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高频引弧可靠性研究 被引量:6
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作者 许子成 于庆胜 黄念慈 《电焊机》 1989年第1期15-18,共4页
通过对振荡回路有关参数和主回路串有大电感的电源引弧特性分析,对如何提高高频引弧可靠性作了探讨,指出了提高振荡回路品质因数的必要性以及这类电源采用小功率、低电压辅助电源引弧的措施,对提高电源的技术经济指标也有一定的意义。
关键词 高频引弧 TIG焊 高频引弧器 可靠性
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Low-cost polymer acceptors with noncovalently fused-ring backbones for efficient all-polymer solar cells 被引量:3
2
作者 Xiaobin Gu Yanan Wei +9 位作者 Xingzheng Liu Na Yu Laiyang Li Ziyang Han Jinhua Gao Congqi Li Zhixiang Wei Zheng Tang Xin Zhang Hui Huang 《Science China Chemistry》 SCIE EI CSCD 2022年第5期926-933,共8页
The polymerization of fused-ring acceptors(FRAs) to afford their corresponding polymeric acceptors for high-performance all-polymer solar cells(all-PSCs) has achieved remarkable progress in the past few years.However,... The polymerization of fused-ring acceptors(FRAs) to afford their corresponding polymeric acceptors for high-performance all-polymer solar cells(all-PSCs) has achieved remarkable progress in the past few years.However,due to the high degree of synthetic complexity for the monomer,the high-cost of these polymeric acceptors may limit their commercial applications.Thus,it is urgent to develop inexpensive and high-performance polymeric acceptors for all-PSCs.Herein,two novel polymeric acceptors(PBTzO and PBTzO-2F) have been designed and synthesized by copolymerization of noncovalently fused ring acceptors(NFRAs),which were employed in all-PSCs for the first time.Upon introducing the “noncovalently conformational locks(NoCLs)” in the backbone and selective fluorination of the end-group,photophysical and electrical properties,and solidstate packing properties of the NFRAs have been rationally tuned.As a result,the PBDB-T:PBTzO-2F based devices presented an excellent power conversion efficiency(PCE) of 11.04%,much higher than that of PBTzO based ones due to the increased charge generation and extraction,improved hole transfer and carrier mobilities,and reduced energy loss.More importantly,PBTzO-2F exhibited a much lower synthetic complexity(SC) index and higher figure-of-merit(FOM) values than the high-performance fused-ring acceptor based polymer acceptors(FRA-PAs) due to the simpler structures and more effective synthesis.This contribution provided a novel idea to achieve low-cost and high-performance all-PSCs. 展开更多
关键词 all-polymer solar cells low-cost polymer acceptors noncovalently fused-ring backbones figure-of-merit values
