期刊文献+
共找到40篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
深亚微米薄层SOI/MOSFET’s热载流子效应分析 被引量:3
1
作者 曹建民 吴传良 +1 位作者 沈文正 黄敞 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期280-286,共7页
本文从二维模拟热载流子注入电流入手,讨论了不同硅层厚度、栅氧厚度和掺杂浓度对薄层深亚微米SOI/MOSFET’s热载流子效应的影响.模拟结果表明,对于不同的硅层厚度,沟道前表面漏结处的载流子浓度对热载流子效应起着不同... 本文从二维模拟热载流子注入电流入手,讨论了不同硅层厚度、栅氧厚度和掺杂浓度对薄层深亚微米SOI/MOSFET’s热载流子效应的影响.模拟结果表明,对于不同的硅层厚度,沟道前表面漏结处的载流子浓度对热载流子效应起着不同的作用,有时甚至是决定性的作用.沟道前表面漏结处的载流子浓度和沟道最大电场一样,是影响薄层SOI/MOSFET’s热载流子效应的重要因素,这也就解释了以往文献中,随着硅层减薄,沟道电场增大,热载流子效应反而减小的矛盾.模拟也显示了在一定的硅层厚度变化范围内(60~100nm),器件热载流子效应达到最小值,而且在这一硅层范围内,热载流子效应对硅层厚度、栅氧厚度以及掺杂浓度的变化不敏感,这对高性能深亚微米薄层SOI/MOSFET’s设计具有重要的指导意义. 展开更多
关键词 soi/mosfet VLSI 半导体器件 热载子效应
下载PDF
SOI MOSFETI-V特性的计算机模拟 被引量:2
2
作者 王煜 张鹏飞 +2 位作者 侯东彦 钱佩信 罗台秦 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期30-34,共5页
本文研究了SOIMOSFET的I-V特性,建立了一套模拟SOI器件工作特性的解析模型,适用于不同的SOI膜厚和各种前、背栅的偏置情况,在各种不同情况下由计算机自动选择适当模型进行拟合,该模型物理意义明确,计算简便快速... 本文研究了SOIMOSFET的I-V特性,建立了一套模拟SOI器件工作特性的解析模型,适用于不同的SOI膜厚和各种前、背栅的偏置情况,在各种不同情况下由计算机自动选择适当模型进行拟合,该模型物理意义明确,计算简便快速,所用参数易于提取。 展开更多
关键词 计算机模拟 soi/MOS器件 I-V特性 场效应晶体管
下载PDF
Performance Prospects of Fully-Depleted SOI MOSFET-Based Diodes Applied to Schenkel Circuit for RF-ID Chips
3
作者 Yasuhisa Omura Yukio Iida 《Circuits and Systems》 2013年第2期173-180,共8页
The feasibility of using the SOI-MOSFET as a quasi-diode to replace the Schottky-barrier diode in the Schenkel circuit is examined by device simulations primarily and experiments partly. Practical expressions of boost... The feasibility of using the SOI-MOSFET as a quasi-diode to replace the Schottky-barrier diode in the Schenkel circuit is examined by device simulations primarily and experiments partly. Practical expressions of boost-up efficiency for d. c. condition and a. c. condition are proposed and are examined by simulations. It is shown that the SOI-MOSFET-based quasi-diode is a promising device for the Schenkel circuit because high boost-up efficiency can be gained easily. An a. c. analysis indicates that the fully-depleted condition should hold to suppress the floating-body effect for GHz-level RF applications of a quasi-diode. 展开更多
