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退火温度对BiFeO_3薄膜结构与性能的影响 被引量:2
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作者 王翠娟 张丰庆 +2 位作者 郭晓东 解肖斌 范素华 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第S1期13-15,共3页
采用溶胶-凝胶法在ITO/glass衬底上制备了BiFeO_3薄膜。研究了退火温度对BiFeO_3薄膜样品的晶体结构、显微结构和铁电性能的影响,退火温度分别为450,475,500和525℃。并分析了相关机理。结果表明:当退火温度不高于500℃时,薄膜结晶较好... 采用溶胶-凝胶法在ITO/glass衬底上制备了BiFeO_3薄膜。研究了退火温度对BiFeO_3薄膜样品的晶体结构、显微结构和铁电性能的影响,退火温度分别为450,475,500和525℃。并分析了相关机理。结果表明:当退火温度不高于500℃时,薄膜结晶较好,表面致密平整,随退火温度升高薄膜晶粒逐渐长大,当退火温度为500℃时,剩余极化强度Pr为62μC/cm^2;当退火温度增加到525℃时,薄膜表面晶粒较不均匀且出现了较多气孔,薄膜的铁电性能较差。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 BI Fe o3薄膜 退火温度 铁电性能
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高分子辅助化学溶液沉积法制备La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3/Si薄膜及电磁输运研究 被引量:1
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作者 刘其娅 张敏 宋婷婷 《人工晶体学报》 CSCD 北大核心 2017年第4期621-626,共6页
利用高分子辅助化学溶液沉积法在Si(100)衬底上外延生长La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜。并利用X射线衍射仪结果、扫描电子显微镜结果和电阻率-温度曲线(ρ-T曲线)结果、磁电阻(MR)曲线结果对其晶体结构、表面形貌和电磁输运机制进行了研究... 利用高分子辅助化学溶液沉积法在Si(100)衬底上外延生长La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜。并利用X射线衍射仪结果、扫描电子显微镜结果和电阻率-温度曲线(ρ-T曲线)结果、磁电阻(MR)曲线结果对其晶体结构、表面形貌和电磁输运机制进行了研究。结果显示实验制备的La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜为赝立方钙钛矿多晶结构,薄膜表面均匀平滑,结晶性好,晶粒尺寸约为50~70 nm。随着温度降低,薄膜电输运机制从绝缘体行为向转变金属导电行为。金属绝缘转变转变点温度(T_(MI))随磁场的增加而升高,在0 T和1 T分别为T_(MI)=238K、246 K。电输运测试结果说明,低温(T<T_(MI))时,电子-电子的散射对薄膜的电导性能起主导作用,高温(T>T_(MI))时薄膜按照绝热近似的小极化子输运。 展开更多
关键词 La0.7Sr0.3Mn o3薄膜 高分子辅助化学溶液沉积法 电磁输运性质
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利用无机盐制备γ-Al_2O_3粉体与薄膜的工艺技术研究 被引量:20
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作者 杨志华 余萍 +1 位作者 肖定全 王欢 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期474-476,共3页
 发明了γ Al2O3基陶瓷气敏传感器材料体系,并正研究其薄膜型传感器件。本文以廉价的无机盐Al(NO3)3·9H2O为原料,通过溶胶 凝胶法制备了勃姆石(γ AlOOH)溶胶,然后经干燥、煅烧制备了γ Al2O3的粉体,并通过旋转涂覆工艺制备了γ A...  发明了γ Al2O3基陶瓷气敏传感器材料体系,并正研究其薄膜型传感器件。本文以廉价的无机盐Al(NO3)3·9H2O为原料,通过溶胶 凝胶法制备了勃姆石(γ AlOOH)溶胶,然后经干燥、煅烧制备了γ Al2O3的粉体,并通过旋转涂覆工艺制备了γ Al2O3的薄膜,应用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)等现代分析技术对粉体的物相和薄膜的组分及表面形貌进行了表征,对γ AlOOH溶胶制备过程中的一些影响因素进行了探讨,得出了比较好的制备γ Al2O3基陶瓷粉体和薄膜型气敏传感器的工艺技术条件。 展开更多
关键词 无机盐先驱物 溶胶-凝胶法 陶瓷粉体 γ-Al2o3薄膜
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Al_2O_3薄膜的应用与制备 被引量:17
4
