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瞬态热量标定系统的太阳模拟器光学系统设计 被引量:11
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作者 顾国超 王丽 +2 位作者 刘洪波 高雁 陈家琦 《中国光学》 EI CAS 2012年第6期630-638,共9页
设计了一种应用于瞬时热量标定系统的太阳模拟器光学系统,系统由短弧氙灯、椭球聚光镜和通道反射式积分器组成。介绍了椭球聚光镜的设计准则和限制要求,分析了积分器的工作原理和体均匀性,讨论了辐照面大小要求和安装空间的限制,最后,... 设计了一种应用于瞬时热量标定系统的太阳模拟器光学系统,系统由短弧氙灯、椭球聚光镜和通道反射式积分器组成。介绍了椭球聚光镜的设计准则和限制要求,分析了积分器的工作原理和体均匀性,讨论了辐照面大小要求和安装空间的限制,最后,优化了系统设计并进行了仿真模拟。仿真结果表明,当选用近轴放大倍率为4.5、积分器管长为85 mm时,若采用7 000 W氙灯,即能够获得3%的均匀性和4 250个太阳常数的辐照强度;若采用5 000 W氙灯,则可在均匀性不变的情况下获得2 980个太阳常数的辐照强度,两者均满足使用要求。 展开更多
关键词 太阳模拟器 氙灯 瞬态热量标定系统 光学系统 高能量密度 高均匀性
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基于激光振镜的高稳定辐照度定标光源
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作者 林雨辰 董航 +4 位作者 叶新 费义艳 张程睿 方伟 衣小龙 《应用光学》 CAS 北大核心 2024年第1期206-214,共9页
获取高均匀性、高稳定性的光源是太阳绝对辐射计辐射照度定标的关键技术,实验室现有光源无法同时满足均匀性与稳定性。因此,该文提出通过振镜扫描的方式来获取高均匀、高稳定的面光源方案。首先,建立二维激光扫描模型,设计以快速扫描振... 获取高均匀性、高稳定性的光源是太阳绝对辐射计辐射照度定标的关键技术,实验室现有光源无法同时满足均匀性与稳定性。因此,该文提出通过振镜扫描的方式来获取高均匀、高稳定的面光源方案。首先,建立二维激光扫描模型,设计以快速扫描振镜和离轴抛面镜为核心的光学系统;其次,根据振镜扫描系统建立驱动,开发控制软件,设计三种扫描路径;最后,选取合适的扫描路径进行实验验证,并开展其均匀性、稳定性等方面的测试。实验结果表明:振镜扫描光斑的不均匀性优于±1%,发散角小于±0.26°,光源稳定性优于0.02%。验证了激光振镜扫描光源可作为绝对辐射计辐照度定标光源的可行性,为实现高精度太阳辐照度定标提供关键技术支撑及实验依据。 展开更多
关键词 太阳绝对辐射计 振镜扫描 离轴准直 高均匀性 高稳定性
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高均匀性1×128 SiC紫外雪崩光电二极管探测阵列
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作者 李红旭 苏琳琳 杨成东 《电子元件与材料》 CAS 北大核心 2024年第7期804-808,共5页
主要研究了SiC雪崩光电二极管(APD)阵列对微弱紫外光的探测均匀性问题,设计并制备了1×128 SiC APD探测阵列,通过表征各像素点的电流-电压曲线,提取出APD阵列的击穿电压波动在±0.1 V;通过被动淬灭电路表征各像素点的微弱紫外... 主要研究了SiC雪崩光电二极管(APD)阵列对微弱紫外光的探测均匀性问题,设计并制备了1×128 SiC APD探测阵列,通过表征各像素点的电流-电压曲线,提取出APD阵列的击穿电压波动在±0.1 V;通过被动淬灭电路表征各像素点的微弱紫外光探测能力,提取出APD阵列的暗计数率波动在±0.5 Hz/μm^(2),单光子探测效率波动在±0.4%,良率达到91%,结果表明本工作设计的SiC APD探测阵列能够为微弱紫外光成像技术提供可行的技术方案。 展开更多
关键词 雪崩光电二极管 SIC 探测阵列 高均匀性 良率
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大面积高均匀度平行光曝光机用自由曲面复眼透镜设计 被引量:5
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作者 陈忠雨 尹韶云 +2 位作者 孙秀辉 江海波 杜春雷 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2018年第4期333-339,共7页