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一种具有子沟槽结构的屏蔽栅MOSFET的研究 被引量:2
3
作者 朱晨凯 赵琳娜 +2 位作者 顾晓峰 周锦程 杨卓 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期621-626,共6页
为了降低屏蔽栅沟槽型(SGT,Shield Gate Trench)MOSFET的导通电阻、提高器件的品质因数,通常使用增加屏蔽栅沟槽深度和密度的方法,但是在刻蚀高密度深沟槽时会使晶圆产生严重的翘曲现象。因此,提出一种100 V具有子沟槽(ST,Sub-Trench)的... 为了降低屏蔽栅沟槽型(SGT,Shield Gate Trench)MOSFET的导通电阻、提高器件的品质因数,通常使用增加屏蔽栅沟槽深度和密度的方法,但是在刻蚀高密度深沟槽时会使晶圆产生严重的翘曲现象。因此,提出一种100 V具有子沟槽(ST,Sub-Trench)的SGT(ST-SGT)器件结构。在相邻的主沟槽间插入子沟槽后,显著降低了器件栅极附近的电场峰值,避免栅氧化层出现过早击穿,同时较浅的子沟槽提升了外延层纵向电场分布的均匀性,改善了高密度深沟槽带来的晶圆翘曲问题。通过使用Sentaurus TCAD仿真软件,调节子沟槽深度和上层外延层电阻率两个重要参数,对ST-SGT进行优化设计。结果表明,当子沟槽深度为2.5μm、上层外延电阻率为0.23Ω·cm时,对应的ST-SGT的品质因数(FOM,Figure of Merit)最大,此时击穿电压为135.8 V,特征导通电阻为41.4 mΩ·mm^(2)。优化后的ST-SGT与传统SGT相比,其FOM提高了19.6%。 展开更多
关键词 屏蔽栅沟槽型MOSFET 电荷平衡 击穿电压 特征导通电阻 品质因数
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Ti/FTO复合薄膜的激光辐照处理及其光电性能研究 被引量:3
4
作者 任乃飞 祖伟 +2 位作者 李保家 黄立静 曹海迪 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第5期99-106,共8页
采用532nm波长的纳秒脉冲激光对由直流磁控溅射法制备的Ti/FTO复合薄膜表面进行了辐照处理,研究了激光能量密度对薄膜的表面形貌、晶体结构、光学性能和电学性能的影响。结果表明,采用适当能量密度的激光对薄膜进行激光辐照处理,一方面... 采用532nm波长的纳秒脉冲激光对由直流磁控溅射法制备的Ti/FTO复合薄膜表面进行了辐照处理,研究了激光能量密度对薄膜的表面形貌、晶体结构、光学性能和电学性能的影响。结果表明,采用适当能量密度的激光对薄膜进行激光辐照处理,一方面可对薄膜表面起到退火作用,促进薄膜晶粒生长、消除部分晶体缺陷,另一方面还可促使Ti层氧化成TiO_2层,最终使薄膜的综合光电性能得到提升。 展开更多
关键词 激光技术 Ti/FT0 激光辐照 光电性能 品质因子
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Bi_(0.90)Sb_(0.10)热电材料高压制备及性能研究 被引量:1
5
作者 宋春梅 刘华军 +4 位作者 吴云龙 教晓冬 黄荣进 王宏 李来风 《低温工程》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期20-23,共4页
通过机械球磨法获得B i0.90Sb0.10纳米晶粉末材料,常温下冷压成型,再分别在不同温度(373 K,473 K,573 K)下进行高压。通过X射线衍射实验分析表明B i0.90Sb0.10合金样品单相形成。分别测量了样品的Seebeck系数、热导率、电导率在80 K^30... 通过机械球磨法获得B i0.90Sb0.10纳米晶粉末材料,常温下冷压成型,再分别在不同温度(373 K,473 K,573 K)下进行高压。通过X射线衍射实验分析表明B i0.90Sb0.10合金样品单相形成。分别测量了样品的Seebeck系数、热导率、电导率在80 K^300 K温区的变化情况,并与单晶样品进行比较,结果表明:通过高压制备的样品的电导率和热导率比单晶样品小,Seebeck系数在130 K附近出现明显的峰值。其中,在573 K下高压的样品在130 K时Seebeck系数出现最大值120.3μV/K,优值参数在140 K时为0.90×10-3K-1。 展开更多
关键词 热电材料 高压 优值参数
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An 8-bit 100-MS/s pipelined ADC without dedicated sample-and-hold amplifier
6
作者 张章 袁宇丹 +2 位作者 郭亚炜 程旭 曾晓洋 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期102-107,共6页