作者 刘永杰 刘忆 +1 位作者 董闯 邓新绿 《真空与低温》 2002年第4期236-240,共5页
Al2O3薄膜因其光学性能优良、机械强度与硬度高、透明性与绝缘性好、耐磨、抗蚀及化学惰性等特点而引起人们的极大兴趣,已经广泛地应用于光学、机械及微电子等领域。简述了Al2O3薄膜的应用及制备方法。
关键词 AL2o3薄膜 氧化铝 性能 应用 制备方法 光学机械 物理气相沉积 脉冲激光沉积 化学气相沉积
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离子束辅助沉积Al_2O_3薄膜的微观状态及其物理特性研究 被引量:13
5
作者 张庆瑜 赵文军 +3 位作者 王平生 王亮 徐久军 朱剑豪 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第2期123-128,共6页
本文利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段 ,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2 O3 薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化 ,并对Al2 O3 薄膜折射率、显微硬度和膜基结合强度... 本文利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段 ,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2 O3 薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化 ,并对Al2 O3 薄膜折射率、显微硬度和膜基结合强度等物理特性及其随沉积温度的变化进行了详细研究。研究发现 :用离子束辅助沉积制备的薄膜基本满足Al2 O3 的标准成分配比 ;在沉积温度低于 5 0 0℃制备的Al2 O3 薄膜以非晶Al2 O3 相a Al2 O3 为主 ;Al2 O3 薄膜的表面粗糙度、折射率、显微硬度随沉积温度的增加而增加 ;当沉积温度高于 2 0 0℃时 ,薄膜与基体间的膜基结合强度将随沉积温度的增加而下降。分析表明 :薄膜表面形貌与晶体内部的结构相变有关 ,薄膜的退火相变途径为a Al2 O380 0℃ γ Al2 O310 0 0℃ γ Al2 O3 +α Al2 O312 0 0℃ α Al2 O3 。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 A12o3薄膜 微观结构 表面形貌 物理特性 氧化铝薄膜
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电弧离子镀氧化铬涂层的组织结构及硬度 被引量:14
6
作者 纪爱玲 汪伟 +3 位作者 宋贵宏 汪爱英 孙超 闻立时 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期979-983,共5页
采用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积Cr2O3薄膜.研究了氧流量和脉冲偏压对薄膜相结构、沉积速率、表面形貌、薄膜硬度的影响.结果表明,氧流量和脉冲偏压对薄膜的相结构有较大的影响.在氧流量为130 cm3/s、脉冲偏压为-100V时,出现Cr2O3... 采用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积Cr2O3薄膜.研究了氧流量和脉冲偏压对薄膜相结构、沉积速率、表面形貌、薄膜硬度的影响.结果表明,氧流量和脉冲偏压对薄膜的相结构有较大的影响.在氧流量为130 cm3/s、脉冲偏压为-100V时,出现Cr2O3{001}面择优取向;氧流量增高,脉冲偏压增大时,薄膜的表面形貌得到改善;在脉冲偏压为-200 V、氧流量为130 cm3/s时,可获得符合Cr2O3化学计量比的薄膜,其硬度达到36 GPa. 展开更多
关键词 Cr2o3薄膜 电弧离子镀 组织结构 脉冲偏压
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原子层淀积Al_2O_3薄膜的热稳定性研究 被引量:16
7
作者 卢红亮 徐敏 +2 位作者 丁士进 任杰 张卫 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期1217-1222,共6页
以Al(CH3)3和H2O为反应源,在270℃下用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜.采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)等分析手段对Al2O3薄膜的热稳定性进行了研究.结果表... 以Al(CH3)3和H2O为反应源,在270℃下用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜.采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)等分析手段对Al2O3薄膜的热稳定性进行了研究.结果表明刚淀积的薄膜中含有少量Al-OH基团,高温退火后,Al-OH基团几乎消失,这归因于Al-OH基团之间发生反应而脱水.退火后的薄膜中O和Al元素的相对比例(1.52)比退火前的(1.57)更接近化学计量比的Al2O3.FTIR分析表明,在刚淀积的Al2O3中有少量的-CH3存在,-CH3含量会随热处理温度的升高而减少.此外,在高温快速热退火后,Al2O3薄膜的表面平均粗糙度(RMS)明显改善,900℃热退火后其RMS达到1.15nm. 展开更多
