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GaAs工艺监测研究
被引量：
3
1
作者
于信明
崔玉兴
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第7期520-523,共4页
介绍了GaAs MMIC(GaAs microwave monolithic integrated circuit)工艺运用监测技术控制工艺过程,实时掌握工艺状况,保证产品的一致性、可重复性和可靠性。针对薄层电阻和接触电阻的阻值以及器件的栅阻和栅长等工艺过程中关键的参数,分...
介绍了GaAs MMIC(GaAs microwave monolithic integrated circuit)工艺运用监测技术控制工艺过程,实时掌握工艺状况,保证产品的一致性、可重复性和可靠性。针对薄层电阻和接触电阻的阻值以及器件的栅阻和栅长等工艺过程中关键的参数,分别用范德堡结构、开尔文结构和十字桥结构进行监测。采用范德堡结构测得薄层电阻Rs=(π/ln 2)V14/I23,开尔文结构得到接触电阻Rc=V13/I24,十字桥结构可以了解栅阻和栅长。然后通过运用统计过程控制技术对数据进行分析,可以有效改进工艺,提高产品质量。
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关键词
gaas
mmic
工艺监测
薄层电阻
十字桥
统计过程控制
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职称材料
题名
GaAs工艺监测研究
被引量：
3
1
作者
于信明
崔玉兴
机构
中国电子科技集团公司第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第7期520-523,共4页
文摘
介绍了GaAs MMIC(GaAs microwave monolithic integrated circuit)工艺运用监测技术控制工艺过程,实时掌握工艺状况,保证产品的一致性、可重复性和可靠性。针对薄层电阻和接触电阻的阻值以及器件的栅阻和栅长等工艺过程中关键的参数,分别用范德堡结构、开尔文结构和十字桥结构进行监测。采用范德堡结构测得薄层电阻Rs=(π/ln 2)V14/I23,开尔文结构得到接触电阻Rc=V13/I24,十字桥结构可以了解栅阻和栅长。然后通过运用统计过程控制技术对数据进行分析,可以有效改进工艺,提高产品质量。
关键词
gaas
mmic
工艺监测
薄层电阻
十字桥
统计过程控制
Keywords
gaas
microwave
monolithic
integrated circuit
（
gaas
mmic
）
process
monitor（PM）
sheet
resistance
cross-bridge
statistical
process
control（SPC）
分类号
TN407 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
GaAs工艺监测研究
于信明
崔玉兴
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2011
3
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