An 8-b 100-MS/s pipelined analog-to-digital converter(ADC) is presented.Without the dedicated sample-and -hold amplifier(SHA),it achieves figure-of-merit and area 21%and 12%less than the conventional ADC with the ... An 8-b 100-MS/s pipelined analog-to-digital converter(ADC) is presented.Without the dedicated sample-and -hold amplifier(SHA),it achieves figure-of-merit and area 21%and 12%less than the conventional ADC with the dedicated SHA,respectively.The closed-loop bandwidth of op amps in multiplying DAC is modeled,providing guidelines for power optimization.The theory is well supported by transistor level simulations.A 0.18-μm 1P6M CMOS process was used to integrate the ADCs,and the measured results show that the effective number of bits is 7.43 bit and 6.94 bit for 1-MHz and 80-MHz input signal,respectively,at 100 MS/s.The power dissipation is 23.4 mW including voltage/current reference at 1.8-V supply,and FoM is 0.85 pJ/step.The ADC core area is 0.53 mm^2.INL is -0.99 to 0.76 LSB,and DNL is -0.49 to 0.56 LSB. 展开更多
关键词 analog-to-digital converter PIPELINED removing dedicated SHA close-bandwidth figure-OF-merit
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具有纵向辅助耗尽衬底层的新型横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管 被引量:1
7
作者 赵逸涵 段宝兴 +2 位作者 袁嵩 吕建梅 杨银堂 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第7期382-388,共7页
为了优化横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(lateral double-diffused MOSFET,LDMOS)的击穿特性及器件性能,在传统LDMOS结构的基础上,提出了一种具有纵向辅助耗尽衬底层(assisted depletesubstrate layer,ADSL)的新型LDMOS.新加入... 为了优化横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(lateral double-diffused MOSFET,LDMOS)的击穿特性及器件性能,在传统LDMOS结构的基础上,提出了一种具有纵向辅助耗尽衬底层(assisted depletesubstrate layer,ADSL)的新型LDMOS.新加入的ADSL层使得漏端下方的纵向耗尽区大幅向衬底扩展,从而利用电场调制效应在ADSL层底部引入新的电场峰,使纵向电场得到优化,同时横向表面电场也因为电场调制效应而得到了优化.通过ISE仿真表明,当传统LDMOS与ADSL LDMOS的漂移区长度都是70μm时,击穿电压由462 V增大到897 V,提高了94%左右,并且优值也从0.55 MW/cm^2提升到1.24 MW/cm^2,提升了125%.因此,新结构ADSL LDMOS的器件性能较传统LDMOS有了极大的提升.进一步对ADSL层进行分区掺杂优化,在新结构的基础上,击穿电压在双分区时上升到938 V,三分区时为947 V. 展开更多
关键词 辅助耗尽衬底层 横向双扩散功率器件 击穿电压 优值
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链烯基类液晶材料性能研究
8
作者 甘宁 李建 +1 位作者 李娟利 邓登 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期494-497,共4页
链烯基类液晶单体被广泛用于各种液晶显示器中。将常用的6款链烯基类液晶单体分别添加到基础配方P0中,配制了6款混合液晶,对其品质因子的相关性能进行了考察。结果表明,按相同比例添加的VCCPMe系列单体可以增高配方的折射率各向异性;HH... 链烯基类液晶单体被广泛用于各种液晶显示器中。将常用的6款链烯基类液晶单体分别添加到基础配方P0中,配制了6款混合液晶,对其品质因子的相关性能进行了考察。结果表明,按相同比例添加的VCCPMe系列单体可以增高配方的折射率各向异性;HHV系列单体可有效降低配方的旋转黏度和优化品质因子,其中添加3HHV1的混晶具有最好的品质因子。 展开更多
关键词 液晶 品质因子 折射各向异性 弹性常数 旋转黏度
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PbO和Bi_2O_3-Li_2CO_3助烧剂对Pb(Zr_(0.9)Ti_(0.1))O_3厚膜热释电性能的影响
9
作者 罗中杰 苏小义 +2 位作者 张捷钰 姚飞 张光祖 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期13-16,共4页