关键词 AL2o3薄膜 原子层淀积(ALD) X射线光电子能谱(XPS)
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原子层沉积制备Al_2O_3薄膜的光学性能研究 被引量:16
8
作者 何俊鹏 章岳光 +2 位作者 沈伟东 刘旭 顾培夫 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期277-282,共6页
研究了原子层沉积制备氧化铝薄膜的光学性能。以三甲基铝(TMA)和水为前聚体,分别在基板温度为250℃和300℃的K9和石英玻璃衬底上沉积了Al2O3光学薄膜。采用分光光度计,X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),扫描电子... 研究了原子层沉积制备氧化铝薄膜的光学性能。以三甲基铝(TMA)和水为前聚体,分别在基板温度为250℃和300℃的K9和石英玻璃衬底上沉积了Al2O3光学薄膜。采用分光光度计,X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),扫描电子显微镜(SEM)等分析手段对薄膜的微结构、表面形貌和光学特性进行了研究。结果表明,原子层沉积法制备的Al2O3薄膜在退火前后均呈现无定形结构,元素成分接近化学计量比,其表面粗糙度小于1.2nm,聚集密度高于0.97,光学非均匀性优于1%。同时在中紫外到近红外均有很好的光学性能,适合作为中间折射率和低折射率材料在光学薄膜中得到应用。 展开更多
关键词 薄膜光学 原子层淀积 A12o3薄膜 光学特性
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溶胶-凝胶法在碳化硅表面浸涂氧化铝薄膜的研究 被引量:12
9
作者 张庆勇 王浩 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 2002年第2期63-66,共4页
研究了以异丙醇铝为主要原料 ,异丙醇为熔剂 ,添加乙酰乙酸乙酯作为螯合剂 ,利用溶胶 -凝胶法在碳化硅表面浸涂厚约 0 .5 μm的Al2 O3 多晶膜。用XRD ,IR ,SEM ,TG DTA等测试手段详细研究了涂膜在加热过程中所发生的物理 -化学变化。
关键词 表面浸涂 氧化铝薄膜 异丙醇 原料 异丙醇 熔剂 乙酰乙酸乙酯 螯合剂 溶胶-凝胶法 AL2o3薄膜 碳化硅
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准分布式光纤表面等离子体波传感器 被引量:15
10
作者 曾捷 梁大开 +1 位作者 杜艳 曾振武 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期243-248,共6页
研究了一种基于波分复用原理的准分布式光纤表面等离子体波传感器。应用光波导理论和多层膜反射理论分析了表面等离子体波效应在同一光纤探头中连续被激励的原理及其传感模型。通过数值模拟和相应实验分别考察了蒸镀调制层对表面等离子... 研究了一种基于波分复用原理的准分布式光纤表面等离子体波传感器。应用光波导理论和多层膜反射理论分析了表面等离子体波效应在同一光纤探头中连续被激励的原理及其传感模型。通过数值模拟和相应实验分别考察了蒸镀调制层对表面等离子体波共振(SPR)效果的影响,并在此基础上给出了设计的一般步骤和原则。实验结果表明,蒸镀不同厚度的Ta2O5薄膜将导致表面等离子体波共振光谱发生偏移,且随着膜厚增加而逐渐发生红移;当液体折射率no处于1.333~1.388之间时,蒸镀有Ta2O5薄膜的光纤表面等离子体波传感器波长灵敏度达到2235nm/RIU(Refractive Index Unit);通过在一支光纤探头上依次加工两个表面等离子体波传感区域,实现了对光波信号的连续调制。 展开更多
关键词 光纤光学 表面等离子体波共振传感器 准分布式 Ta2o3薄膜
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溶胶-凝胶(sol-gel)法制作掺铒Al_2O_3薄膜及其光致发光光谱特性测量 被引量:11
11
作者 李成仁 宋昌烈 +1 位作者 李淑凤 高景生 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1514-1517,共4页
介绍一种用溶胶 凝胶方法制作掺铒Al2 O3薄膜的工艺 实验测量了薄膜样品的光致发光光谱特性 结果表明光致发光光谱的峰值波长为 1.5 36 μm ,半值宽度为 34nm ;同时测量了光致发光光谱的峰值强度与泵浦功率。
关键词 sol—gel法 掺铒Al2o3薄膜 光致发光特性
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等离子体源增强磁控溅射沉积Al_2O_3薄膜研究 被引量:9
12