关键词 RF-ID Schenkel CIRCUIT soi-mosfet Quasi-Diode Low-Power
下载PDF
Threshold Voltage Model for a Fully Depleted SOI-MOSFET with a Non-Uniform Profile
4
作者 张国和 邵志标 周凯 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期842-847,共6页
A novel approximation of the two-dimensional (2D) potential function perpendicular to the channel is proposed,and then an analytical threshold voltage model for a fully depleted SOI-MOSFET with a non-uniform Gaussia... A novel approximation of the two-dimensional (2D) potential function perpendicular to the channel is proposed,and then an analytical threshold voltage model for a fully depleted SOI-MOSFET with a non-uniform Gaussian distribution doping profile is given based on this approximation. The model agrees well with numerical simulation by MEDICI. The result represents a new way and some reference points in analyzing and controlling the threshold voltage of non-uniform fully depleted (FD) SOI devices in practice. 展开更多
关键词 fully depleted soi-mosfet NON-UNIFORM surface potential threshold voltage
下载PDF
SOI MOSFET器件中的“Kink 效应”及有关现象
5
作者 周天舒 黄庆安 《半导体杂志》 1992年第3期20-24,共5页
关键词 soi-mosfet KINK效应 场效应晶体管
全文增补中
正背栅SOI-MOSFET二维阈值电压解析模型
6
作者 张国和 邵隽 陈婷 《世界科技研究与发展》 CSCD 2012年第1期29-34,共6页
通过建立沟道区域和埋氧区域的二维泊松方程,并考虑衬底区域的掺杂和背栅偏压对器件阈值电压的影响,得到了一种正背栅全耗尽SOI-MOSFET二维阈值电压模型。根据模型计算结果,研究了衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对器件阈值电压的影响,通... 通过建立沟道区域和埋氧区域的二维泊松方程,并考虑衬底区域的掺杂和背栅偏压对器件阈值电压的影响,得到了一种正背栅全耗尽SOI-MOSFET二维阈值电压模型。根据模型计算结果,研究了衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对器件阈值电压的影响,通过与MEDICI数值模拟结果的比较表明,该模型能预计不同衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对阈值电压的影响,正确反映器件的短沟效应和背栅效应。 展开更多
关键词 全耗尽soi-mosfet 背栅电压 阈值电压解析模型
原文传递
中子辐照半绝缘硅衬底上的SOI技术
7
作者 李琼 徐静芳 林成鲁 《华东师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1991年第1期35-40,共6页
本文描述了一种新奇的SOI技术:中子辐照单晶硅形成半绝缘材料,经激光扫描退火恢复表面层的半导体特性并由此组成了SOI结构.在这个结构上我们制作了n沟MOSFET.本文研究了这种半绝缘层的性质,这种技术的工艺流程和条件以及用这种方法制得... 本文描述了一种新奇的SOI技术:中子辐照单晶硅形成半绝缘材料,经激光扫描退火恢复表面层的半导体特性并由此组成了SOI结构.在这个结构上我们制作了n沟MOSFET.本文研究了这种半绝缘层的性质,这种技术的工艺流程和条件以及用这种方法制得的MOS器件的性能. 展开更多