大面积平行光曝光机是印刷线路板(PCB)、显示面板和触摸屏等电子产品重要的制造设备,由于采用复眼结合反射镜的非轴对称科勒照明光路,其曝光均匀度只有0.85左右,难以满足高精度加工制造的需求。针对此问题,提出了采用自由曲面复眼替代... 大面积平行光曝光机是印刷线路板(PCB)、显示面板和触摸屏等电子产品重要的制造设备,由于采用复眼结合反射镜的非轴对称科勒照明光路,其曝光均匀度只有0.85左右,难以满足高精度加工制造的需求。针对此问题,提出了采用自由曲面复眼替代传统的球面复眼,建立了高均匀度复眼单元的自由曲面面型设计方法。光线追迹仿真实验结果显示,采用所提方法后曝光均匀度提高到了0.91以上,满足高精度加工制造所需的高曝光均匀度的要求。所设计的自由曲面复眼的面型连续,可以通过金刚石车削进行精密加工,有望在大面积平行光曝光机照明光路中得到广泛应用。 展开更多
关键词 光学设计 高均匀度 自由曲面 曝光机 复眼透镜
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高功率高均匀性稳态硬X射线辐照装置研制
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作者 刘平 赵伟 +5 位作者 李建北 秦臻 黄刚 向军 李天涛 夏连胜 《真空电子技术》 2023年第3期65-69,共5页
X射线辐照广泛应用于农业育种、材料改性、器械消毒和电子设备抗核加固设计等诸多领域。本文介绍了一种高功率、高剂量均匀性的紧凑型硬X射线辐照源的研制,针对辐照的剂量率、空间均匀性、能谱等需求,通过蒙特卡罗模拟方法进行优化设计... X射线辐照广泛应用于农业育种、材料改性、器械消毒和电子设备抗核加固设计等诸多领域。本文介绍了一种高功率、高剂量均匀性的紧凑型硬X射线辐照源的研制,针对辐照的剂量率、空间均匀性、能谱等需求,通过蒙特卡罗模拟方法进行优化设计,结合长期运行可靠性对电源的要求等,采用了“三明治”型结构X射线输出窗,工作电压为225 kV,总功率为9 kW。研制的样机经过测试,在距离靶点150~200 cm的Φ500 mm辐照空间内剂量率不均匀度优于3 dB,平均剂量率最大约39.72 Gy/h,X射线能谱的平均能量约为59.88 keV。该辐照源已经在电子设备抗核加固设计、病毒辐照效应等领域得到应用。 展开更多
关键词 硬X射线源 高功率 高均匀性 辐照
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基于反馈加权3D-GS算法的三维多焦点调控方法研究
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作者 翟中生 李梦雨 +3 位作者 吕清花 王选择 冯维 熊芝 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期112-120,共9页
针对超快激光三维多焦点均匀性不高的问题,本文提出了一种基于反馈加权3D-GS算法的三维多焦点光场重建技术。用CCD相机实时采集多焦点的能量和位置信息,优化全息图,然后将优化后的全息图加载至空间光调制器,得到目标结构的高均匀性三维... 针对超快激光三维多焦点均匀性不高的问题,本文提出了一种基于反馈加权3D-GS算法的三维多焦点光场重建技术。用CCD相机实时采集多焦点的能量和位置信息,优化全息图,然后将优化后的全息图加载至空间光调制器,得到目标结构的高均匀性三维多焦点光束。利用此方法实现了4个面47个点的“HBUT”三维多焦点结构以及15个面15个点的三维多焦点螺旋结构,前者的多光束均匀性超过了96%,后者的多光束均匀性达到了94%。将传统3D-GS算法与反馈加权3D-GS算法迭代计算得到的上述两种结构的多焦点能量分布结果进行对比,结果显示,反馈加权3D-GS算法能有效提高三维多焦点的焦斑能量分布均匀性。 展开更多
关键词 激光光学 反馈加权3D-GS算法 三维多焦点 光场重建 高均匀性 空间光调制器
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一种用于非制冷红外焦平面阵列的低噪声高均匀性读出电路(英文) 被引量:3
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作者 周同 何勇 +2 位作者 赵健 姜波 苏岩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第3期261-268,共8页
