所起的重要作用,对比分析了钽阳极块中氧含量对其形成及电性能的影响,并简述了有关影响机理。结果表明:钽阳极块中的氧含量主要由原料钽粉中的杂质氧含量所决定,且与阳极块的压制、烧结及赋能条件等相关;杂质氧对阳极氧化膜形成不利,是造成电容器漏电流增大的主要因素之一。 展开更多
关键词 氧含量 钽电解电容器 阳极氧化膜 漏电流
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准分布式光纤表面等离子体波传感器 被引量:15
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作者 曾捷 梁大开 +1 位作者 杜艳 曾振武 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期243-248,共6页
研究了一种基于波分复用原理的准分布式光纤表面等离子体波传感器。应用光波导理论和多层膜反射理论分析了表面等离子体波效应在同一光纤探头中连续被激励的原理及其传感模型。通过数值模拟和相应实验分别考察了蒸镀调制层对表面等离子... 研究了一种基于波分复用原理的准分布式光纤表面等离子体波传感器。应用光波导理论和多层膜反射理论分析了表面等离子体波效应在同一光纤探头中连续被激励的原理及其传感模型。通过数值模拟和相应实验分别考察了蒸镀调制层对表面等离子体波共振(SPR)效果的影响,并在此基础上给出了设计的一般步骤和原则。实验结果表明,蒸镀不同厚度的Ta2O5薄膜将导致表面等离子体波共振光谱发生偏移,且随着膜厚增加而逐渐发生红移;当液体折射率no处于1.333~1.388之间时,蒸镀有Ta2O5薄膜的光纤表面等离子体波传感器波长灵敏度达到2235nm/RIU(Refractive Index Unit);通过在一支光纤探头上依次加工两个表面等离子体波传感区域,实现了对光波信号的连续调制。 展开更多
关键词 光纤光学 表面等离子体波共振传感器 准分布式 ta2O3薄膜
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含TiN中间层IrO_2-Ta_2O_5涂层钛阳极的电催化性能 被引量:13
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作者 叶张军 甘永平 +2 位作者 张文魁 黄辉 陶新永 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1473-1479,共7页
采用钛片在氮气中700℃退火的方法,在钛片表面原位生成TiN薄膜,并以此为基体采用热分解法制备IrO2-Ta2O5涂层钛阳极。研究含TiN中间层IrO2-Ta2O5涂层钛阳极及传统IrO2-Ta2O5涂层钛阳极的开路电位、析氧行为、循环伏安和电化学阻抗等性... 采用钛片在氮气中700℃退火的方法,在钛片表面原位生成TiN薄膜,并以此为基体采用热分解法制备IrO2-Ta2O5涂层钛阳极。研究含TiN中间层IrO2-Ta2O5涂层钛阳极及传统IrO2-Ta2O5涂层钛阳极的开路电位、析氧行为、循环伏安和电化学阻抗等性能。结果表明:含TiN中间层IrO2-Ta2O5涂层钛阳极具有非连续状裂纹结构,且表面生长出大量IrO2纳米晶体,其电催化析氧性能优于传统IrO2-Ta2O5涂层钛阳极的电催化析氧性能;涂层烧结温度越低,电化学性能越好;当烧结温度低于500℃时,TiN中间层可以显著延长IrO2-Ta2O5涂层钛阳极的工作寿命。 展开更多
关键词 TIN薄膜 IrO2-ta2O5涂层 钛阳极 电催化性能 热处理
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