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从废蚀刻液中回收资源的应用研究 被引量：32
1
作者 汪晓军 何花 +1 位作者 万小芳 崔晓飞 《环境工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期75-77,共3页
从电路板蚀刻液回收硫酸铜及制作再生蚀刻液进行了工艺探索 ,得出中和法可从蚀刻液中脱除约 90 %的铜 ,沉淀氢氧化铜的最佳pH值为 5 6～ 6 0。采用水合肼还原法与硫化钠沉淀法可进一步脱除蚀刻液中的铜。研究结果表明 ,水合肼还原法... 从电路板蚀刻液回收硫酸铜及制作再生蚀刻液进行了工艺探索 ,得出中和法可从蚀刻液中脱除约 90 %的铜 ,沉淀氢氧化铜的最佳pH值为 5 6～ 6 0。采用水合肼还原法与硫化钠沉淀法可进一步脱除蚀刻液中的铜。研究结果表明 ,水合肼还原法回收海绵铜 ,在pH值为 6 0 ,反应温度 4 0℃ ,水合肼的投加浓度为 3%时 ,铜的回收率达到了 98%以上。而硫化钠沉淀法可取得 99%以上脱除废液中的铜效果 ,且具有适应范围广 ,操作成本低的优势。 展开更多
关键词 废蚀刻液 回收率 资源 电路板 硫酸铜 水合肼
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碱性蚀刻废液再生新方法研究 被引量：4
2
作者 蒋毅民 《化工时刊》 CAS 1999年第5期21-24,共4页
采用碱性蚀刻废液中直接通入氨气的方法,从废液中回收Cu(NH_3)_4Cl_2。对影响回收率的因素:通氨时间、NH_4Cl的加入量以及反应温度作了探讨,找到了最佳工艺条件。分析了母液的组成,再生方法及Cu(NH_3)_4Cl_2的再利用途径。
关键词 蚀刻液 碱性蚀刻液 废液再生 废水处理
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废蚀刻铜液制取氧化铜及废液的再生条件研究 被引量：8
3
作者 宋弘 石荣铭 《再生资源研究》 2007年第3期36-38,共3页
采用酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液混合沉铜的方法制取氧化铜,讨论了酸度对沉淀的影响;同时,对沉铜后母液用于制取碱性蚀刻液的指标的调整、蚀刻速率进行了研究,达到了废液重复使用的目的,是一种较理想的再生利用电路板废液和回收铜的方法。
关键词 印刷电路板 蚀刻液 氧化铜 废液 回收利用
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印刷线路板含铜废蚀刻液的回用处理(一) 被引量：8
4
作者 胡耀红 赵国鹏 +2 位作者 谢素玲 袁国伟 张招贤 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2009年第10期32-35,共4页
本文分两部分刊出。第一部分介绍了印刷线路板的生产工艺,以及各种蚀刻液的特点。概述了影响酸性氯化铜蚀刻液蚀刻速率的因素及其槽液维护,比较了酸性与碱性氯化铜蚀刻液的性能及操作条件。
关键词 印刷线路板 蚀刻液 氯化铜
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废磷酸脱铝技术的研究进展
5
作者 吴志宇 李秋美 +1 位作者 梁兰 黎建平 《化工技术与开发》 CAS 2024年第11期82-86,共5页
磷酸是一种重要的化工原料,常用于铝的化学抛光处理以及铝合金等金属的表面处理。铝离子在溶液中不断积累,进而改变化学抛光液的组成和性质,并形成含铝废磷酸。磷酸也用于蚀刻铝制零部件的铝箔层和显示面板的铝层以溶解氧化铝,因此也会... 磷酸是一种重要的化工原料,常用于铝的化学抛光处理以及铝合金等金属的表面处理。铝离子在溶液中不断积累,进而改变化学抛光液的组成和性质,并形成含铝废磷酸。磷酸也用于蚀刻铝制零部件的铝箔层和显示面板的铝层以溶解氧化铝,因此也会产生含铝废磷酸。随着磷资源的不断消耗,未来获取磷酸资源面临严峻挑战。基于环境保护的迫切要求,必须脱除废磷酸中的铝离子,以便更好地回收和利用磷酸资源。本文介绍了去除废磷酸中铝离子的方法,分析了这些方法的利弊,并对未来废磷酸脱除铝离子的研究方向进行了展望。 展开更多