提出了一种高均匀性低噪声的读出电路,该电路通过抑制非制冷红外焦平面阵列固定模式噪声,从而可实现高质量的红外图像.该电路前端采用了行共享的增益可控NMOS管抑制像元固定模式噪声,同时采用了新型的相关双采样电路抑制列固定模式噪声... 提出了一种高均匀性低噪声的读出电路,该电路通过抑制非制冷红外焦平面阵列固定模式噪声,从而可实现高质量的红外图像.该电路前端采用了行共享的增益可控NMOS管抑制像元固定模式噪声,同时采用了新型的相关双采样电路抑制列固定模式噪声.在仿真基础上,采用了AMS 0.35μm CMOS工艺完成了16×16像元芯片的制备.对芯片的大量测试结果表明提出的读出电路可以有效地降低非制冷红外焦平面阵列的固定模式噪声,同时具有高均匀性的特点,适用于高性能非制冷红外探测器. 展开更多
关键词 读出电路 固定模式噪声抑制 相关双采样 高均匀性
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小圆形平面靶倾斜磁控溅射镀膜均匀性研究 被引量:3
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作者 付学成 徐锦滨 +2 位作者 乌李瑛 黄胜利 王英 《真空》 CAS 2021年第4期1-5,共5页
基于小圆形平面靶倾斜磁控溅射的实际情况,针对靶材环形刻蚀槽与水平工件台存在夹角的特点,建立数学模型。利用MATLAB软件进行模拟仿真,研究靶材与工件台正对且高度固定时,不同夹角对膜厚分布的影响。我们发现在工件台相对靶材的水平距... 基于小圆形平面靶倾斜磁控溅射的实际情况,针对靶材环形刻蚀槽与水平工件台存在夹角的特点,建立数学模型。利用MATLAB软件进行模拟仿真,研究靶材与工件台正对且高度固定时,不同夹角对膜厚分布的影响。我们发现在工件台相对靶材的水平距离上,膜厚先增加后降低。当靶材夹角适当时,在工件台固定的区域范围内,薄膜沉积速率的变化近似直线。根据薄膜厚度在工件台水平面呈圆弧状递减分布实际特点,模拟出在4英寸的衬底上片内均匀性。根据模拟结果,我们在4英寸的衬底上制备出片内非均匀性小于0.6%的氮化钽薄膜,验证了数学模型的合理性,并解释了非均匀性的实验结果优于模拟计算结果的原因。这为设计制造磁控溅射镀膜设备提供了参考。 展开更多
关键词 圆形平面靶 磁控溅射 倾斜溅射 数学模型 高均匀性
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Highly uniform and nonlinear selection device based on trapezoidal band structure for high density nano- crossbar memory array 被引量:1
9
作者 Qing Luo Xiaoxin Xu +5 位作者 Hangbing Lv Tiancheng Gong Shibing Long Qi Liu Ling Li Ming Liu 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第10期3295-3302,共8页
Crossbar array provides a cost-effective approach for achieving high-density integration of two-terminal functional devices. However, the "sneaking current problem", which can lead to read failure, is a severe chall... Crossbar array provides a cost-effective approach for achieving high-density integration of two-terminal functional devices. However, the "sneaking current problem", which can lead to read failure, is a severe challenge in crossbar arrays. To inhibit the sneaking current from unselected cells, the integration of individual selection devices is necessary. In this work, we report a novel TaOx-based selector exhibiting a trapezoidal band structure formed by tuning the concentration of defects in the oxide. Salient features such as a high current density (1 MA·cm^-2), high selectivity (5 × 10^4), low off-state current (-10 pA), robust endurance (〉10^10), self-compliance, and excellent uniformity were successfully achieved. The integrated one-selector one-resistor (1S1R) device exhibits high nonlinearity in the low resistance state (LRS), which is quite effective in solving the sneaking current issue. 展开更多
