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高压SOI PLDMOS的寄生双沟道特性分析及其改进结构 被引量:2
1
作者 王靖琳 钱钦松 孙伟锋 《电子器件》 CAS 2009年第1期31-34,共4页
分析了存在于高压SOI PLDMOS器件中的寄生双沟道效应的产生机理,并提出了改进型的新结构。该结构有效地抑制了SOI PLDMOS器件的寄生双沟道效应,不但显著提高了器件的击穿电压,同时还改善了器件可靠性。借助二维器件仿真分析了器件耐压... 分析了存在于高压SOI PLDMOS器件中的寄生双沟道效应的产生机理,并提出了改进型的新结构。该结构有效地抑制了SOI PLDMOS器件的寄生双沟道效应,不但显著提高了器件的击穿电压,同时还改善了器件可靠性。借助二维器件仿真分析了器件耐压与电场分布和器件结构的关系。模拟结果表明,该结构使器件耐压由传统结构的109 V提高到213 V,突破了传统SOI PLDMOS器件的耐压值,明显地改善了器件特性。 展开更多
关键词 SOI pldmos 寄生效应 双沟道 击穿电压
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高压SOI pLDMOS总剂量辐射致BV退化研究 被引量:1
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作者 黄柯月 吴中华 +3 位作者 周淼 陈伟中 王钊 周锌 《微电子学》 CAS 北大核心 2022年第4期706-710,共5页
对高压SOI pLDMOS器件总剂量辐射效应进行了研究。分析了不同偏置条件下器件击穿电压的退化机理,并使用TCAD在不同氧化层界面引入固定陷阱电荷,仿真了电离辐射总剂量效应。结果表明,总剂量辐射在FOX和BOX引入辐射陷阱电荷Q_(BOX)和Q_(F... 对高压SOI pLDMOS器件总剂量辐射效应进行了研究。分析了不同偏置条件下器件击穿电压的退化机理,并使用TCAD在不同氧化层界面引入固定陷阱电荷,仿真了电离辐射总剂量效应。结果表明,总剂量辐射在FOX和BOX引入辐射陷阱电荷Q_(BOX)和Q_(FOX)。Q_(FOX)增加了漏极附近横向电场,降低了埋氧层电场,使击穿位置由体内转到表面,导致击穿电压退化。Q_(BOX)降低了埋氧层电场,降低了埋氧层压降,导致击穿电压退化。 展开更多
关键词 总剂量辐射 SOI pldmos 击穿电压 辐射陷阱电荷
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基于共享Buffer的LIGBT和PLDMOS器件研究 被引量:1
3
作者 张恩阳 黄勇 +1 位作者 孟令锋 代高强 《电子与封装》 2018年第2期46-48,共3页
介绍了基于共享Buffer技术的SOI(绝缘体上硅)LIGBT和PLDMOS,相对于传统工艺可以节约2层光刻板和2步工艺流程。主要通过研究在器件漏区的缓冲层特性,对器件特性影响明显。通过实验和仿真结果对比,共享Buffer技术的器件通过工艺和版图优... 介绍了基于共享Buffer技术的SOI(绝缘体上硅)LIGBT和PLDMOS,相对于传统工艺可以节约2层光刻板和2步工艺流程。主要通过研究在器件漏区的缓冲层特性,对器件特性影响明显。通过实验和仿真结果对比,共享Buffer技术的器件通过工艺和版图优化后能达到原有器件的表现性能。 展开更多
关键词 绝缘体上硅 LIGBT pldmos 共享Buffer
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200V高压SOI PLDMOS研究 被引量:1
4
作者 宋慧滨 李维聪 钱钦松 《电子器件》 CAS 2009年第5期880-883,共4页
提出了一种200V高压SOI PLDMOS器件结构,重点研究了SOI LDMOS的击穿电压、导通电阻等电参数与漂移区注入剂量、漏端缓冲层、Nbody注入剂量及场极板长度等之间的关系。经过专业半导体仿真软件TSUPREM-4和MEDICI模拟仿真,在0.8μm埋氧层... 提出了一种200V高压SOI PLDMOS器件结构,重点研究了SOI LDMOS的击穿电压、导通电阻等电参数与漂移区注入剂量、漏端缓冲层、Nbody注入剂量及场极板长度等之间的关系。经过专业半导体仿真软件TSUPREM-4和MEDICI模拟仿真,在0.8μm埋氧层、10μmSOI层材料上设计得到了关态耐压248V、开态饱和电流2.5×10-4A/μm、导通电阻2.1(105Ω*μm的SOI PLDMOS,该器件可以满足PDP扫描驱动芯片等的应用需求。 展开更多
关键词 击穿电压 导通电阻 SOI pldmos
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A high voltage SOI pLDMOS with a partial interface equipotential floating buried layer
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作者 吴丽娟 章文通 +1 位作者 张波 李肇基 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第7期97-101,共5页