作者 雷明凯 袁力江 张仲麟 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期887-890,共4页
采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O... 采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O3体材料相当. 展开更多
关键词 等离子体源 磁控溅射沉积 AL2o3薄膜 氧化铝薄膜 折射率 结构 光学性能
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泡沫镍负载TiO_2和TiO_2/Al_2O_3薄膜的光催化性能研究 被引量:13
13
作者 胡海 肖文浚 +2 位作者 袁坚 施建伟 上官文峰 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期363-368,共6页
以泡沫镍为载体,Al2O3作为过渡中间层,用溶胶-凝胶法在泡沫镍上负载锐钛矿相的TiO2薄膜,制成泡沫金属基的TiO2和TiO2/Al2O3光催化剂,利用XRD和FE-SEM等测试手段对其性质进行表征,用乙醛气体的光催化降解测试其活性.研究表明:泡沫镍负... 以泡沫镍为载体,Al2O3作为过渡中间层,用溶胶-凝胶法在泡沫镍上负载锐钛矿相的TiO2薄膜,制成泡沫金属基的TiO2和TiO2/Al2O3光催化剂,利用XRD和FE-SEM等测试手段对其性质进行表征,用乙醛气体的光催化降解测试其活性.研究表明:泡沫镍负载的TiO2和TiO2/Al2O3薄膜具有良好的光催化活性,特别是TiO2/Al2O3薄膜具有更高的催化活性.这是由于负载的Al2O3过渡中间层增大了载体的比表面积,具有吸附浓缩作用,同时也增加了负载光催化剂的活性位数量.实验表明: TiO2/Al2O3薄膜的光催化活性和稳定性较单一的TiO2薄膜有非常显著的提高. 展开更多
关键词 光催化 泡沫镍 Tio2/Al2o3薄膜 乙醛降解
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RF磁控溅射制备Al_2O_3薄膜及其介电性能研究 被引量:12
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作者 刘红飞 程晓农 +2 位作者 徐桂芳 张志萍 付廷波 《材料开发与应用》 CAS 2007年第1期5-8,共4页
以-αAl2O3为靶材,采用射频磁控溅射法制备了非晶Al2O3薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、划痕仪、表面粗糙轮廓仪和阻抗仪研究了不同溅射功率和不同溅射气压对薄膜制备的影响,探索了不同溅射功率下制备的Al2O3薄膜的介电常数和介电损... 以-αAl2O3为靶材,采用射频磁控溅射法制备了非晶Al2O3薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、划痕仪、表面粗糙轮廓仪和阻抗仪研究了不同溅射功率和不同溅射气压对薄膜制备的影响,探索了不同溅射功率下制备的Al2O3薄膜的介电常数和介电损耗与频率的关系。试验结果表明,制备的非晶Al2O3薄膜表面平滑致密;随着工作气压的增加,薄膜沉积速率增加;随着溅射功率的增加,Al2O3薄膜的沉积速率和介电常数逐渐增加、介电损耗逐渐减小;随着频率的增加,Al2O3薄膜的介电常数逐渐减小,高频阶段趋于稳定。 展开更多
关键词 AL2o3薄膜 RF磁控溅射 沉积速率 介电损耗 介电常数
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中频溅射技术沉积镱铒共掺Al_2O_3薄膜光致发光 被引量:10
15
作者 高景生 宋昌烈 +4 位作者 李成仁 李淑凤 宋琦 黄开玉 李国卿 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1162-1165,1180,共5页
用中频孪生靶溅射法在硅片上制备了镱铒共掺氧化铝薄膜(2cm×2cm),在室温下检测到薄膜的位于1535nm的很强的光致发光光谱(PL),讨论了泵浦功率、镱铒共掺比例、退火温度对光致发光光谱强度的影响。扫描电镜(SEM)观察分析表明,中频孪... 用中频孪生靶溅射法在硅片上制备了镱铒共掺氧化铝薄膜(2cm×2cm),在室温下检测到薄膜的位于1535nm的很强的光致发光光谱(PL),讨论了泵浦功率、镱铒共掺比例、退火温度对光致发光光谱强度的影响。扫描电镜(SEM)观察分析表明,中频孪生靶溅射法沉积的薄膜致密、均匀、光学缺陷少。实验结果表明:镱铒共掺薄膜的荧光强度不随泵浦功率的增加而饱和,最佳的镱铒共掺杂比例9∶1,最佳退火温度850℃,对各种实验结果给出了理论的解释。 展开更多
关键词 泵浦功率 中频 光致发光光谱 AL2o3薄膜 硅片 溅射法 退火温度 孪生 氧化铝薄膜 沉积
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多晶Al_2O_3薄膜的制备及工艺研究 被引量:7
16
作者 刘建 杨东 《真空与低温》 2001年第4期204-206,240,共4页
