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溅射工艺参数对Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜沉积速率和介电性能的影响 被引量:7
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作者 林明通 陈国荣 +2 位作者 杨云霞 肖田 楼均辉 《真空》 CAS 北大核心 2005年第6期39-42,共4页
铁电/介电BST(B axS r1-xT iO3)薄膜在微电子学、集成光学和光电子学等新技术领域有广泛的应用前景。用射频磁控溅射方法制备了厚约700 nm的B a0.5S r0.5T iO3薄膜,采用A l/BST/ITO结构研究了溅射功率、溅射气压、O2/(A r+O2)比和基片... 铁电/介电BST(B axS r1-xT iO3)薄膜在微电子学、集成光学和光电子学等新技术领域有广泛的应用前景。用射频磁控溅射方法制备了厚约700 nm的B a0.5S r0.5T iO3薄膜,采用A l/BST/ITO结构研究了溅射功率、溅射气压、O2/(A r+O2)比和基片温度对上述BST薄膜沉积速率和介电性能的影响,并根据这些结果分析了较优的工艺条件,同时用XRD、XPS和SEM研究了薄膜的晶相、组成和显微结构。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 ba0.5sr0.5tio3薄膜 沉积速率 介电常数 击穿场强 品质因子
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改进水热法制备Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜及其表征 被引量:3
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作者 赖欣 高道江 毕剑 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1673-1676,共4页
采用改进水热法(金属Ti片与等浓度的Ba2+,Sr2+强碱性溶液于250℃水热反应5h,然后经过600℃,0.5h烧结处理)制备了单一立方相的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜。制备的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜通过XRD,SEM和XPS进行表征分析。结果表明:600℃下经过0.5h烧... 采用改进水热法(金属Ti片与等浓度的Ba2+,Sr2+强碱性溶液于250℃水热反应5h,然后经过600℃,0.5h烧结处理)制备了单一立方相的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜。制备的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜通过XRD,SEM和XPS进行表征分析。结果表明:600℃下经过0.5h烧结处理的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜结晶更完整;同时,制备的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜表面吸附有OH,经过10min刻蚀处理后,吸附的OH能谱峰消失。 展开更多
关键词 改进 水热 制备 ba0.5sr0.5tio3薄膜 表征
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Fe掺杂对Ba_0.5Sr_0.5TiO_3薄膜微观结构与电学性质的影响研究
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作者 娄本浊 《陶瓷》 CAS 2012年第15期23-25,共3页
笔者利用射频磁控溅镀法在Pt/SiO2/Si(100)基板上制备出Fe掺杂量分别为0、0.5%、1.0%、2.0%、3.0%及5.0%的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜,并讨论了Fe掺杂含量对其微观结构结与电学性质的影响。由XRD分析可知,Fe掺杂对Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜的晶体结... 笔者利用射频磁控溅镀法在Pt/SiO2/Si(100)基板上制备出Fe掺杂量分别为0、0.5%、1.0%、2.0%、3.0%及5.0%的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜,并讨论了Fe掺杂含量对其微观结构结与电学性质的影响。由XRD分析可知,Fe掺杂对Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜的晶体结构并无较大的影响;从SEM结果则可得出,微量Fe掺杂时薄膜较为致密,且晶粒大小较一致。电性结果表明,掺Fe薄膜的相对介电常数和电容均呈现下降趋势,且Fe掺杂含量分别为0.5%、1.0%及2.0%时薄膜具有较小的漏电流密度。 展开更多
关键词 ba0.5sr0.5tio3薄膜 Fe掺杂效应 射频磁控溅镀法 微观结构 电学性质
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沉积温度和退火处理对Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3介电性能的影响
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作者 楼均辉 林明通 +3 位作者 陈国荣 杨云霞 肖田 陈晨曦 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第F05期351-353,共3页