采用丝网印刷工艺制备了Pb(Zr0.9T0.1)O3(PZT)厚膜,研究了过量PbO和Bi2O3-Li2CO3共同助烧对PZT厚膜低温烧结特性、微观结构、相构成以及介电和热释电性能的影响。结果表明:随着过量PbO及Bi2O3-Li2CO3添加量的增加,PZT厚膜的烧结温度和... 采用丝网印刷工艺制备了Pb(Zr0.9T0.1)O3(PZT)厚膜,研究了过量PbO和Bi2O3-Li2CO3共同助烧对PZT厚膜低温烧结特性、微观结构、相构成以及介电和热释电性能的影响。结果表明:随着过量PbO及Bi2O3-Li2CO3添加量的增加,PZT厚膜的烧结温度和晶粒尺寸均逐渐降低。当PbO过量6.4%(质量分数)、Bi2O3-Li2CO3添加量为5.4%(质量分数)时,PZT厚膜可在900℃低温下致密成瓷,且其热释电系数和探测率优值均得到大幅提高;所得样品在30℃时的热释电系数为10.6×10–8C.cm–2.K–1,探测率优值为8.2×10–5Pa–1/2。 展开更多
关键词 PZT厚膜 助烧剂 丝网印刷 热释电性能 探测率优值
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The dielectric studies on sol–gel routed molybdenum oxide thin film
10
作者 P.Adal Arasu R.Victor Williams 《Journal of Advanced Dielectrics》 CAS 2017年第2期21-27,共7页
The influence of temperature on the dielectric properties of sol-gel routed spin-coated molybdenum trioxide(MoO_(3)) thin film has been investigated.Prepared films were annealed at temperatures 250℃,350℃ and 400℃.T... The influence of temperature on the dielectric properties of sol-gel routed spin-coated molybdenum trioxide(MoO_(3)) thin film has been investigated.Prepared films were annealed at temperatures 250℃,350℃ and 400℃.The phase transformation from amorphous to-orthorhombic phase with preferential orientation(022)has been found by XRD for the film annealed above 250℃.The vibration modes of-orthorhombic MoO_(3) have been examined by Raman spectrum.The predominant Raman's band of-orthorhombic MoO_(3) thin film has been found at the frequency range 1000–600 cm^(-1).Using the UV–Vis spectrum,the band gap of the film is found to be 3.3–3.8 eV.The surface morphology of the MoO_(3) films has been examined by scanning electron microscope.The AC conductivity measurement of the MoO_(3) film has been carried out in the frequency range 10–10^(6) Hz.The frequency dependence of the impedance has been plotted in the complex plane.The variation of the capacitance and dielectric constant of MoO_(3) film with respect to temperature and frequency has been analyzed.Tunability of capacitance and figure of merit of the film are also determined. 展开更多
关键词 Sol-gel dielectric constant CAPACITANCE TUNABILITY CURIE-TEMPERATURE figure-OF-merit
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采用可调谐高Q有源电感的高优值VCO的研究 被引量:5
11
作者 张正 张延华 +1 位作者 温晓伟 那伟聪 《电子器件》 CAS 北大核心 2021年第2期272-277,共6页
对采用新型可调谐、高Q的有源电感(THQAI)的高优值(FOM)压控振荡器(VCO)进行了研究。在LC振荡回路模块中,利用THQAI具有高Q值、较宽调谐范围的特性,分别实现了VCO的低相位噪声和宽的频率调谐范围;在负阻电路模块中,将电流进行复用,使其... 对采用新型可调谐、高Q的有源电感(THQAI)的高优值(FOM)压控振荡器(VCO)进行了研究。在LC振荡回路模块中,利用THQAI具有高Q值、较宽调谐范围的特性,分别实现了VCO的低相位噪声和宽的频率调谐范围;在负阻电路模块中,将电流进行复用,使其只有一条直流工作支路,降低了VCO的功耗,又由于电路中的MOS晶体管始终工作在饱和区,进一步降低了VCO的相位噪声;在输出缓冲级,采用共源NMOS晶体管,放大了该VCO的输出波形。最终,这些技术手段使得VCO的调谐范围、相位噪声和功耗均得到了改善,因此获得了高的FOM值。基于TSMC 0.13μm CMOS工艺库,利用射频集成电路设计工具ADS对该VCO进行性能验证。结果表明,该VCO的振荡频率调谐范围高达73%,最低相位噪声仅为-123 dBc/Hz,且功耗仅为13.4 mW,FOM值为-195.1 dBc/Hz,具有较好的综合性能。 展开更多
