期刊文献+
共找到29篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
金刚石薄膜涂层刀具的研究进展与应用现状 被引量:14
1
作者 匡同春 王晓初 刘正义 《硬质合金》 CAS 1999年第1期41-50,共10页
CVD金刚石是采用化学气相沉积的方法制备出来的一种全晶质多晶纯金刚石材料,它可以呈膜状附着于刀(基)体表面,亦可以是脱离基体的纯金刚石厚片。CVD金刚石的物理性能和天然金刚石非常接近,化学性质则完全相同。本文重点对金刚石薄... CVD金刚石是采用化学气相沉积的方法制备出来的一种全晶质多晶纯金刚石材料,它可以呈膜状附着于刀(基)体表面,亦可以是脱离基体的纯金刚石厚片。CVD金刚石的物理性能和天然金刚石非常接近,化学性质则完全相同。本文重点对金刚石薄膜涂层刀具的研究进展、切削试验结果及应用前景进行简要的综述。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 刀具 涂层刀具 应用现状 研究进展
原文传递
硬质合金刀具基体沉积低表面粗糙度金刚石薄膜的工艺研究 被引量:6
2
作者 陈明 孙方宏 +2 位作者 张志明 沈荷生 胡德金 《工具技术》 北大核心 2000年第3期9-13,共5页
CVD金刚石薄膜刀具的表面粗糙度是影响刀具切削性能的重要参数。为通过改进CVD沉积工艺减小金刚石薄膜表面粗糙度 ,提出了适当提高碳源浓度和合理控制沉积气压两项新的工艺方法 。
关键词 cvd 金刚石薄膜 表面粗糙度 硬质合金刀具
下载PDF
Cr过渡层沉积粘附型CVD金刚石膜的机理研究 被引量:5
3
作者 卢文壮 左敦稳 +2 位作者 王珉 黎向锋 徐锋 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第18期1676-1680,共5页
研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺 ,在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜。利用SEM分析了电沉积层的形貌 ,利用EPMA分析了H等离子处理后电沉积层的断面 ,利用SEM和Ra man分析了金刚石膜的表面形貌、成分 ... 研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺 ,在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜。利用SEM分析了电沉积层的形貌 ,利用EPMA分析了H等离子处理后电沉积层的断面 ,利用SEM和Ra man分析了金刚石膜的表面形貌、成分 ,利用XRD分析了过渡层和CVD金刚石膜的结合面 ,利用压痕法研究了金刚石薄膜与基体的结合力。结果表明 ,H等离子处理使得硬质合金与Cr镀层成为冶金结合 ,提高了电沉积层的结合强度 ;在Cr过渡层与金刚石膜之间形成的Cr3C2 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 硬质合金 电沉积Cr 过渡层 结合强度
下载PDF
CVD金刚石厚膜刀具的研究进展与应用现状 被引量:2
4
作者 匡同春 王晓初 +3 位作者 成晓玲 白晓军 王成勇 刘正义 《硬质合金》 CAS 1999年第2期98-103,共6页
金刚石厚膜片是采用化学气相沉积的方法制备出来的一种全晶质多晶纯金刚石材料,其物理性能和天然金刚石非常接近.而化学性质则完全相同。本文对CVD金刚石厚膜刀具的研究进展、制备方法、性能特点、切削试验结果及应用前景进行了简要... 金刚石厚膜片是采用化学气相沉积的方法制备出来的一种全晶质多晶纯金刚石材料,其物理性能和天然金刚石非常接近.而化学性质则完全相同。本文对CVD金刚石厚膜刀具的研究进展、制备方法、性能特点、切削试验结果及应用前景进行了简要的综述。 展开更多
关键词 cvd 金刚石厚膜 刀具 研究进展 应用现状
原文传递
基于Cr过渡层沉积CVD金刚石涂层的试验研究 被引量:5
5
作者 卢文壮 左敦稳 +1 位作者 王珉 黎向锋 《南京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期462-465,共4页