采用射频磁控溅射法在ITO/Coming1737玻璃基片上制备了用于无机EL绝缘层厚约700hm的Ba0.5-Sr0.5TiO3介电薄膜,研究了沉积温度和退火处理对薄膜介电性能的影响。实验表明,随着沉积温度的升高,薄膜的介电常数、介电损耗、正反向漏电... 采用射频磁控溅射法在ITO/Coming1737玻璃基片上制备了用于无机EL绝缘层厚约700hm的Ba0.5-Sr0.5TiO3介电薄膜,研究了沉积温度和退火处理对薄膜介电性能的影响。实验表明,随着沉积温度的升高,薄膜的介电常数、介电损耗、正反向漏电流密度增加,击穿场强下降。对于在500℃下沉积的薄膜在550~700℃、1.8×10^-2Pa氧气氛中进行30min退火处理,结果发现在550℃和600℃下热处理介电损耗有所改善,其它参数都劣化;在650℃-700℃下热处理介电常数显著增加,其它性能都变差。 展开更多
关键词 ba0.5sr0.5tio3薄膜 介电性能 沉积温度 退火处理
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Effect of LaNiO_3 Interlayer on the Dielectric Properties of Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3 Thin Film on Si Substrate
5
作者 张丛春 杨春生 +1 位作者 石金川 饶瑞 《Journal of Shanghai Jiaotong university(Science)》 EI 2009年第2期133-136,共4页
In this study,(100)-oriented growth of Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3(BST)/LaNiO_3(LNO) stacks was obtained on Pt(111)/SiO_2/Si substrates by r.f.magnetron sputtering.The orientation of the subsequently deposited Ba_(0.5)Sr_(0... In this study,(100)-oriented growth of Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3(BST)/LaNiO_3(LNO) stacks was obtained on Pt(111)/SiO_2/Si substrates by r.f.magnetron sputtering.The orientation of the subsequently deposited Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3 thin film was strongly affected by the LNO under layer,and the BST thin film deposited on the(100)LNO-coated Si substrate was also found to have a significant(100)-oriented texture.Effects of LNO interlayer on the dielectric properties of BST thin films were investigated.As a result,the tunability of BST thin film was greatly improved with the insertion of(100)-oriented LNO under layer with proper thickness. 展开更多
关键词 magnetron sputtering thin films ORIENTAtioN buffer layer dielectric properties
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用PLD在不同衬底上制备Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜
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作者 马维云 《科技传播》 2011年第18期143-144,共2页
用固相反应法制备了Ba0.5Sr0.5TiO3靶材,采用在LaAl03(100)衬底上PLD法制备Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜的最佳条件(衬底温度760℃,生长氧压5Pa,脉冲激光能量350mj,频率5Hz,不退火直接降温),利用PLD技术在LaAl03(100),SrTiO3(100),LSAT(100)单晶... 用固相反应法制备了Ba0.5Sr0.5TiO3靶材,采用在LaAl03(100)衬底上PLD法制备Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜的最佳条件(衬底温度760℃,生长氧压5Pa,脉冲激光能量350mj,频率5Hz,不退火直接降温),利用PLD技术在LaAl03(100),SrTiO3(100),LSAT(100)单晶平衬底上制备了Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜。通过分析x射线衍射图谱,晶格失配度,单θ摇摆曲线半高宽,表明在三种衬底上薄膜是沿[00I]取向的近外延生长,影响薄膜生长的主要因素并不是衬底与晶格的失配度,如希望消除失配度对薄膜生长造成的不利影响,我们可以通过优化PLD工艺参数,这在一定程度上是有效的。 展开更多
关键词 ba0.5sr0.5tio3薄膜 晶格失配度 单θ摇摆曲线 PLD
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Effect of (Ba+Sr)/Ti ratio on dielectric and tunable properties of Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3 thin film prepared by sol-gel method
7