关键词 soi技术 MOS器件 激光退火 soi结构
下载PDF
应变SiGe SOI量子阱沟道PMOSFET阈值电压模型研究 被引量:16
8
作者 张鹤鸣 崔晓英 +2 位作者 胡辉勇 戴显英 宣荣喜 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期3504-3508,共5页
在绝缘层附着硅(SOI)结构的Si膜上生长SiGe合金制作具有SiGe量子阱沟道的SOIp型金属氧化物半导体场效应晶体管(PMOSFET),该器件不仅具有SOI结构的优点,而且因量子阱中载流子迁移率高,所以进一步提高了器件的性能.在分析常规的SiSOI MOS... 在绝缘层附着硅(SOI)结构的Si膜上生长SiGe合金制作具有SiGe量子阱沟道的SOIp型金属氧化物半导体场效应晶体管(PMOSFET),该器件不仅具有SOI结构的优点,而且因量子阱中载流子迁移率高,所以进一步提高了器件的性能.在分析常规的SiSOI MOSFET基础上,建立了应变SiGe SOI量子阱沟道PMOSFET的阈值电压模型和电流-电压(I-V)特性模型,利用Matlab对该结构器件的I-V特性、跨导及漏导特性进行了模拟分析,且与常规结构的器件作了对比.模拟结果表明,应变SiGe SOI量子阱沟道PMOSFET的性能均比常规结构的器件有大幅度提高. 展开更多
关键词 应变SiGe soi mosfet 阈值电压 模型
原文传递
一个适用于模拟电路的深亚微米SOIMOSFET器件模型 被引量:1
9
作者 廖怀林 张兴 +1 位作者 黄如 王阳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期329-334,共6页
从数值解源端和饱和点的表面电势出发 ,考虑模拟电路对 SOI MOSFET模型的一些基本要求如电荷守恒、器件源漏本征对称、各个工作区间连续并且高阶可导以及全耗尽和部分耗尽两种工作模式的转变 ,构建了一个能够满足这些要求的精确的器件模... 从数值解源端和饱和点的表面电势出发 ,考虑模拟电路对 SOI MOSFET模型的一些基本要求如电荷守恒、器件源漏本征对称、各个工作区间连续并且高阶可导以及全耗尽和部分耗尽两种工作模式的转变 ,构建了一个能够满足这些要求的精确的器件模型 .同时包含了深亚微米 SOI MOSFET的一些二级效应如漏极诱生势垒降低效应 (DIBL )、速度饱和效应、自热效应等 .这个模型的参数相对较少并且精确连续 。 展开更多
关键词 深亚微米器件 模拟电路 soi mosfet 模型
下载PDF
短沟道SOI MOSFET总剂量辐照效应模型 被引量:2
10
作者 万新恒 甘学温 +2 位作者 张兴 黄如 王阳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1154-1159,共6页
报道了一个含总剂量辐照效应的 SOI MOSFET统一模型 .该模型能自动计入体耗尽条件 ,不需要分类考虑不同膜厚时的情况 .模型计算结果与实验吻合较好 .该模型物理意义明确 ,参数提取方便 ,适合于抗辐照 SOI器件与电路的模拟 .
关键词 soi mosfet 总剂量辐照效应模型 场效应晶体管
下载PDF
一个解析的适用于短沟SOI MOSFET’s的高频噪声模型
11
作者 张国艳 廖怀林 +3 位作者 黄如 Mansun chan 张兴 王阳元 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1601-1604,共4页
提出了一个新的解析的适用于SOIMOSFET’s的高频噪声模型 .该模型通过耦合能量平衡方程克服了以往噪声模型所具有的缺点 ,并对短沟SOI器件的噪声给出精确地描述 .同时 ,利用该模型可以容易地计算出相对于最小噪声值处的优化的栅源电压 ... 提出了一个新的解析的适用于SOIMOSFET’s的高频噪声模型 .该模型通过耦合能量平衡方程克服了以往噪声模型所具有的缺点 ,并对短沟SOI器件的噪声给出精确地描述 .同时 ,利用该模型可以容易地计算出相对于最小噪声值处的优化的栅源电压 ,为低噪声的电路设计提供优化的设计方向 .由于该噪声模型的简单性 ,可以很方便地将模型植入电路模拟器如SPICE中完成电路设计 . 展开更多
关键词 soi mosfet's 高频噪声 模型 短沟soi器件 热噪声
下载PDF
考虑量子效应的高k栅介质SOI MOSFET特性研究 被引量:3
12
作者 曹磊 刘红侠 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第24期470-475,共6页