研究了在硬质合金上基于 Cr过渡层沉积 CVD( Chemical vapor deposition)金刚石涂层的工艺 ,利用自制的 CVD金刚石沉积设备制备出晶形完整、晶粒大小均匀、分布连续的金刚石涂层。用 SEM和 Raman光谱对CVD金刚石涂层进行了分析。结果表... 研究了在硬质合金上基于 Cr过渡层沉积 CVD( Chemical vapor deposition)金刚石涂层的工艺 ,利用自制的 CVD金刚石沉积设备制备出晶形完整、晶粒大小均匀、分布连续的金刚石涂层。用 SEM和 Raman光谱对CVD金刚石涂层进行了分析。结果表明 ,沉积工艺对金刚石的形态和成分有显著影响 ,基体温度在 80 0℃左右时 ,可以得到晶形完整 ,非金刚石成分较少 ,与基体结合紧密的 CVD金刚石涂层。 展开更多
关键词 化学气相沉积 金刚石涂层 试验研究 Cr过渡层 硬质合金 刀具
下载PDF
基于电沉积过渡层沉积CVD金刚石薄膜的研究 被引量:6
6
作者 卢文壮 左敦稳 +2 位作者 王珉 黎向锋 徐锋 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期13-17,共5页
在硬质合金的Cu、Ni、Cr电沉积过渡层上采用热丝CVD法沉积出金刚石薄膜。利用SEM和Raman对金刚石薄膜进行了研究,对影响膜基结合强度的因素进行了分析,利用压痕法对金刚石薄膜与基体的结合强度进行了检验。结果表明,在Cr过渡层上沉积的... 在硬质合金的Cu、Ni、Cr电沉积过渡层上采用热丝CVD法沉积出金刚石薄膜。利用SEM和Raman对金刚石薄膜进行了研究,对影响膜基结合强度的因素进行了分析,利用压痕法对金刚石薄膜与基体的结合强度进行了检验。结果表明,在Cr过渡层上沉积的金刚石薄膜的质量和膜基结合性能较好,优于在Cu、Ni过渡层上沉积的金刚石薄膜的质量和膜基结合性能。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 电沉积 过渡层 硬质合金 结合强度 热丝cvd
下载PDF
金刚石膜与硬质合金基体间的界面状态 被引量:5
7
作者 匡同春 刘正义 +2 位作者 代明江 周克崧 王德政 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第7期779-784,共6页
采用SEM,TEM对金刚石膜-硬质合金基体横截面的形态进行了研究,探讨了甲烷含量对CVD金刚石膜-基横截面各组织层次的影响结果表明。
关键词 cvd金刚石膜 硬质合金 界面 横截面形貌
下载PDF
CVD金刚石薄膜在微机电系统(MEMS)中的应用 被引量:4
8
作者 郭江 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期349-351,共3页
 金刚石薄膜由于其独特的物理、化学和电学等特性,使其作为在极具发展潜力的MEMS中一种理想的材料,越来越得到人们的重视。此外近来各种金刚石薄膜的合成和加工方法已不断发展,使金刚石薄膜MEMS已逐步从原理的证明转向了实际的应用。...  金刚石薄膜由于其独特的物理、化学和电学等特性,使其作为在极具发展潜力的MEMS中一种理想的材料,越来越得到人们的重视。此外近来各种金刚石薄膜的合成和加工方法已不断发展,使金刚石薄膜MEMS已逐步从原理的证明转向了实际的应用。本文简述了金刚石膜在MEMS中应用的技术基础及其在MEMS中应用的最新进展,着重介绍了金刚石喷嘴在生物芯片中的应用;半导体金刚石探针(既可用作隧道扫描显微镜探针又可作为一种抛光表面的微型工具);世界上最微型的金刚石外科手术刀及微型电夹。 展开更多
关键词 微机电系统 金刚石薄膜 cvd 生物芯片 半导体金刚石探针 金刚石外科手术刀 微型电夹
下载PDF
气相法生长金刚石薄膜过程和热解 CVD 实验 被引量:3
9
作者 张志明 丁正明 +3 位作者 万锃 庄志诚 洪爱玲 李胜华 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第2期73-80,共8页
本文简述了气相法生长金刚石薄膜的基本过程,论述了反应气体系统及碳源浓度、激活源、基片温度和预处理等参数对金刚石结构和性能的重要影响.