作者 朱伟诚 彭东文 +1 位作者 程晋荣 孟中岩 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B01期261-265,共5页
Ba0.6Sr0.4TiO3 (BST) thin films were fabricated on Pt coated Si (100) substrates by sol-gel techniques with molar ratio of (Ba+Sr) to Ti changing from 0.76 to 1.33. The effect of (Ba+Sr)/Ti ratio deviating from the st... Ba0.6Sr0.4TiO3 (BST) thin films were fabricated on Pt coated Si (100) substrates by sol-gel techniques with molar ratio of (Ba+Sr) to Ti changing from 0.76 to 1.33. The effect of (Ba+Sr)/Ti ratio deviating from the stoichiometry on microstructure, grain growth, dielectric and tunable properties of BST thin films were investigated. TiO2 and (Ba,Sr)2TiO4 were found as a second phase at the ratios of 0.76 and 1.33, respectively. The variation of the ratio reveals more significant effect on the grain size in B-site rich samples than that in A-site rich samples. The dissipation factor decreases rapidly from 0.1 to 0.01 at 1 MHz with decreasing (Ba+Sr)/Ti ratio. The tunability increases with decreasing ratio from 1.33 to 1.05, and then decreases with decreasing ratio from 1.05 to 0.76. The film with (Ba+Sr)/Ti ratio of 1.05 has a maximum tunability of 32% and a dissipation factor of 0.03 at 1 MHz. 展开更多
关键词 ba0.6sr0.4tio3薄膜 溶胶-凝胶法 制备 (钡+锶)/钛配比 介电性质
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CeO2缓冲层对蓝宝石基Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜结构和介电性能的影响
8
作者 宋安英 宋建民 +3 位作者 李振娜 代秀红 娄建忠 刘保亭 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2017年第4期27-31,共5页
利用磁控溅射法制备Ce O_2缓冲层,通过脉冲激光沉积法制备Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3(BST)薄膜,在Al_2O_3(11—02)蓝宝石基片上构架了Pt/BST/Ce O_2/Al_2O_3和Pt/BST/Al_2O_3叉指电容器,对比研究了Ce O_2缓冲层对BST薄膜结构和叉指电容器介... 利用磁控溅射法制备Ce O_2缓冲层,通过脉冲激光沉积法制备Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3(BST)薄膜,在Al_2O_3(11—02)蓝宝石基片上构架了Pt/BST/Ce O_2/Al_2O_3和Pt/BST/Al_2O_3叉指电容器,对比研究了Ce O_2缓冲层对BST薄膜结构和叉指电容器介电性能的影响。通过X射线衍射仪、原子力显微镜和LCR表分别对叉指电容器的结构、表面形貌和介电性能进行了表征。实验发现,直接沉积在蓝宝石上的BST薄膜为多晶结构,生长在Ce O_2缓冲层上的BST为(001)取向的高质量外延薄膜。生长在Ce O_2缓冲层上的BST薄膜相对于没有缓冲层的BST薄膜具有更小的晶粒和均方根粗糙度。在40 V偏置电压下,Pt/BST/Al_2O_3和Pt/BST/Ce O_2/Al_2O_3叉指电容器的调谐率分别是13.2%和25.8%;最小介电损耗为0.021和0.014。结果表明Ce O_2缓冲层对生长在蓝宝石基片上的BST薄膜结构和介电性能具有重要影响。 展开更多
关键词 ba0.6sr0.4tio3薄膜 CeO2缓冲层 蓝宝石衬底 外延薄膜 介电性能 叉指电容器
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衬底材料对Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜介电性能的影响
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作者 娄建忠 李振娜 +4 位作者 方晓燕 代秀红 宋安英 宋建民 刘保亭 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期951-955,共5页