关键词 crossbar array SELECTOR trapezoidal barrier gradient oxygenconcentration high uniformity
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一种实验用交流超导磁体的研制 被引量:1
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作者 张欢欢 王银顺 +3 位作者 皮伟 李会东 徐熙 朱志芹 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期39-42,共4页
该文介绍了用于探测线圈法测量超导材料交流损耗的一种交流超导磁体的设计、加工与绕制。超导磁体设计采用成熟的螺线管磁体技术,磁体骨架为低温环氧树脂加工而成,所用超导线为NbTi/Cu复合超导绞线。为了满足磁体的稳定性,每两层超导线... 该文介绍了用于探测线圈法测量超导材料交流损耗的一种交流超导磁体的设计、加工与绕制。超导磁体设计采用成熟的螺线管磁体技术,磁体骨架为低温环氧树脂加工而成,所用超导线为NbTi/Cu复合超导绞线。为了满足磁体的稳定性,每两层超导线间留出了一条冷却通道。所绕磁体的磁场强度和均匀度都满足设计要求。 展开更多
关键词 交流超导磁体 设计加工 高均匀度 低温
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大光斑高均匀度发散式太阳模拟器设计(英文) 被引量:2
11
作者 刘石 张利云 +4 位作者 孙高飞 张国玉 张健 王凌云 王文鹏 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2018年第4期215-223,共9页
为了实现大光斑直径高均匀度太阳辐照模拟,设计了大光斑发散式太阳模拟器。根据太阳光谱分布特性选取短弧氙灯作为光源,建立光源功率计算模型;基于成像倍率和氙弧峰值点离焦量之间的关系,优化设计聚光系统和光学积分器,提高太阳模拟器... 为了实现大光斑直径高均匀度太阳辐照模拟,设计了大光斑发散式太阳模拟器。根据太阳光谱分布特性选取短弧氙灯作为光源,建立光源功率计算模型;基于成像倍率和氙弧峰值点离焦量之间的关系,优化设计聚光系统和光学积分器,提高太阳模拟器的辐照均匀度;同时,结合短弧氙灯的光谱特性,建立光谱匹配模型,设计光学滤光片在不同波长的透过率。实验结果表明:设计的发散式太阳模拟器辐照面积为Φ2 m,当工作距离为6、8、10 m时,辐照不均匀度分别优于3.33%、3.51%和4.3%,且光谱与AM1.5太阳光谱A级标准相匹配。 展开更多
关键词 太阳模拟器 发散式 大光斑 高均匀度
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薄层高阻硅外延制备工艺研究 被引量:1
12
作者 傅颖洁 李明达 《天津科技》 2020年第5期81-83,共3页
轻掺硅外延层/重掺衬底结构作为现代电力电子器件的关键基础材料,其厚度均匀性、电阻率均匀性等关键参数与所制器件的性能密切相关。通常基于重掺衬底的轻掺硅外延层,电阻率比厚度数值至少会低1个数量级,可以有足够的反应时间爬升到稳... 轻掺硅外延层/重掺衬底结构作为现代电力电子器件的关键基础材料,其厚度均匀性、电阻率均匀性等关键参数与所制器件的性能密切相关。通常基于重掺衬底的轻掺硅外延层,电阻率比厚度数值至少会低1个数量级,可以有足够的反应时间爬升到稳定轻掺态。但在特定的应用领域,所需外延层电阻率高于厚度数值2倍以上,并且要求电阻率、厚度参数控制精确。传统外延工艺中电阻率受自掺杂影响,爬升速率缓慢,均匀性始终不能达到预期目标。基于外延掺杂机理,通过设计低温外延生长、基座包硅等多种手段,可有效抑制系统自掺杂干扰,实现了硅外延层厚度不均匀性<1.5%,电阻率不均匀性<2%的研制目标。 展开更多
关键词 硅外延 高均匀性 薄层 高阻
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基于非成像数字光场理论设计的一种节能型壁挂式植物生长灯 被引量:1
13
作者 赵亮 岑松原 《照明工程学报》 2021年第2期14-18,68,共6页