关键词 铝离子 废磷酸 化学抛光液 蚀刻液 资源回收
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常温下对高铝玻璃的高透过防眩表面处理 被引量：4
6
作者 李筱凡 郝霞 +4 位作者 王琦 彭瑞欣 韩韩 赵会峰 姜宏 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第5期1000-1005,共6页
采用n(NH_(4)HF_(2)):n(KHF_(2)):n(C_(6)H_(8)O^(7)):n((NH_(4))_(2)SO_(4)):n(TiO_(2)):n(C_(6)H_(14)O_(6))=20:3:15:4:5:20的防眩刻蚀液,通过化学蚀刻法在室温下对高铝玻璃进行了防眩处理,并对表面形貌、光学性能等的表征,分析了蚀... 采用n(NH_(4)HF_(2)):n(KHF_(2)):n(C_(6)H_(8)O^(7)):n((NH_(4))_(2)SO_(4)):n(TiO_(2)):n(C_(6)H_(14)O_(6))=20:3:15:4:5:20的防眩刻蚀液,通过化学蚀刻法在室温下对高铝玻璃进行了防眩处理,并对表面形貌、光学性能等的表征,分析了蚀刻时间对结构和性能的影响。结果表明:最佳的蚀刻时间为30 min;蚀刻液能在样品表面蚀刻出微米级小坑,构成陷光结构,能使入射光向各方向发生散射,将镜面反射转化为漫反射,其中部分散射光还能再次被陷光结构捕捉,发生多次入射,既达到了防眩的目的,也保持了高铝玻璃的高透过率。 展开更多
关键词 防眩玻璃 高铝玻璃 蚀刻液 陷光结构 表面处理
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碱式氯化铜的制备方法及其在动物生产中的应用
7
作者 彭红星 刘小清 +1 位作者 桑诚诚 周长虹 《饲料研究》 CAS 北大核心 2024年第19期152-155,共4页
碱式氯化铜是一种铜含量高(铜含量58.12%)、不溶于水和有机溶剂的铜源。与硫酸铜比较,碱式氯化铜不吸潮结块、易混匀,对饲料中的维生素破坏小且油脂氧化程度低。目前,饲料级碱式氯化铜通常以印刷电路板生产过程产生的含铜蚀刻液为原料制... 碱式氯化铜是一种铜含量高(铜含量58.12%)、不溶于水和有机溶剂的铜源。与硫酸铜比较,碱式氯化铜不吸潮结块、易混匀,对饲料中的维生素破坏小且油脂氧化程度低。目前,饲料级碱式氯化铜通常以印刷电路板生产过程产生的含铜蚀刻液为原料制得,工业含铜废水废渣、化工原料(主要为氯化铜)合成碱式氯化铜由于成本高,工业生产上比较少见。碱式氯化铜对动物生长性能、繁殖性能、免疫能力和肠道健康具有显著影响。文章综述了碱式氯化铜的制备方法及其在动物生产中的应用,为促进碱式氯化铜在动物生产中的高效利用提供参考。 展开更多
关键词 碱式氯化铜 蚀刻液 制备 动物生产
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氨水中和废硫酸蚀刻液制备硫酸铵的研究
8
作者 李璟 邓国平 张井峰 《硫酸工业》 CAS 2024年第3期10-15,共6页
针对半导体行业废硫酸中H_(2)SO_(4)含量高、杂质含量低的特点,采用氨水中和法处理硫酸废液,中和后的溶液通过蒸发、浓缩、离心分离等过程,可生成固体硫酸铵产品。基于AspenPlus软件平台,研究了中和反应pH控制值对反应产物生成量的影响... 针对半导体行业废硫酸中H_(2)SO_(4)含量高、杂质含量低的特点,采用氨水中和法处理硫酸废液,中和后的溶液通过蒸发、浓缩、离心分离等过程,可生成固体硫酸铵产品。基于AspenPlus软件平台,研究了中和反应pH控制值对反应产物生成量的影响,并对氨水中和过程、硫酸铵溶液蒸发过程的工艺控制参数以及物料和能量消耗进行了模拟分析。根据模拟分析结果,新建20kt/a废硫酸资源化利用生产线,装置顺利投产后,生产的固体硫酸铵产品质量满足《工业硫酸铵》以及《肥料级硫酸铵》中Ⅱ型指标要求。 展开更多
