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传感器用薄膜循环吸脱氢性能设计
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作者 孙中华 邓南香 《机械设计》 CSCD 北大核心 2024年第S02期128-131,共4页
镁基薄膜在光纤氢气传感器中应用较为广泛,但氢化时镁基薄膜氢化Pd层容易破碎,以及Mg层内容易形成致密氢化层,使得镁基薄膜的使用寿命较短。Gd由于氢化时体积变化小,有望改善镁基薄膜的循环氢化性能。然而,不同Gd元素的添加对Pd/Mg-Gd... 镁基薄膜在光纤氢气传感器中应用较为广泛,但氢化时镁基薄膜氢化Pd层容易破碎,以及Mg层内容易形成致密氢化层,使得镁基薄膜的使用寿命较短。Gd由于氢化时体积变化小,有望改善镁基薄膜的循环氢化性能。然而,不同Gd元素的添加对Pd/Mg-Gd薄膜吸脱氢循环性能影响的研究较为匮乏,使用磁控溅射制备Fluorocarbon(FC)/Pd/MgGd合金薄膜,并研究了其循环氢化性能。当Gd的原子数分数在0.27~0.8时,薄膜具有较好的循环氢化性能,在140次完全吸脱氢后吸脱氢速率和光学变化区间仍旧保持较好,这是由于此时Mg-Gd合金薄膜吸脱氢反应时体积变化与Pd层相近的缘故。此外,Mg-Gd合金随着添加的Gd量的增加,材料的晶格带隙变小,因而,介电函数的实部数值越小,反射率越小。 展开更多
关键词 循环吸脱氢 磁控溅射 mg-gd薄膜 氢气传感器
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