关键词 金刚石薄膜 热解cvd 薄膜 气相法 生长
下载PDF
沉积参数对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响 被引量:3
10
作者 孟宪明 王凤英 +3 位作者 黑立富 姜春生 唐伟忠 吕反修 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期393-396,401,共5页
用强电流直流伸展电弧化学气相沉积金刚石薄膜装置,在CH4-Ar和CH4-H2-Ar气氛中沉积了纳米金刚石薄膜,研究了沉积气氛中H2加入量和沉积压力对金刚石薄膜显微组织和生长机制的影响.沉积气氛中H2含量对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸和生... 用强电流直流伸展电弧化学气相沉积金刚石薄膜装置,在CH4-Ar和CH4-H2-Ar气氛中沉积了纳米金刚石薄膜,研究了沉积气氛中H2加入量和沉积压力对金刚石薄膜显微组织和生长机制的影响.沉积气氛中H2含量对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸和生长速度有显著影响,随着H2含量增加,金刚石晶粒尺寸增大,薄膜生长速度提高.在1%CH4-Ar气氛中沉积的纳米金刚石薄膜,晶粒尺寸细小,薄膜表面形貌光滑平整.在1%CH4-少量H2-Ar气氛中沉积的金刚石薄膜,晶粒尺寸小于100nm,薄膜表面形貌较平整.随着沉积压力提高,金刚石薄膜的生长速度增大.用激光Ram an对金刚石薄膜进行了表征. 展开更多
关键词 cvd 压力 氢气含量 金刚石薄膜
下载PDF
CVD金刚石薄膜的介电性能研究 被引量:2
11
作者 汪浩 郭林 +1 位作者 翟华嶂 朱鹤孙 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期202-203,共2页
对直流电弧等离子体CVD制备的金刚石薄膜的介电性能进行了研究,结果表明。
关键词 金刚石薄膜 cvd 介电性能
下载PDF
Mo衬底生长金刚石薄膜表面晶形研究 被引量:3
12
作者 杨国伟 毛友德 《高压物理学报》 CAS CSCD 北大核心 1993年第2期156-160,共5页
用HFCVD方法在Ho衬底上进行了金刚石薄膜生长研究,观察到在不同的反应压强条件下,金刚石薄膜晶粒的三种形貌,并且讨论了反应条件对晶粒形貌的影响以及菜花状大晶粒的构成机理。
关键词 热丝cvd 金刚石 薄膜 晶体形态学
下载PDF
微波等离子体刻蚀处理对金刚石薄膜涂层刀具附着力和切削性能的影响(英文) 被引量:3
13
作者 孙方宏 张志明 +1 位作者 沈荷生 陈明 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第3期222-226,共5页
用HFCVD法在硬质合金( YG6)刀具衬底上沉积金刚石薄膜,用氢微波等离子体刻蚀的方法 对衬底进行表面预处理, 研究了该预处理技术对 WC硬质合金衬底表面成分的影响。 进一步探 讨了所沉积金刚石薄膜的表面形貌和附着力,并通过难加... 用HFCVD法在硬质合金( YG6)刀具衬底上沉积金刚石薄膜,用氢微波等离子体刻蚀的方法 对衬底进行表面预处理, 研究了该预处理技术对 WC硬质合金衬底表面成分的影响。 进一步探 讨了所沉积金刚石薄膜的表面形貌和附着力,并通过难加工材料实际切削试验,研究了所制备的金刚石薄膜涂层刀具的切削性能。试验结果表明,Ar-H2微波等离子体刻蚀脱碳处理是提高金刚石薄膜附着力和改善涂层刀具切削性能的有效预处理方法。 展开更多
关键词 cvd 金刚石薄膜 微波等离子体 附着力 切削性能 刻蚀 涂层刀具
原文传递
等离子体CVD生长金刚石薄膜中衬底负偏压增强成核机制 被引量:2
14
作者 杨国伟 《高压物理学报》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期114-121,共8页
提出了近年来实验发现的在等离子体化学气相沉积(PCVD)金刚石薄膜中衬底负偏压增强成核效应的理论模型,给出了偏压增强成核效应与沉积参数诸如反应压强和碳源浓度等的关系,解释了在负偏压增大时,反应压强和碳源浓度的变化对成... 提出了近年来实验发现的在等离子体化学气相沉积(PCVD)金刚石薄膜中衬底负偏压增强成核效应的理论模型,给出了偏压增强成核效应与沉积参数诸如反应压强和碳源浓度等的关系,解释了在负偏压增大时,反应压强和碳源浓度的变化对成核增强强度的影响,并且讨论了阈值负偏压问题。本模型得到的理论结果与文献中的实验结果基本一致。 展开更多
关键词 等离子体 金刚石 薄膜 成核 cvd
下载PDF
CVD金刚石薄膜的织构分析 被引量:2
15
作者 毛卫民 陈楠 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期259-261,共3页
采用极图和取向分布函数法分析CVD金刚石薄膜的不同织构.分析表明,高的多重性因子使得{110}面织构有更高的出现概率.具体分析了{221}面织构出现的孪生机制,强调了织构与性能关系研究的重要性,并推荐使用先进织构分析手段.