关键词 废硫酸 蚀刻液 氨水中和 硫酸铵 流程模拟
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TC18钛合金电化学蚀刻标记新工艺研究 被引量：1
9
作者 李博 李涛 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2018年第6期14-16,共3页
针对TC18钛合金零件电化学蚀刻标记深度不满足0.08 mm^0.13 mm要求的生产现状,引入新牌号蚀刻液MA04、T10和新牌号蚀刻纸DIG-3100、LST6010,对TC18钛合金进行电化学蚀刻标记工艺研究。结果表明,使用蚀刻液MA04、T10和蚀刻纸DIG-3100、LS... 针对TC18钛合金零件电化学蚀刻标记深度不满足0.08 mm^0.13 mm要求的生产现状,引入新牌号蚀刻液MA04、T10和新牌号蚀刻纸DIG-3100、LST6010,对TC18钛合金进行电化学蚀刻标记工艺研究。结果表明,使用蚀刻液MA04、T10和蚀刻纸DIG-3100、LST6010后,标记深度及清晰度均满足要求,具有一定的应用和推广价值。 展开更多
关键词 电化学蚀刻 蚀刻液 蚀刻纸 蚀刻深度 清晰度
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铜蚀刻液蚀刻工艺的研究 被引量：2
10
作者 章学春 聂航 李玉兴 《上海化工》 CAS 2023年第4期33-36,共4页
研究了以过氧化氢为主成分的铜蚀刻液。采用小试蚀刻机模拟产线测试条件,考察铜离子质量浓度、铜络合剂的种类与质量分数、过氧化氢质量分数、蚀刻温度以及蚀刻压力对铜蚀刻速率的影响。得到的最佳蚀刻条件为:铜离子质量浓度为3 g/L,铜... 研究了以过氧化氢为主成分的铜蚀刻液。采用小试蚀刻机模拟产线测试条件,考察铜离子质量浓度、铜络合剂的种类与质量分数、过氧化氢质量分数、蚀刻温度以及蚀刻压力对铜蚀刻速率的影响。得到的最佳蚀刻条件为:铜离子质量浓度为3 g/L,铜络合剂选用亚氨基二乙酸且质量分数为1.5%,过氧化氢质量分数为20%,温度为30~45℃,压力为0.2 MPa。 展开更多
关键词 过氧化氢 铜 蚀刻液
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电子工业含磷酸废液资源化处理技术研究 被引量：3
11
作者 李洋 卢正杰 张奎 《中国资源综合利用》 2022年第4期97-99,共3页
我国电子工业高速发展,作为其中关键化学品,电子级磷酸的需求增长显著。使用后,蚀刻等工序会产生较多的含磷酸废液。本文根据含磷酸废液的产生过程及特点,结合危险废物处理的行业经验,从提纯和制盐两大方向论述含磷酸废液的资源化处理技... 我国电子工业高速发展,作为其中关键化学品,电子级磷酸的需求增长显著。使用后,蚀刻等工序会产生较多的含磷酸废液。本文根据含磷酸废液的产生过程及特点,结合危险废物处理的行业经验,从提纯和制盐两大方向论述含磷酸废液的资源化处理技术,使危险废物处理企业在处理含磷酸废液时选择对自身最有利的资源化处理技术。 展开更多
关键词 电子工业 含磷酸废液 蚀刻液 资源化处理 危险废物
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蒙砂玻璃的研制与吸光效应的表征 被引量：3
12
作者 李运涛 许淑嫱 +2 位作者 谌建初 李羽哲 刘存海 《西北师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2016年第4期68-71,共4页