本文主要研究考虑量子效应的高k栅介质SOIMOSFET器件特性.通过数值方法自洽求解薛定谔方程和泊松方程,得到了垂直于SiO2/Si界面方向上载流子波函数及能级的分布情况,结合Young模型,在考虑短沟道效应和高k栅介质的情况下,对SOIMOSFET的... 本文主要研究考虑量子效应的高k栅介质SOIMOSFET器件特性.通过数值方法自洽求解薛定谔方程和泊松方程,得到了垂直于SiO2/Si界面方向上载流子波函数及能级的分布情况,结合Young模型,在考虑短沟道效应和高k栅介质的情况下,对SOIMOSFET的阈值电压进行模拟分析.结果表明:随着纵向电场的增加,量子化效应致使反型层载流子分布偏离表面越来越严重,造成了有效栅氧化层厚度的增加和阈值电压波动.采用高k栅介质材料,可以减小阈值电压,抑制DIBL效应.较快的运算速度保证了模拟分析的效率,计算结果和ISE仿真结果的符合说明了本文的模型精度高. 展开更多
关键词 量子化效应 高K材料 soi mosfet 阈值电压
原文传递
适用于数模混合集成的SOI MOSFET的失真分析 被引量:1
13
作者 张国艳 廖怀林 +3 位作者 黄如 Mansun CHAN 张兴 王阳元 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期232-235,共4页
本文较为详细地分析了SOIMOSFET的失真行为 .利用幂级数方法对不同结构包括部分耗尽PD、全耗尽FD和体接触BC的SOI器件的谐波失真进行了对比性的实验研究 .同时 ,在实验分析的基础上提出了描述失真行为的连续的SOIMOSFET失真模型 .该模... 本文较为详细地分析了SOIMOSFET的失真行为 .利用幂级数方法对不同结构包括部分耗尽PD、全耗尽FD和体接触BC的SOI器件的谐波失真进行了对比性的实验研究 .同时 ,在实验分析的基础上提出了描述失真行为的连续的SOIMOSFET失真模型 .该模型通过引入平滑函数和主要的影响失真的物理机制 ,使得模拟计算结果能够与实验结果较好的吻合 .本文所得到的结果可用于低失真的数模混合电路的设计 ,并对低失真电路的优化提供指导方向 . 展开更多
关键词 场效应晶体管 数模混合集成 失真分析 soi mosfet
下载PDF
异质栅非对称Halo SOI MOSFET亚阈值电流模型 被引量:2
14
作者 栾苏珍 刘红侠 +1 位作者 贾仁需 王瑾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期746-750,共5页
在沟道源端一侧引入高掺杂Halo结构的异质栅SOI MOSFET,可以有效降低亚阈值电流.通过求解二维泊松方程,为该器件建立了亚阈值条件下的表面势模型.利用常规漂移-扩散理论,在表面势模型的基础上,推导出新结构器件的亚阈值电流模型.为了求... 在沟道源端一侧引入高掺杂Halo结构的异质栅SOI MOSFET,可以有效降低亚阈值电流.通过求解二维泊松方程,为该器件建立了亚阈值条件下的表面势模型.利用常规漂移-扩散理论,在表面势模型的基础上,推导出新结构器件的亚阈值电流模型.为了求解简单,文中给出了一种分段近似方法,从而得到表面势的解析表达式.结果表明,所得到的表面势解析表达式和确切解的结果高度吻合.二维器件数值模拟器ISE验证了通过表面势解析表达式得到的亚阈值电流模型,在亚阈值区二者所得结果吻合得很好. 展开更多
关键词 异质栅 soi mosfet 亚阈值电流 二维解析模型
下载PDF
SiGe沟道SOI结构混合模式晶体管的设计与模拟
15
作者 李树荣 刘真 +4 位作者 张生才 王静 郭维廉 郑云光 陈培毅 《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期682-685,共4页
提出采用SiGe沟道SOI结构混合模式晶体管(SiGeSOIBMHMT)构成适合在低电压下工作的新型集成电路,该电路比CMOS电路具有更大的电流驱动能力和更好的性能 对不同导电类型的SiGeSOIBMHMT、SiGeSOIMOSFET、SOIBMHMT和SOIMOSFET器件进行了工... 提出采用SiGe沟道SOI结构混合模式晶体管(SiGeSOIBMHMT)构成适合在低电压下工作的新型集成电路,该电路比CMOS电路具有更大的电流驱动能力和更好的性能 对不同导电类型的SiGeSOIBMHMT、SiGeSOIMOSFET、SOIBMHMT和SOIMOSFET器件进行了工艺模拟和器件模拟,结果表明,SiGeSOIBMHMT由于应变SiGe层中空穴迁移率的提高,阈值电压降低,存在衬底栅极和横向双极晶体管。 展开更多
关键词 SiGe沟道 soi结构 混合模式晶体管 设计 soi mosfet 动态阈值电压 横中双极晶体管
下载PDF
进入纳米时代的CMOS设计 被引量:1
16
作者 甘学温 黄爱华 +1 位作者 黄如 张兴 《世界科技研究与发展》 CSCD 2000年第3期48-52,共5页