A novel silicon-on-insulator(SOI) high-voltage pLDMOS is presented with a partial interface equipotential floating buried layer(FBL) and its analytical model is analyzed in this paper.The surface heavily doped p-t... A novel silicon-on-insulator(SOI) high-voltage pLDMOS is presented with a partial interface equipotential floating buried layer(FBL) and its analytical model is analyzed in this paper.The surface heavily doped p-top layers,interface floating buried N~+/P~+ layers,and three-step field plates are designed carefully in the FBL SOI pLDMOS to optimize the electric field distribution of the drift region and reduce the specific resistance.On the condition of ESIMOX(epoxy separated by implanted oxygen),it has been shown that the breakdown voltage of the FBL SOI pLDMOS is increased from-232 V of the conventional SOI to-425 V and the specific resistance R_(on,sp) is reduced from 0.88 to 0.2424Ω·cm^2. 展开更多
关键词 FBL SOI ENDIF pldmos Ron sp
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高压PLDMOS器件的优化设计
6
作者 肖金玉 《电子与封装》 2007年第1期23-28,共6页
借助半导体专业软件Tsuprem-4和Medici详细研究了漂移区的长度、浓度以及结深,沟道区的长度、浓度,场极板的长度对高压PLDMOS击穿电压的影响。最终得到一组最佳的PLDMOS器件的参数。优化设计的高压PLDMOS器件的流片测试结果为:关态和... 借助半导体专业软件Tsuprem-4和Medici详细研究了漂移区的长度、浓度以及结深,沟道区的长度、浓度,场极板的长度对高压PLDMOS击穿电压的影响。最终得到一组最佳的PLDMOS器件的参数。优化设计的高压PLDMOS器件的流片测试结果为:关态和开态击穿电压分别在200V和160V以上。 展开更多
关键词 pldmos 漂移区 沟道区 场极板
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Driving circuit with high accuracy and large driving capability for high voltage buck regulators
7
作者 李亚军 来新泉 +1 位作者 叶强 袁冰 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第12期106-113,共8页
This paper presents a novel driving circuit for the high-side switch of high voltage buck regulators.A 40 V P-channel lateral double-diffused metal–oxide–semiconductor device whose drain–source and drain–gate can ... This paper presents a novel driving circuit for the high-side switch of high voltage buck regulators.A 40 V P-channel lateral double-diffused metal–oxide–semiconductor device whose drain–source and drain–gate can resist high voltage, but whose source–gate must be less than 5 V, is used as the high-side switch. The proposed driving circuit provides a stable and accurate 5 V driving voltage for protecting the high-side switch from breakdown and achieving low on-resistance and simple loop stability design. Furthermore, the driving circuit with excellent driving capability decreases the switching loss and dead time is also developed to reduce