对蒙砂玻璃研制的工艺技术做了研究,确立了蒙砂玻璃蚀刻液的组成和配比为NH_4F∶(NH_4)_2SO_4∶MgNH_4PO_4∶H_2SO_4∶H_2O=7.1∶1.2∶0.4∶4.5∶9.9,选择了玻璃蒙砂的优化工艺为:30℃水浴下加热,pH=2.0,蒙砂时间5min.对所研制的蒙砂玻... 对蒙砂玻璃研制的工艺技术做了研究,确立了蒙砂玻璃蚀刻液的组成和配比为NH_4F∶(NH_4)_2SO_4∶MgNH_4PO_4∶H_2SO_4∶H_2O=7.1∶1.2∶0.4∶4.5∶9.9,选择了玻璃蒙砂的优化工艺为:30℃水浴下加热,pH=2.0,蒙砂时间5min.对所研制的蒙砂玻璃进行了SEM和EDS测试,在最大吸收波长为580nm时,对吸光效应做了表征.结果表明,应用此技术研制的蒙砂玻璃,其吸光效应良好,透光率适宜,蒙砂均匀,表面光洁度高,为蒙砂玻璃的工业化加工提供了环保型可持续化生产途径. 展开更多
关键词 蒙砂玻璃 蚀刻液 透光率
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研究蚀刻液稳定性的一种方法 被引量：1
13
作者 傅玉婷 巴俊洲 +1 位作者 蒋亚雄 颜飞雪 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期91-92,96,共3页
为了得到更好的蚀刻效果,有必要研究蚀刻液的稳定性,因而研究方法显得尤为重要。研究了3组各成分含量不同的蚀刻液的稳定性,通过原子发射光谱法测得蚀刻液中Ni2+浓度,并间接计算出腐蚀量,对比考察了根据蚀刻速率-腐蚀量的关系和蚀刻速率... 为了得到更好的蚀刻效果,有必要研究蚀刻液的稳定性,因而研究方法显得尤为重要。研究了3组各成分含量不同的蚀刻液的稳定性,通过原子发射光谱法测得蚀刻液中Ni2+浓度,并间接计算出腐蚀量,对比考察了根据蚀刻速率-腐蚀量的关系和蚀刻速率-时间的关系研究蚀刻液稳定性这2种方法。实验结果证明:根据蚀刻速率-腐蚀量的关系研究蚀刻液的稳定性具有可行性,且更具优越性;同时,3种蚀刻液中,1B42稳定性最好,且该蚀刻液的最大金属腐蚀量为3 g/L。 展开更多
关键词 化学蚀刻 蚀刻液 稳定性
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混合溶盐对玻璃化学蚀刻的研究 被引量：2
14
作者 刘存海 石晶 喻英 《陕西科技大学学报（自然科学版）》 2011年第2期21-23,31,共4页
采用扫描电镜及其附带X射线能谱仪研究了氟化铵、硫酸铵、草酸、水的混合溶盐对硅酸盐玻璃的侵蚀,对其影响因素进行了探讨,并且与氢氟酸侵蚀的形貌作了对比.结果表明:采用混合溶盐法在28℃下侵蚀4 h,玻璃受侵蚀较明显,并且相同条件下要... 采用扫描电镜及其附带X射线能谱仪研究了氟化铵、硫酸铵、草酸、水的混合溶盐对硅酸盐玻璃的侵蚀,对其影响因素进行了探讨,并且与氢氟酸侵蚀的形貌作了对比.结果表明:采用混合溶盐法在28℃下侵蚀4 h,玻璃受侵蚀较明显,并且相同条件下要比氢氟酸侵蚀效果好. 展开更多
关键词 化学蚀刻 表面形貌 蚀刻液 正交实验
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氨碱性蚀刻液中铜溶解过程的化学动力学 被引量：2
15
作者 梁炜 《化学工程》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期64-67,共4页