本论文着重论述未来CMOS进入纳米尺寸的关键挑战 ,如 :电源电压和阈值电压减小、短沟效应、量子效应、杂质数起伏以及互连线延迟等影响。分析了纳米CMOS器件结构的设计 ,讨论了用于纳米尺寸的新型器件结构 ,包括SOICMOS、双栅和环栅MOS... 本论文着重论述未来CMOS进入纳米尺寸的关键挑战 ,如 :电源电压和阈值电压减小、短沟效应、量子效应、杂质数起伏以及互连线延迟等影响。分析了纳米CMOS器件结构的设计 ,讨论了用于纳米尺寸的新型器件结构 ,包括SOICMOS、双栅和环栅MOSFET、凹陷沟道MOSFET、动态阈值MOSFET以及低温CMOS ,它们可能把我们带至硅器件设计的最远极限。 展开更多
关键词 CMOS soi器件 纸温 CMOS纳米技术 设计
下载PDF
SOI器件中浮体效应的研究进展 被引量:2
17
作者 朱鸣 林成鲁 邢昆山 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2002年第3期297-302,共6页
SOI(SiliconOnInsulator)器件中氧化埋层的隔离作用带来的浮体效应,将显著地影响器件的性能。本文阐述了浮体效应产生的原因以及它对SOI器件和电路的影响,并从体接触和工艺角度两个方面介绍了目前国际上比较优异的抑制浮体效应的几种典... SOI(SiliconOnInsulator)器件中氧化埋层的隔离作用带来的浮体效应,将显著地影响器件的性能。本文阐述了浮体效应产生的原因以及它对SOI器件和电路的影响,并从体接触和工艺角度两个方面介绍了目前国际上比较优异的抑制浮体效应的几种典型器件结构。 展开更多
关键词 soi器件 浮体效应 研究进展 翘曲效应 寄生双极晶体管效应
原文传递
SOIMOSFET因辐照引起的部分耗尽与全耗尽过渡区的漂移 被引量:1
18
作者 万新恒 张兴 +2 位作者 黄如 甘学温 王阳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期358-361,共4页
首次报道了辐照所引起的 SOI/ MOS器件 PD (部分耗尽 )与 FD (全耗尽 )过渡区的漂移 .基于含总剂量辐照效应的 SOI MOSFET统一模型 ,模拟了 FD与 PD过渡区随辐照剂量的漂移 .讨论了辐照引起 FD与 PD器件转化的原因 ,进一步分析了 FD与
关键词 soi mosfet 辐照特性 过渡区 漂移 长效应晶体管
下载PDF
薄膜全耗尽SOI器件的二维数值模拟软件 被引量:1
19
作者 张兴 石涌泉 黄敞 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1995年第2期25-28,共4页
开发了适合于薄膜亚微米、深亚微米SOIMOSFET的二维数值模拟软件LADES—IV—Z.该模拟软件同时考虑了两种载流子的产生一复合作用,采用了独特的动态二步法求解油松方程和电子、空穴的电流连续性方程,从而大大提高了... 开发了适合于薄膜亚微米、深亚微米SOIMOSFET的二维数值模拟软件LADES—IV—Z.该模拟软件同时考虑了两种载流子的产生一复合作用,采用了独特的动态二步法求解油松方程和电子、空穴的电流连续性方程,从而大大提高了计算效率和收敛性.此模拟软件可用于分析沟道长度为0.15~0.5μm、硅膜厚度为50~400nm的SOI器件的工作机理及其端特性。模拟结果与实验结果比较,两者吻合较好,说明该模拟软件如实地反映了薄膜SOI器件的真实工作情况。 展开更多
关键词 soi 薄膜 二维 数值模拟软件
下载PDF
全耗尽SOI MOSFET亚阈值表面势的二维半解析模型 被引量:1
20
作者 常红 孙桂金 +1 位作者 杨菲 柯导明 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第1期75-81,共7页
根据SOI MOSFET的工作原理,在SOI MOSFET的氧化层、耗尽层和埋氧化层分别引入矩形等效源,提出了电势二维分布的定解问题.再通过半解析法、傅里叶级数展开法和积分法相结合对每个区域的定解问题进行求解,得到了定解问题的二维半解析解,... 根据SOI MOSFET的工作原理,在SOI MOSFET的氧化层、耗尽层和埋氧化层分别引入矩形等效源,提出了电势二维分布的定解问题.再通过半解析法、傅里叶级数展开法和积分法相结合对每个区域的定解问题进行求解,得到了定解问题的二维半解析解,解得结果是无穷级数形式的特殊函数.计算和仿真结果表明,提出的模型求解时精度高,运算量较小,可用于的电路模拟程序. 展开更多
关键词 soi MOSFE 短沟道效应 电势 半解析模型
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部