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题名不同金属基体上W-C：H溅射薄膜的摩擦学性能
被引量：1
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作者
郑军
周晖
杨拉毛草
张延帅
翟广泉
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机构
兰州空间技术物理研究所
北京空间机电研究所
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出处
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第1期57-61,共5页
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文摘
采用非平衡磁控溅射技术在40Cr、9Cr18、GCr15、TC4及LY12等5种金属基体上沉积了钨掺杂含氢类金刚石（W-C：H）薄膜.采用Raman光谱仪、扫描电子显微镜、纳米硬度计及纳米划痕仪分别测试了薄膜的微结构、厚度、硬度及附着力,采用球-盘摩擦试验机及光学轮廓仪分别在干摩擦和PFPE脂润滑条件下评价了5种金属材料基体上薄膜的摩擦磨损性能.薄膜性能测试结果显示,该厚度为1μm的薄膜具有典型的类金刚石结构,硬度与弹性模量分别为11.56和128.34 GPa,附着力为645 mN;摩擦试验结果显示,在干摩擦条件下几种金属基体表面W-C：H薄膜的摩擦因数和磨损率差别比较显著,而在脂润滑条件下基体材料的影响较小;与干摩擦条件相比,脂润滑条件下薄膜的磨损可减少60％ ～75％;在干摩擦与脂润滑条件下,9Cr18与40Cr基体上的W-C：H薄膜摩擦体系分别具有最小的磨损率1.71×10-7 mm3/（N·m）及4.55×10-8 mm3/（N·m）.
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关键词
W-C:H薄膜
摩擦学
pepe润滑脂
力学性能
非平衡磁控溅射
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Keywords
W-C ： H films, Tribology, pepe lubricant, Mechanical properties, Ubalanced magnetron sputtering
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分类号
TH117.1
[机械工程—机械设计及理论]
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