关键词 金刚石薄膜 面织构 cvd 化学气相沉积 织构生成
下载PDF
VAPOUR PHASE METHOD FOR DIAMOND THIN FILM GROWTH
16
作者 金曾孙 吕宪义 +1 位作者 皇甫萍 邹广田 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1990年第12期988-991,共4页
Diamond has extreme hardness and is a new type of multi-function material which has excellent electrical, optical, thermal and mechanical properties.Russian scientists Derjaguin et al. successfully synthesized diamond... Diamond has extreme hardness and is a new type of multi-function material which has excellent electrical, optical, thermal and mechanical properties.Russian scientists Derjaguin et al. successfully synthesized diamond on nondiamond substrates by chemical transport reaction method in 1976. In 1982, Japanese sci- 展开更多
关键词 diamond thin film HOT FILAMENT cvd CRYSTAL feature.
原文传递
热丝CVD法制备大面积金刚石薄膜基片的变形 被引量:1
17
作者 陈峰武 周灵平 +3 位作者 朱家俊 李德意 彭坤 李绍禄 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2011年第7期35-38,共4页
采用热丝CVD法制备的大面积金刚石薄膜存在基片变形严重的问题,通过对热丝CVD设备和沉积工艺进行改进,成功解决了直径76mm、厚度0.4mm硅片的变形问题。结果表明:改进后金刚石薄膜基片的翘曲度为0.296%,比改进前的降低了88.9%;改进后金... 采用热丝CVD法制备的大面积金刚石薄膜存在基片变形严重的问题,通过对热丝CVD设备和沉积工艺进行改进,成功解决了直径76mm、厚度0.4mm硅片的变形问题。结果表明:改进后金刚石薄膜基片的翘曲度为0.296%,比改进前的降低了88.9%;改进后金刚石薄膜的质量及晶粒大小均匀,膜厚不均匀度仅为1.53%,具有优异的大面积均匀性。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 热丝cvd 变形 均匀性
下载PDF
化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量(英文) 被引量:1
18
作者 骆金龙 应萱同 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第3期284-286,共3页
报道了化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量,提出了监控金刚石薄膜生长的激 光反射多光束干涉的数学模型。通过原位反射率的测量, 精确监控了金刚石薄膜的生长厚度 , 成功地制备了红外增透膜。这种方法的测量装置简单、紧凑... 报道了化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量,提出了监控金刚石薄膜生长的激 光反射多光束干涉的数学模型。通过原位反射率的测量, 精确监控了金刚石薄膜的生长厚度 , 成功地制备了红外增透膜。这种方法的测量装置简单、紧凑而且可靠。 展开更多
关键词 cvd 金刚石薄膜 原位测量 反射率
原文传递
偏压预处理在CVD金刚石成核中的作用
19
作者 杨国伟 余仲秋 《微细加工技术》 EI 1996年第4期71-74,共4页
本文基于已经得到的实验结果,分析了在负直流偏压、正直流偏压,以及叠加交流成份的负直流偏压等预处理过程中,偏压在不同CVD生长的金刚石薄膜中对金刚石成核的影响。讨论了生长参数中反应压强和碳源浓度等变化对偏压增强成核效应... 本文基于已经得到的实验结果,分析了在负直流偏压、正直流偏压,以及叠加交流成份的负直流偏压等预处理过程中,偏压在不同CVD生长的金刚石薄膜中对金刚石成核的影响。讨论了生长参数中反应压强和碳源浓度等变化对偏压增强成核效应的影响。 展开更多
关键词 cvd 金刚石薄膜 成核 偏压预处理
下载PDF
热丝CVD生长金刚石薄膜研究 被引量:1
20
作者 杨国伟 毛友德 《光子学报》 EI CAS CSCD 1995年第2期175-178,共4页
本文研究了热丝CVD方法生长金刚石薄膜过程中,衬底表面的损伤处理对金刚石薄膜光学性能的影响,以及膜中非本征杂质吸收对其红外光学特性的影响。
关键词 热丝cvd 金刚石薄膜 生长
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部