期刊文献+
共找到4篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
制备工艺对磁控溅射Mo-N薄膜微结构和性能的影响 被引量:2
1
作者 鞠洪博 喻利花 许俊华 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期469-472,共4页
采用射频磁控溅射法,研究靶功率、氩氮比对Mo-N薄膜相结构、显微硬度和摩擦性能的影响。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、摩擦磨损测试仪和扫描电子显微镜对薄膜的成分、结构和性能进行表征。研究表明:靶功率对Mo-N薄膜相结构、硬度和摩... 采用射频磁控溅射法,研究靶功率、氩氮比对Mo-N薄膜相结构、显微硬度和摩擦性能的影响。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、摩擦磨损测试仪和扫描电子显微镜对薄膜的成分、结构和性能进行表征。研究表明:靶功率对Mo-N薄膜相结构、硬度和摩擦性能的影响不大;随氩氮比的降低,薄膜相结构由单一的立方γ-Mo2N转变为立方γ-Mo2N与六方δ-MoN两相共存,硬度发生大幅下降,薄膜平均摩擦系数升高。 展开更多
关键词 磁控溅射 mo-n薄膜 相结构 硬度和摩擦性能
下载PDF
金属Y掺杂Mo-N薄膜的机械性能和摩擦学性质研究
2
作者 栾书多 张佳鑫 顾广瑞 《延边大学学报(自然科学版)》 CAS 2020年第2期122-128,共7页
利用射频磁控和直流磁控共溅射的方法制备了金属Y掺杂的Mo-N薄膜.对制备的薄膜样品进行元素组成、微观结构、表面形貌、摩擦学性质分析显示:薄膜的择优取向由未掺杂时的γ-Mo2N (111)改变为Y掺杂后的γ-Mo2N (200).与未掺杂的Mo-N薄膜... 利用射频磁控和直流磁控共溅射的方法制备了金属Y掺杂的Mo-N薄膜.对制备的薄膜样品进行元素组成、微观结构、表面形貌、摩擦学性质分析显示:薄膜的择优取向由未掺杂时的γ-Mo2N (111)改变为Y掺杂后的γ-Mo2N (200).与未掺杂的Mo-N薄膜相比较,所制备的MoYN薄膜的硬度明显降低,但耐磨性和平均摩擦系数均有所改善.其中Y掺杂含量为9.44at%时,薄膜的耐磨性为最佳,平均摩擦系数为最小(0.283),硬度为(24.13±3.15) GPa. 展开更多
关键词 磁控共溅射 mo-n薄膜 摩擦学性能
下载PDF
环境温度对Ti-Mo-N薄膜摩擦磨损性能的影响 被引量:1
3
作者 鞠洪博 汪然 +1 位作者 喻利花 许俊华 《江苏科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第5期12-17,共6页
采用多靶共聚焦射频磁控溅射仪制备了Mo含量为46.0%的Ti-Mo-N薄膜,研究了不同环境温度对薄膜摩擦磨损性能的影响.结果表明,Ti-Mo-N薄膜平均摩擦系数(μ)及磨损率(W)受环境温度影响很大,根据其变化趋势,可将环境温度分为3个区间(A,B,C),... 采用多靶共聚焦射频磁控溅射仪制备了Mo含量为46.0%的Ti-Mo-N薄膜,研究了不同环境温度对薄膜摩擦磨损性能的影响.结果表明,Ti-Mo-N薄膜平均摩擦系数(μ)及磨损率(W)受环境温度影响很大,根据其变化趋势,可将环境温度分为3个区间(A,B,C),对应环境温度范围分别为25~200℃、200~300℃、300~600℃.随环境温度升高,区间A内μ逐渐升高,W略有降低;区间B内μ及W基本保持稳定;区间C内μ逐渐降低,W逐渐升高.分析认为磨痕中具有自润滑作用的氧化相的量是导致薄膜μ及W出现上述变化趋势的主要原因. 展开更多
关键词 磁控溅射 Ti-mo-n薄膜 环境温度 氧化物量 摩擦磨损性能
下载PDF
Mo-N基薄膜的研究进展 被引量:1
4
作者 刘晨凯 鞠洪博 +2 位作者 赵子彤 许俊华 喻丽花 《装备机械》 2020年第2期7-11,共5页
Mo-N基薄膜具有较高的硬度和较强的稳定性,在刀具行业中有广泛应用。从Mo2N薄膜、纳米多层膜、纳米复合膜等角度介绍了Mo-N基薄膜的研究进展。
关键词 mo-n薄膜 研究 进展
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部