the shoot-through current loss. Therefore, power efficiency is greatly improved. An asynchronous buck regulator with the proposed technique has been successfully fabricated by a 0.35 μm CDMOS technology. From the results, compared with the accuracy of16.38% of the driving voltage in conventional design, a high accuracy of 1.38% is achieved in this work. Moreover,power efficiency is up to 95% at 12 V input and 5 V output. 展开更多
关键词 high voltage buck regulator pldmos driving circuit dead time
原文传递
一种具有部分高k介质埋层的SOI场pLDMOS器件 被引量:1
8
作者 梁涛 杨文 +3 位作者 何逸涛 陈钢 乔明 张波 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2017年第1期114-117,共4页
提出了一种具有部分高k介质埋层的SOI场pLDMOS器件。将传统结构的部分埋氧层替换为介电常数更高的Si_3N_4,降低了漂移区的积累层电阻,使器件获得更低的比导通电阻,同时减弱了自热效应。与传统结构进行仿真对比,发现新结构基本保持了与... 提出了一种具有部分高k介质埋层的SOI场pLDMOS器件。将传统结构的部分埋氧层替换为介电常数更高的Si_3N_4,降低了漂移区的积累层电阻,使器件获得更低的比导通电阻,同时减弱了自热效应。与传统结构进行仿真对比,发现新结构基本保持了与传统结构相当的击穿电压,但比导通电阻降低了24%,最高温度降低了59%。 展开更多
关键词 部分高k 比导通电阻 击穿电压 自热效应 pldmos
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薄层SOI场pLDMOS击穿机理研究
9
作者 邓晓燕 李庆 +1 位作者 李娟 刘磊 《重庆邮电大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 2015年第2期219-223,共5页
为了解决薄层SOI(silicon-on-insulator)场LDMOS(laterally diffused metal oxide semiconductor)击穿电压偏低,容易发生背栅穿通的问题,提出一种基于场注入技术的薄层SOI场pLDMOS(p-channel lateral double-diffused MOSFET)。通过建... 为了解决薄层SOI(silicon-on-insulator)场LDMOS(laterally diffused metal oxide semiconductor)击穿电压偏低,容易发生背栅穿通的问题,提出一种基于场注入技术的薄层SOI场pLDMOS(p-channel lateral double-diffused MOSFET)。通过建立该场pLDMOS的穿通机制数学模型,分析了其4种击穿机理:背栅穿通、沟道横向穿通、横向雪崩击穿和纵向雪崩击穿。仿真结果表明,场注入技术穿过厚场氧层向下注入硼杂质,通过控制注入能量和体区浓度获得浅结深,从而提高器件对背栅穿通的抵抗力;优化的沟道长度和埋氧层厚度分别消除了沟道的横向穿通和纵向雪崩击穿;双层场板结构调制器件表面电场分布,避免了器件过早地横向雪崩击穿。在优化器件相关结构参数和工艺参数基础上,成功基于1.5μm厚顶层硅SOI材料研制出耐压300 V的场pLDMOS。相比较于常规厚层场pLDMOS器件,顶层硅厚度由大于5μm减小到1.5μm。 展开更多
关键词 薄层SOI pldmos 场注入技术 背栅效应 击穿机理
原文传递
考虑场板边缘效应的SOI-pLDMOS表面电场模型及器件优化设计
10
作者 叶然 张春伟 +1 位作者 刘斯扬 孙伟锋 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期214-218,共5页
针对带有栅极场板的绝缘体上硅p型横向双扩散场效应晶体管(SOI-p LDMOS),提出了一种新型表面电场解析模型.相比于传统模型,该模型充分考虑了场板边缘效应对电场分布的影响,验证结果显示新模型能更好地符合Medici数值仿真结果.此外,基于... 针对带有栅极场板的绝缘体上硅p型横向双扩散场效应晶体管(SOI-p LDMOS),提出了一种新型表面电场解析模型.相比于传统模型,该模型充分考虑了场板边缘效应对电场分布的影响,验证结果显示新模型能更好地符合Medici数值仿真结果.此外,基于所建立的器件表面电场模型,研究了栅极场板长度(包括多晶硅场板和金属场板)及漂移区掺杂浓度对器件表面电场分布和击穿特性的影响,进而对SOI-p LDMOS进行了优化设计.流片测试表明,所建立的新型表面电场解析模型能够很好地指导器件参数设计,实现了器件耐压和导通电阻的最佳折中. 展开更多
关键词 解析模型 表面电场 SOI-pldmos 边缘效应
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