关键词 压控振荡器 可调谐有源电感 优值
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不同增益天线旋转扫描扇形波束散射计的风场反演仿真 被引量:4
12
作者 林文明 董晓龙 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期494-499,共6页
本文介绍了一种星载Ku波段旋转扫描扇形波束散射计及其主要系统参数.该散射计工作在500km高度的太阳同步轨道.通过仿真比较这种散射计在不同增益天线下的风场反演能力,确定刈幅大于1000km时天线的双程增益应不小于51.5dB、距离向3dB波... 本文介绍了一种星载Ku波段旋转扫描扇形波束散射计及其主要系统参数.该散射计工作在500km高度的太阳同步轨道.通过仿真比较这种散射计在不同增益天线下的风场反演能力,确定刈幅大于1000km时天线的双程增益应不小于51.5dB、距离向3dB波束宽度约为25度.最后将反演风场的质量与笔形波束的SeaWinds散射计的结果进行对比,得知这种新型的散射计有良好的风场反演能力.特别地,它能显著改善高风速条件下的风向反演精度. 展开更多
关键词 扇形波束 散射计 风场反演 噪声 品质因素
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阳极刻蚀提升Ga_(2)O_(3)肖特基势垒二极管击穿特性 被引量:1
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作者 郭艳敏 杨玉章 +3 位作者 冯志红 王元刚 刘宏宇 韩静文 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第5期375-379,共5页
提出了一种采用阳极刻蚀提升Ga_(2)O_(3)肖特基势垒二极管(SBD)击穿特性的新方法。基于氢化物气相外延(HVPE)法生长的Ga_(2)O_(3)材料制备了Ga_(2)O_(3)纵向SBD。在完成阳极制备后,对阳极以外的Ga_(2)O_(3)漂移区进行了不同深度的刻蚀,... 提出了一种采用阳极刻蚀提升Ga_(2)O_(3)肖特基势垒二极管(SBD)击穿特性的新方法。基于氢化物气相外延(HVPE)法生长的Ga_(2)O_(3)材料制备了Ga_(2)O_(3)纵向SBD。在完成阳极制备后,对阳极以外的Ga_(2)O_(3)漂移区进行了不同深度的刻蚀,刻蚀完成后,在器件表面生长了SiO2介质层,随后制备了场板结构。测试结果显示,刻蚀后器件的比导通电阻小幅上升,而反向击穿电压均大幅提升。刻蚀深度为300 nm的β-Ga_(2)O_(3)SBD具有最优特性,其比导通电阻(Ron,sp)为2.5 mΩ·cm^(2),击穿电压(Vbr)为1410 V,功率品质因子(FOM)为795 MW/cm^(2)。该研究为高性能Ga_(2)O_(3)SBD的制备提供了一种新方法。 展开更多
关键词 氧化镓(Ga_(2)O_(3)) 肖特基势垒二极管(SBD) 刻蚀 击穿电压 功率品质因子(FOM)
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取向多孔钛酸钡基陶瓷的介电与压电性能 被引量:4
14
作者 鲍寅祥 张妍 +1 位作者 周科朝 黄伯云 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第11期3136-3143,共8页
采用冷冻浇注法制备取向多孔0.5Ba(Ti0.8Zr0.2)O3−0.5(Ba0.7Ca0.3)TiO3(BCZT)压电陶瓷。研究结果表明:制得的压电陶瓷材料孔隙率为18%~44%,取向孔道的层间距随孔隙率的减少而增加,最大为25μm。由于电场局部集中,相同电场条件极化后的... 采用冷冻浇注法制备取向多孔0.5Ba(Ti0.8Zr0.2)O3−0.5(Ba0.7Ca0.3)TiO3(BCZT)压电陶瓷。研究结果表明:制得的压电陶瓷材料孔隙率为18%~44%,取向孔道的层间距随孔隙率的减少而增加,最大为25μm。由于电场局部集中,相同电场条件极化后的取向多孔BCZT整体极化效率降低,因此,剩余极化强度随孔隙率的增加而降低,适量的孔隙(孔隙率<20%)有利于电畴翻转降低矫顽场,孔隙数的增加会提高未极化区域,从而提高矫顽场。取向多孔BCZT陶瓷的相对介电常数随频率增加而降低,当孔隙率从18%增加到44%时,相对介电常数从1806降低到1097,介电损耗从0.008升高到0.014,居里温度随孔隙率增加从致密体的106℃增大到119℃。静水压电荷系数dh却随着孔隙率的增加从33 pC/N增加到148 pC/N,由于多孔结构介电常数随孔隙率增加而降低,大幅提高了静水压电压系数gh和静水压优值dh·gh,gh从3.8 mV∙m/N提高到14.7 mV∙m/N,dh·gh从0.14×10^−12 m^2/N提高到2.17×10−12 m^2/N。取向多孔BCZT陶瓷具有与铅基压电材料相当的压电性能,在压电传感器、压电水声换能器等领域具有巨大的应用潜力。 展开更多
关键词 钛酸钡基 无铅压电陶瓷 取向孔道 压电优值系数 多孔陶瓷