高能氩离子束溅射金属铝靶 ,沉积在SiO2 基片上的非晶薄膜是Al和Al2 O3的混合物。非晶薄膜在空气中 80 0~ 10 0 0℃退火后将完全氧化并晶化而成γ -Al2 O3、∝ -Al2 O3。对溅射镀膜的工艺条件也进行了探索。
关键词 AL2o3薄膜 溅射 退火 氧化铝 非晶薄膜 镀膜工艺 二氧化硅基片 制备
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中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质 被引量:10
17
作者 廖国进 闻立时 +1 位作者 巴德纯 刘斯明 《东北大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期687-691,共5页
采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长... 采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长相互关系的分析,获得了Al2O3薄膜在400-1100 nm区域内的折射率、吸收系数与入射光波长的关系式,以及Al2O3薄膜厚度的计算公式. 展开更多
关键词 AL2o3薄膜 光学性质 折射率 吸收系数 膜厚度
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掺Er Al_2O_3光波导薄膜材料的制备及光学特性 被引量:6
18
作者 李淑凤 宋昌烈 +2 位作者 李成仁 饶文雄 雷明凯 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期344-349,共6页
 介绍了掺ErAl2O3光波导薄膜的四种典型制备方法的研究结果。比较铒的发光环境和发光特性,分析了影响光致发光强度和寿命的条件和因素。不同工艺制得的Er∶Al2O3薄膜,膜内成分、膜的晶相、掺杂浓度等对Er3+的发光特性均有影响。退火对...  介绍了掺ErAl2O3光波导薄膜的四种典型制备方法的研究结果。比较铒的发光环境和发光特性,分析了影响光致发光强度和寿命的条件和因素。不同工艺制得的Er∶Al2O3薄膜,膜内成分、膜的晶相、掺杂浓度等对Er3+的发光特性均有影响。退火对发光特性及材料具有改善作用。 展开更多
关键词 光波导 Er∶Al2o3薄膜 PL特性
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Mn掺杂Ga_2O_3薄膜的结构及光吸收性能研究 被引量:9
19
作者 胡帆 晁明举 +1 位作者 梁二军 姜雅丽 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第16期16-18,21,共4页
采用磁控溅射法在Si(111)和玻璃衬底上制备出不同Mn掺杂含量的Ga2O3薄膜,使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计等对Mn掺杂Ga2O3薄膜的表面形貌、结晶特性和光吸收性能进行了研究。结果表明,适量掺杂Mn可... 采用磁控溅射法在Si(111)和玻璃衬底上制备出不同Mn掺杂含量的Ga2O3薄膜,使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计等对Mn掺杂Ga2O3薄膜的表面形貌、结晶特性和光吸收性能进行了研究。结果表明,适量掺杂Mn可抑制薄膜的晶格膨胀,促进Ga2O3薄膜晶粒的定向生长,得到尺寸分布较均匀的多面体晶粒。Mn掺杂使Ga2O3价带顶向带隙延伸,光学带隙变窄,吸收边红移,近紫外区吸收增强。 展开更多
关键词 Ga2o3薄膜 MN掺杂 磁控溅射 微观结构 光吸收性能
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非晶Er2O3高k栅介质薄膜的制备及结构特性研究 被引量:7
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作者 方泽波 谭永胜 +2 位作者 朱燕艳 陈圣 蒋最敏 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期357-360,共4页
采用高真空反应蒸发法在未加热的p型Si(100)衬底上实现了非晶Er_2O_3高k栅介质薄膜的生长.俄歇电子能谱证实薄膜组分符合化学剂量比.X射线衍射、反射式高能电子衍射和高分辨透射电子显微镜测量表明,不但原位沉积的薄膜是非晶结构,而且... 采用高真空反应蒸发法在未加热的p型Si(100)衬底上实现了非晶Er_2O_3高k栅介质薄膜的生长.俄歇电子能谱证实薄膜组分符合化学剂量比.X射线衍射、反射式高能电子衍射和高分辨透射电子显微镜测量表明,不但原位沉积的薄膜是非晶结构,而且高真空700℃退火30min后样品仍保持了良好的非晶稳定性.原子力显微镜检测显示高真空退火有利于改善薄膜的表面形貌.退火后,Er_2O_3薄膜获得了平整的表面.电容一电压测试得到薄膜的有效介电常数为12.6,EOT为1.4nm,在1MV/cm时漏电流密度为8×10^(-4)A/cm^2.这些特征表明非晶Er_2O_3薄膜是一种较好的高k栅介质候选材料. 展开更多
关键词 高K栅介质 Er2o3薄膜 反应蒸发
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