本文创新性地将数字光场对光场的描述方式引入到照明光学中,将照明光学中的参量进行离散化和数值化表述,从而可实现:1)对照明光场进行更严谨和准确的描述;2)结合折射定理和反射定理,进行更为精准的光学自由曲面的设计。针对山东暖棚特... 本文创新性地将数字光场对光场的描述方式引入到照明光学中,将照明光学中的参量进行离散化和数值化表述,从而可实现:1)对照明光场进行更严谨和准确的描述;2)结合折射定理和反射定理,进行更为精准的光学自由曲面的设计。针对山东暖棚特殊的结构,其适配的植物生长灯的却失,设计一款距高比达6的壁挂式植物生长灯。与传统植物生长灯相比,本文提出的壁挂式植物生长灯具有均匀度高(主种植区达到90%以上)、光效高(85%以上)、安装方便等优势,大幅度降低了前期一次性投入成本。另外由于其超高的距高比特性,使其在低杆照明、室内间接照明、洗墙等其他照明领域也有很大的应用空间。 展开更多
关键词 数字光场 高距高比 高均匀度 植物生长灯
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简介特殊结构梳理机 被引量:1
14
作者 纪合聚 杨效慧 《纺织器材》 2017年第6期54-58,共5页
为满足使用需求,介绍自动喂毛机、单罗拉剥取梳理机、罗拉盖板梳理机等11种类型梳理机的特殊结构和用途,阐述其结构特点和梳理优势。指出:梳理机向组合式、系列化、标准化的方向发展,设计更人性化、更安全、更优化、更机电一体化,并注... 为满足使用需求,介绍自动喂毛机、单罗拉剥取梳理机、罗拉盖板梳理机等11种类型梳理机的特殊结构和用途,阐述其结构特点和梳理优势。指出:梳理机向组合式、系列化、标准化的方向发展,设计更人性化、更安全、更优化、更机电一体化,并注重与高端梳理器材的合理配置;了解梳理机的结构特点,可以在选择设备、改造设备和创新设计时借鉴参考。 展开更多
关键词 梳理机 组合 高均匀度 罗拉盖板 双联 圈条器
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酸轧带钢表面短线划伤原因分析及改善
15
作者 杨腾 齐海峰 +2 位作者 许秋 王业钧 滕先博 《河南冶金》 2022年第6期45-48,共4页
针对酸轧冷硬带钢表面短线划伤问题,利用扫描电镜和三维形貌仪研究了带钢表面短线划伤缺陷的产生原因。通过优化轧辊磨削砂轮材质,由树脂砂轮调整为陶瓷砂轮,开发高均匀性轧辊磨削制备技术,增加磨削液外置过滤器,优化乳化液部分参数的措... 针对酸轧冷硬带钢表面短线划伤问题,利用扫描电镜和三维形貌仪研究了带钢表面短线划伤缺陷的产生原因。通过优化轧辊磨削砂轮材质,由树脂砂轮调整为陶瓷砂轮,开发高均匀性轧辊磨削制备技术,增加磨削液外置过滤器,优化乳化液部分参数的措施,有效避免带钢表面短线划伤缺陷的产生,提高了产品质量。 展开更多
关键词 冷硬带钢 短线划伤 砂轮材质 高均匀性 乳化液
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旋转工艺对高阻区熔硅单晶研制的影响
16
作者 庞炳远 闫萍 刘洪 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第9期630-633,共4页
采用区熔工艺对多次真空提纯后的多晶硅进行了n型高阻硅单晶生长。真空提纯时,通过对工艺参数的精确控制,稳步提升了晶体的纯度和电阻率。单晶生长时,对比分析了常规旋转工艺和正反转旋转工艺两种生长方式对单晶径向电阻率分布的影响,... 采用区熔工艺对多次真空提纯后的多晶硅进行了n型高阻硅单晶生长。真空提纯时,通过对工艺参数的精确控制,稳步提升了晶体的纯度和电阻率。单晶生长时,对比分析了常规旋转工艺和正反转旋转工艺两种生长方式对单晶径向电阻率分布的影响,并通过计算得到了杂质在单晶径向上的分布规律。分析认为正反转旋转工艺可以精确地控制杂质在单晶径向上的分布情况,进而确保了单晶径向上的磷杂质含量略大于硼杂质含量。最终,通过采用正反转旋转工艺,成功研制了电阻率为8 000Ω·cm以上的n型高均匀性区熔硅单晶。 展开更多
关键词 旋转工艺 区熔(FZ) 硅单晶 高阻 高均匀性
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单色面阵光源设计
17
作者 刘红元 王恒飞 +1 位作者 应承平 吴斌 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第S1期188-190,共3页