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2.83-kV double-layered NiO/β-Ga_(2)O_(3) vertical p-n heterojunction diode with a power figure-of-merit of 5.98 GW/cm^(2)
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作者 Tingting Han Yuangang Wang +4 位作者 Yuanjie Lv Shaobo Dun Hongyu Liu Aimin Bu Zhihong Feng 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2023年第7期28-31,共4页
This work demonstrates high-performance NiO/β-Ga_(2)O_(3) vertical heterojunction diodes(HJDs)with double-layer junc-tion termination extension(DL-JTE)consisting of two p-typed NiO layers with varied lengths.The bott... This work demonstrates high-performance NiO/β-Ga_(2)O_(3) vertical heterojunction diodes(HJDs)with double-layer junc-tion termination extension(DL-JTE)consisting of two p-typed NiO layers with varied lengths.The bottom 60-nm p-NiO layer fully covers theβ-Ga_(2)O_(3) wafer,while the geometry of the upper 60-nm p-NiO layer is 10μm larger than the square anode elec-trode.Compared with a single-layer JTE,the electric field concentration is inhibited by double-layer JTE structure effectively,resulting in the breakdown voltage being improved from 2020 to 2830 V.Moreover,double p-typed NiO layers allow more holes into the Ga_(2)O_(3) drift layer to reduce drift resistance.The specific on-resistance is reduced from 1.93 to 1.34 mΩ·cm^(2).The device with DL-JTE shows a power figure-of-merit(PFOM)of 5.98 GW/cm^(2),which is 2.8 times larger than that of the conven-tional single-layer JTE structure.These results indicate that the double-layer JTE structure provides a viable way of fabricating high-performance Ga_(2)O_(3) HJDs. 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) breakdown voltage heterojunction diode(HJD) junction termination extension(JTE) power figure-of-merit(PFOM)
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本征击穿电场与禁带宽度的关系 被引量:2
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作者 王立模 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期702-706,共5页
在汇集实验数据的基础上,提出了对半导体和绝缘体材料的本征击穿电场与其禁带宽度之间关系的通用表达式。根据半导体与绝缘体本征击穿电场规律的不同,首次有依据地提出了用禁带宽度Eg值对材料进行明确统一分类的定量判据:击穿场判据。... 在汇集实验数据的基础上,提出了对半导体和绝缘体材料的本征击穿电场与其禁带宽度之间关系的通用表达式。根据半导体与绝缘体本征击穿电场规律的不同,首次有依据地提出了用禁带宽度Eg值对材料进行明确统一分类的定量判据:击穿场判据。给出了直接用禁带宽度Eg表示的半导材料的各种简化优质系数表达式。基于文章提出的关系式,计算了多种重要的二元化合物半导体及高k栅介质的本征击穿电场预期值。 展开更多
关键词 本征击穿电场 禁带宽度 半导体/绝缘体 击穿场判据 简化优值系数
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广东省能见度仪观测网优化设计 被引量:1
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作者 张芷言 邓雪娇 +3 位作者 王宝民 李菲 谭浩波 邓涛 《应用气象学报》 CSCD 北大核心 2015年第6期714-724,共11页