氨碱性溶液是印制电路板工业中采用最为广泛的蚀刻溶液,但是关于溶液中铜溶解过程的动力学研究还比较缺乏。研究利用模拟实验的方法,定量地研究了铜溶解反应的化学动力学性质。当速度梯度G值大于7 570 s^(-1)时,铜溶解速率不受混合强度... 氨碱性溶液是印制电路板工业中采用最为广泛的蚀刻溶液,但是关于溶液中铜溶解过程的动力学研究还比较缺乏。研究利用模拟实验的方法,定量地研究了铜溶解反应的化学动力学性质。当速度梯度G值大于7 570 s^(-1)时,铜溶解速率不受混合强度影响的传质速率限制;在反应前120 s内,平均单位面积铜溶解质量与反应时间呈线性关系,反应的速率常数约为0.137 3 mg/(cm^2·s);溶液Cu^(2+)浓度低于0.8 mol/L时,铜溶解速率随Cu^(2+)浓度增大而线性增大,此区间反应符合一级反应动力学;Cu^(2+)浓度约为1.0 mol/L时溶解速率最大;温度对反应速率的影响非常显著,升高温度反应速率增加较快,50℃时溶解速率可达21.106μm·L/(min·mol);溶解反应的Arrhenius活化能Ea约为23.7 k J,频率因子A约为1.43×10~5。 展开更多
关键词 蚀刻液 铜 动力学 氨
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A-100高强钢晶粒显示优选方法 被引量：2
16
作者 刘玉芬 《理化检验（物理分册）》 CAS 2019年第8期538-541,共4页
采用不同的化学浸蚀液,研究了A-100高强钢晶界的显示效果;使用恒温水浴锅,测定了在不同温度的浸蚀液下晶界的显示时间;利用金相显微镜观察该钢晶界显示是否清晰。结果表明:A-100高强钢晶粒显示的推荐化学浸蚀液为过饱和苦味酸+雕牌洗涤... 采用不同的化学浸蚀液,研究了A-100高强钢晶界的显示效果;使用恒温水浴锅,测定了在不同温度的浸蚀液下晶界的显示时间;利用金相显微镜观察该钢晶界显示是否清晰。结果表明:A-100高强钢晶粒显示的推荐化学浸蚀液为过饱和苦味酸+雕牌洗涤剂溶液(结晶状)以及过饱和苦味酸+白猫洗涤剂溶液(结晶状);浸蚀液温度为40℃或45℃时,清晰显示晶界所用的时间最短。 展开更多
关键词 A-100高强钢 晶粒度 浸蚀液
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玻璃表面微结构的构建及其雾度和亲疏水性的调节 被引量：2
17
作者 王金磊 李刚 +2 位作者 杨扬 金克武 鲍田 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第7期165-171,224,共8页
目的提高蒙砂玻璃的雾度以及调控其表面的亲疏水性。方法通过在酸蚀液中添加不同浓度的KCl,可控调节蒙砂玻璃表面微纳结构,并利用光学轮廓仪对表面形貌和粗糙度进行表征分析。通过分光光度仪对蒙砂玻璃的雾度、透过率进行测试,并使用接... 目的提高蒙砂玻璃的雾度以及调控其表面的亲疏水性。方法通过在酸蚀液中添加不同浓度的KCl,可控调节蒙砂玻璃表面微纳结构,并利用光学轮廓仪对表面形貌和粗糙度进行表征分析。通过分光光度仪对蒙砂玻璃的雾度、透过率进行测试,并使用接触角测量仪对其亲疏水性进行分析评价。结果通过调节酸蚀液中KCl的加入量,得到具有不同表面微结构及表面粗糙度的蒙砂玻璃。酸蚀液中KCl的加入,可以实现不损失玻璃透过率的同时,将蒙砂玻璃的雾度提高1个数量级,从4.23%提高至73.11%。酸蚀液中加入质量分数20%的KCl,可实现蒙砂玻璃表面较好的亲水性,接触角达20.9°,而玻璃原片的接触角仅为47.5°。在蒙砂玻璃表面涂覆十三氟辛基三乙氧基硅烷,100℃下热处理30min,可实现蒙砂玻璃较强的疏水性,对水的接触角达到124.3°。结论酸蚀液中加入KCl可以实现酸蚀蒙砂玻璃表面微结构的构建,并且通过控制KCl的加入量,提高蒙砂玻璃的透过率和雾度,实现较好的亲水性。用低表面能物质十三氟辛基三乙氧基硅烷成功对具有一定表面微结构的蒙砂玻璃进行修饰,将蒙砂玻璃由亲水性变为较强的疏水性。 展开更多
关键词 酸蚀液 表面微结构 雾度 亲水性 疏水性 蒙砂玻璃 透过率
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浅析酸性蚀刻液的回收和回用 被引量：2
18
作者 王刚 杨卫峰 +7 位作者 刘喆 叶军 于虹 杜树廷 张振军 李秀敏 刘增 初立波 《印制电路信息》 2013年第5期141-145,共5页