采用脉冲激光沉积系统分别在LaAlO_3(001)和MgO(001)衬底上沉积了Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3(BST)薄膜,以Pt做电极分别构架了Pt/BST/MgO和Pt/BST/LaAlO_3叉指电容器。利用X射线衍射仪、原子力显微镜和Aglient E4980LCR表分别对两种薄膜的结... 采用脉冲激光沉积系统分别在LaAlO_3(001)和MgO(001)衬底上沉积了Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3(BST)薄膜,以Pt做电极分别构架了Pt/BST/MgO和Pt/BST/LaAlO_3叉指电容器。利用X射线衍射仪、原子力显微镜和Aglient E4980LCR表分别对两种薄膜的结构、表面形貌和介电特性进行表征。研究发现:两种衬底都可以实现BST(001)薄膜的外延生长,MgO和LaAlO_3衬底上BST薄膜的晶粒尺寸分别为52 nm和42 nm。在室温40 V偏置电压下,Pt/BST/MgO和Pt/BST/LaAlO_3的调谐率分别为39.68%和29.55%,最低损耗分别为0.029和0.053。这说明衬底材料的晶格常数不同,最终导致了BST薄膜介电性能的不同。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 ba0.6sr0.4tio3薄膜 外延 介电性能
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薄膜厚度对Y掺杂Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜结构及介电性能的影响
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作者 徐从玉 廖家轩 +3 位作者 王滨 张宝 李嶷云 张高俊 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第S1期90-92,共3页
采用溶胶-凝胶法(Sol-gel)在Si/SiO2/Ti/Pt基片上制备了不同厚度(正比于薄膜层数)的钇(Y)掺杂Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,研究了膜厚度对薄膜结构和介电性能的影响。原子力显微镜(AFM)表明,Y掺杂BST薄膜可显著改善表面形貌,且强烈依赖于... 采用溶胶-凝胶法(Sol-gel)在Si/SiO2/Ti/Pt基片上制备了不同厚度(正比于薄膜层数)的钇(Y)掺杂Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,研究了膜厚度对薄膜结构和介电性能的影响。原子力显微镜(AFM)表明,Y掺杂BST薄膜可显著改善表面形貌,且强烈依赖于薄膜厚度。当薄膜厚度适中(即当层数为8)时,表面晶粒细小、致密、均匀,晶界分明。X射线衍射(XRD)表明,Y掺杂BST薄膜显示钙钛矿结构,主要沿(110)晶面生长。随着薄膜厚度的增加,BST(110)峰的衍射强度先增后减,表明薄膜的相结构与薄膜厚度直接相关。Y掺杂BST薄膜显示优异的综合介电性能,且随着膜厚的增加,电容或介电常数减小。8层薄膜的综合介电性能最优,零偏压时的电容为17.8pF(介电常数130)、介电损耗为0.0057,调谐率为32%,优值因子为56,可满足微波调谐器件的需要。同时,就有关机理进行了分析。 展开更多
关键词 ba0.6sr0.4tio3薄膜 钇掺杂 介电性能 薄膜厚度
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锶盐文摘
11
《无机盐技术》 2007年第4期53-53,共1页
青海省柴达木盆地西部锶矿成矿古地理环境;Mg掺杂对Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜介电性能的影响;碳酸锶在硝酸铵溶液中的溶解动力学;纳米晶钛酸锶钡(Ba0.5Sr0.
关键词 ba0.5sr0.5tio3薄膜 柴达木盆地西部 文摘 锶盐 微波水热合成 古地理环境 溶解动力学 硝酸铵溶液
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锶盐文摘
12
《无机盐技术》 2007年第5期54-54,共1页
以偏钛酸为钛源制备Sr0.05Ba0.95TiO3电子粉体;熔盐法合成钛酸锶铋;溶胶低温燃烧法制备Ba0.7Sr0.3TiO3纳米粉体;Mn掺杂对Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜介电性能的影响。
关键词 ba0.5sr0.5tio3薄膜 ba0.7sr0.3tio3 文摘 锶盐 低温燃烧法 电子粉体 钛酸锶铋 纳米粉体
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不同衬底上Ba_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3铁电薄膜的制备及外延生长的研究
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作者 唐艳艳 高守宝 +1 位作者 尚杰 张辉 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期569-572,共4页
利用脉冲激光沉积(PLD)技术,通过一系列实验成功地制备出了近外延生长的Ba_(0.4)Sr_(0.6)TiO_2铁电薄膜。研究了衬底对Ba_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3铁电薄膜外延质量的影响。从摇摆曲线的半高宽(FWHM)及原子力显微镜(AFM)图谱中可以看出,在铝... 利用脉冲激光沉积(PLD)技术,通过一系列实验成功地制备出了近外延生长的Ba_(0.4)Sr_(0.6)TiO_2铁电薄膜。研究了衬底对Ba_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3铁电薄膜外延质量的影响。从摇摆曲线的半高宽(FWHM)及原子力显微镜(AFM)图谱中可以看出,在铝酸锶钽镧(LAST)衬底上生长的薄膜,外延质量明显比失配度更小的钛酸锶(STO)衬底上生长的要好,并不是传统认为的晶格失配度越小越好,分析其原因主要是因为小的失配不利于应力的释放造成的。 展开更多
关键词 衬底 ba_0.4sr_0.6tio_3铁电薄膜 脉冲激光沉积 外延生长 X射线衍射 原子力显微镜
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