针对广东省的能见度观测展开研究,提出了适用于能见度观测布局适应性分布研究的新方案,旨在为器测替代目测的能见度监测网提供建议。研究表明:利用广东省86个地面气象观测站的2009—2011年能见度和相对湿度日平均值资料,计算得到了品质... 针对广东省的能见度观测展开研究,提出了适用于能见度观测布局适应性分布研究的新方案,旨在为器测替代目测的能见度监测网提供建议。研究表明:利用广东省86个地面气象观测站的2009—2011年能见度和相对湿度日平均值资料,计算得到了品质因数(figure of merit,FOM指数)和空间影响范围因数(sphere of influence,SOI指数),并以此为依据对现有的能见度站点进行排名和分类。再根据确定的标准遴选所需站点,筛选时,如果排名低的站点影响的范围内超过50%的区域被排名高的站点影响范围所覆盖,则剔除此排名低的站点。筛选得到广东省能见度仪观测站网需要的最少站点数为43个。考虑到地形以及增加背景站等因素,最后综合考虑广东省能见度仪观测站网所需要的站点数为51个,该结果可为器测能见度观测站网建设提供参考。 展开更多
关键词 能见度 相对湿度 能见度仪观测网 FOM指数 SOI指数
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2.4GHz低相位误差低相位噪声CMOS QVCO设计 被引量:1
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作者 高慧 吕志强 来逢昌 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第11期988-991,共4页
提出了一种新型的适用于锁相环频率合成器的正交压控振荡器(QVCO)结构,分析了QVCO的工作原理及其相位噪声性能。ADS仿真结果表明,电路工作在2.4 GHz、偏离中心频率600 kHz的情况下相位噪声为-115.4 dBc/Hz,在1.8 V电源下功耗仅为2.9 mW... 提出了一种新型的适用于锁相环频率合成器的正交压控振荡器(QVCO)结构,分析了QVCO的工作原理及其相位噪声性能。ADS仿真结果表明,电路工作在2.4 GHz、偏离中心频率600 kHz的情况下相位噪声为-115.4 dBc/Hz,在1.8 V电源下功耗仅为2.9 mW,输出信号的相位误差小于0.19°。结果还表明相对于目前流行的QVCO结构,提出的结构实现了低相位误差、低功耗、高FoM值。 展开更多
关键词 正交压控振荡器 相位噪声 相位误差 品质因数
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垂直氮化镓鳍式功率场效应晶体管优化设计 被引量:1
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作者 杨嘉颖 利健 +3 位作者 黄昊 郑子阳 吴健华 贺威 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2021年第5期359-364,共6页
主要研究了垂直氮化镓鳍式功率场效应晶体管的器件特性。利用理论计算和器件模拟,系统地设计和优化了n型氮化镓漂移层的掺杂浓度和厚度以及鳍宽度的参数,使得击穿电压和导通电阻达到最佳的折衷。经过最终优化后,当n型氮化镓漂移层的掺... 主要研究了垂直氮化镓鳍式功率场效应晶体管的器件特性。利用理论计算和器件模拟,系统地设计和优化了n型氮化镓漂移层的掺杂浓度和厚度以及鳍宽度的参数,使得击穿电压和导通电阻达到最佳的折衷。经过最终优化后,当n型氮化镓漂移层的掺杂浓度、漂移层的厚度、鳍宽度分别为5×10^(15)cm^(-3)、10μm、0.2μm时,得到高击穿电压为1150 V、低导通电阻为1.01 mΩ·cm^(2)、高Baliga优值为1.31 GW/cm^(2)。结果表明,通过本文方法优化的垂直氮化镓鳍式功率场效应晶体管可用于大功率和高压场合。 展开更多
关键词 氮化镓 鳍式功率场效应晶体管 击穿电压 导通电阻 Baliga优值
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一种快速关断沟槽型SOI LDMOS器件
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作者 樊冬冬 汪志刚 +1 位作者 杨大力 陈向东 《微电子学》 CSCD 北大核心 2017年第2期243-246,263,共5页
围绕降低沟槽型SOI LDMOS功率器件的优值,提出了一种新型多栅沟槽SOI LDMOS器件(MG-TMOS)。与常规沟槽型SOI LDMOS(C-TMOS)器件相比,新型MG-TMOS器件在不牺牲击穿电压的同时,降低了器件开关切换时充放电的栅漏电荷和器件的比导通电阻。... 围绕降低沟槽型SOI LDMOS功率器件的优值,提出了一种新型多栅沟槽SOI LDMOS器件(MG-TMOS)。与常规沟槽型SOI LDMOS(C-TMOS)器件相比,新型MG-TMOS器件在不牺牲击穿电压的同时,降低了器件开关切换时充放电的栅漏电荷和器件的比导通电阻。这是因为:1)新型MG-TMOS器件沟槽里的保护栅将器件的栅漏电容转换为器件的栅源电容和漏源电容,大幅度降低了器件的栅漏电荷;2)保护栅偏置电压的存在使得器件导通时会在沟槽底部形成一层低阻积累层,从而降低器件的导通电阻。仿真结果表明:该新型沟槽型SOI LDMOS器件的优值从常规器件的503.4mΩ·nC下降到406.6mΩ·nC,实现了器件的快速关断。 展开更多
关键词 沟槽型SOI LDMOS 栅漏电容 比导通电阻 优值
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