环保、节能、可持续发展是时代发展的大势所趋,PCB行业如何更好的跟上时代发展的步伐呢?文章针对蚀刻液的污染问题,从新配蚀刻子液和回收回用子液两方面,论述实际应用的可行性。
关键词 环保 回用 蚀刻液
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纳米多孔铜带的制备及表征 被引量：2
19
作者 李梅 周永志 耿浩然 《济南大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2012年第2期111-114,共4页
以Cu15Al85合金薄带为前驱体,采用去合金化法,制备孔结构单一、均匀且三维贯通的纳米多孔铜(NPC),研究不同去合金腐蚀液和退火处理条件对样品微观形貌的影响。经场发射扫描电镜(FE-SEM)、X-射线衍射(XRD)和能谱仪(EDS)对NPC检测,结果表... 以Cu15Al85合金薄带为前驱体,采用去合金化法,制备孔结构单一、均匀且三维贯通的纳米多孔铜(NPC),研究不同去合金腐蚀液和退火处理条件对样品微观形貌的影响。经场发射扫描电镜(FE-SEM)、X-射线衍射(XRD)和能谱仪(EDS)对NPC检测,结果表明:与在w(HCl)=5%的酸性腐蚀液中自由腐蚀去合金化得到的NPC相比,经w(NaOH)=5%的碱性腐蚀形成的NPC的多孔结构更加完整,孔径由150 nm减小到100 nm,孔壁由40 nm减小到10 nm;对前躯体合金薄带进行退火处理后,去合金化形成的NPC多孔形貌更加完整均一,孔径尺寸由150 nm减小到100 nm。 展开更多
关键词 去合金化 纳米多孔铜 腐蚀液 退火处理
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电位滴定法测定化铣钛合金的腐蚀溶液中HNO_3、HF以及Ti(Ⅳ)的含量 被引量：2
20
作者 严鹏飞 刘海东 +2 位作者 郭安儒 姚静芬 赵政鑫 《理化检验（化学分册）》 CAS CSCD 北大核心 2018年第12期1435-1440,共6页
提出了测定化铣钛合金的腐蚀溶液中HNO3、HF及Ti(Ⅳ)浓度的新方法。(1)取适量样品,在50mL乙醇(2+3)溶液中,与1.000g KNO3反应,使样品中的H2TiF6转化为K2TiF6沉淀并同时生成HNO3,借此抑制Ti(Ⅳ)的水解反应。用0.500mol·L^(-1) NaOH... 提出了测定化铣钛合金的腐蚀溶液中HNO3、HF及Ti(Ⅳ)浓度的新方法。(1)取适量样品,在50mL乙醇(2+3)溶液中,与1.000g KNO3反应,使样品中的H2TiF6转化为K2TiF6沉淀并同时生成HNO3,借此抑制Ti(Ⅳ)的水解反应。用0.500mol·L^(-1) NaOH溶液作滴定液,耐氢氟酸pH电极作指示电极,用电位滴定法测定所取样品的总酸度。(2)另取适量样品,加入已知且过量的0.500mol·L^(-1) NaOH溶液,在60℃反应20min,使Ti(Ⅳ)生成Ti(OH)4沉淀,随即用0.500mol·L^(-1) HCl溶液电位滴定法测定体系中过量的氢氧化钠,据此计算样品中Ti(Ⅳ)的浓度。(3)取5.00mL样品,加入水50mL,用NaOH溶液调节pH至6.0～8.0,用水定容至100mL,分取溶液5.00 mL,加入pH 6.5的六次甲基四胺缓冲溶液10 mL,加水至约60 mL,用0.016 7mol·L^(-1) La(NO3)3溶液为滴定剂,氟离子选择电极为指示电极,电位滴定法测定样品中的总氟化物浓度。按所给公式分别计算样品中HNO3、HF及Ti(Ⅳ)的浓度。用标准HNO3、HF及H2TiF6配制的合成样品,按所提出方法分析所得结果均与理论值相符。以生产线实际样品为基础作加标回收试验,测得HF、Ti(Ⅳ)及HNO3的回收率依次在97.8%～101%,98.9%～99.7%,97.8%～103%之间。 展开更多
关键词 钛合金化铣 腐蚀溶液 电位滴定法 硝酸 氢氟酸 Ti(Ⅳ)
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