提出并研究了一种"单色仪+积分球"为主体设计的单色、大面积、高均匀性辐射光源.该光源采用四套单色仪,在每台单色仪输出口进行会聚,通过大芯径光纤束将单色光从不同的方向(对称状)注入到积分球中.相比于传统采用一台单色仪,... 提出并研究了一种"单色仪+积分球"为主体设计的单色、大面积、高均匀性辐射光源.该光源采用四套单色仪,在每台单色仪输出口进行会聚,通过大芯径光纤束将单色光从不同的方向(对称状)注入到积分球中.相比于传统采用一台单色仪,该光源提高了积分球的输出功率和积分球输出面的均匀性,并通过实验对积分球输出波长、输出功率及输出口均匀性进行了测量.结果表明:在积分球输出口面上,在输出波长范围400~1 000nm内,波长准确度可以达到2nm,输出功率最小可以达到0.2mW,输出面均匀性比传统设计也提高了0.6%. 展开更多
关键词 光学设计 面阵光源 高均匀性 对称法 单色仪 积分球 光纤束 成像器件
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大开口率高均匀太阳能LED地埋灯之设计
18
作者 陈奇夆 吕理铭 叶茂勋 《照明工程学报》 北大核心 2011年第3期53-57,共5页
本研究欲改善传统LED太阳能地埋灯之部分发光面积被太阳电池遮蔽之情形与提升发光均匀度,且不会影响太阳电池之收光效率。设计一个调光元件同时达到具有LED发光均匀性与太阳能集光2种光路之结合,并将太阳电池与LED放置地埋灯底部,达到... 本研究欲改善传统LED太阳能地埋灯之部分发光面积被太阳电池遮蔽之情形与提升发光均匀度,且不会影响太阳电池之收光效率。设计一个调光元件同时达到具有LED发光均匀性与太阳能集光2种光路之结合,并将太阳电池与LED放置地埋灯底部,达到地埋灯顶部表面均为发光面积,开口率为理想值100%。且经由设计其调光组件内部参数可得模拟结果地埋灯发光均匀性为80%,实际初步制作测试其均匀性为71%。 展开更多
关键词 大开口率 高均匀 调光组件 太阳能LED地埋灯
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光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 被引量:5
19
作者 李美萱 王美娇 +2 位作者 王丽 冷雁冰 董连和 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2017年第7期842-847,共6页
在超大规模集成电路中,为了实现NA=1.35,波长193 nm处分辨率达到45 nm的目标,需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用CODE V软件设计了... 在超大规模集成电路中,为了实现NA=1.35,波长193 nm处分辨率达到45 nm的目标,需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用CODE V软件设计了复眼透镜对引起照明不均匀性的因素进行分析,结合复眼透镜组的设计方案和实际加工能力,给出X和Y向复眼曲率公差为±10%,后组曲率公差为±5%,前后组间隔公差为±50μm,位置精度偏心公差为±1μm,装配精度公差为±3μm。制定公差合理、可行,满足了浸没式光刻照明系统高均匀性、高能量利用率的要求。 展开更多
关键词 浸没式光刻 高均匀性照明 分辨率 光学设计 公差分析
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365 nm光刻照明系统中变焦系统的设计及公差分析 被引量:4
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作者 苏朋 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2022年第7期243-247,共5页
照明系统是投影光刻曝光光学系统的重要组成部分,它实现的功能是为掩模面提供高均匀性照明、控制曝光剂量以及不同照明模式。变焦系统作为光刻照明系统的重要组成部分,对提高整个光刻机的性能起着至关重要的作用。文中针对紫外光刻照明... 照明系统是投影光刻曝光光学系统的重要组成部分,它实现的功能是为掩模面提供高均匀性照明、控制曝光剂量以及不同照明模式。变焦系统作为光刻照明系统的重要组成部分,对提高整个光刻机的性能起着至关重要的作用。文中针对紫外光刻照明系统的特点,采用CODE V软件完成了波长365 nm,入瞳直径Φ33 mm,像方远心度≤10 mrad,畸变≤±2%近紫外光刻照明系统中变焦系统的设计,分析了变焦系统的误差源对系统光瞳性能的影响,结合变焦系统的设计方案和实际加工能力,给出单面厚度公差需小于20μm,动件移动精度小于0.5 nm,各透镜偏心公差小于0.02 mm,各透镜倾斜公差控制在1′之内。制定公差合理、可行,满足了紫外光刻照明系统高均匀性、高能量利用率的要求。 展开更多
关键词 紫外光刻 高均匀性照明 分辨率 光学设计 公差分析
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