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Electronic structure and magnetic properties of(Cu,N)-codoped3C-SiC studied by first-principles calculations 被引量:4
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作者 潘凤春 陈治鹏 +3 位作者 林雪玲 郑富 王旭明 陈焕铭 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第9期458-462,共5页
The electronic structures and magnetic properties of the Cu and N codoped 3C-Si C system have been investigated by the first-principles calculation.The results show that the Cu doped Si C system prefers the anti-ferro... The electronic structures and magnetic properties of the Cu and N codoped 3C-Si C system have been investigated by the first-principles calculation.The results show that the Cu doped Si C system prefers the anti-ferromagnetic(AFM) state.Compared to the Cu doped system,the ionicities of C–Cu and C–Si in Cu and N codoped Si C are respectively enhanced and weakened.Especially,the Cu and N codoped Si C systems favor the ferromagnetic(FM) coupling.The FM interactions can be explained by virtual hopping.However,higher N concentration will weaken the ferromagnetism.In order to keep the FM interaction,the N concentration should be restricted within 9.3% according to our analysis. 展开更多
关键词 ferromagnetism 3c-si c codoped system
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强激光辐照对3C-SiC晶体结构稳定性的影响 被引量:2
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作者 邓发明 高涛 +1 位作者 沈艳红 龚艳蓉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期252-258,共7页
使用基于密度泛函微扰理论的线性响应方法,模拟研究了强激光辐照对闪锌矿结构的碳化硅晶体结构稳定性的影响.通过计算在不同电子温度下3C-SiC晶体的声子色散曲线,发现3C-SiC的横声学声子频率随电子温度的升高会出现虚频,其临界电子温度... 使用基于密度泛函微扰理论的线性响应方法,模拟研究了强激光辐照对闪锌矿结构的碳化硅晶体结构稳定性的影响.通过计算在不同电子温度下3C-SiC晶体的声子色散曲线,发现3C-SiC的横声学声子频率随电子温度的升高会出现虚频,其临界电子温度是3.395 eV.结果表明,在强激光辐照下3C-SiC晶体变得不稳定,这与以前对金刚石结构的碳、硅和闪锌矿结构的砷化镓、锑化铟的研究结果非常类似.电子温度在0—4.50 eV范围内时,3C-SiC晶体在Γ点的LO-TO分裂度随电子温度的升高而增大,超过4.50 eV后随电子温度的升高而减小.这表明只有在足够强的激光辐照下,电子激发才会削弱晶体的离子性强度. 展开更多
关键词 3c-si c 晶格稳定性 激光辐照 密度泛函微扰理论
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Si(100)衬底上n-3C-SiC/p-Si异质结构研究 被引量:2
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作者 孙国胜 孙艳玲 +5 位作者 王雷 赵万顺 罗木昌 李建平 曾一平 林兰英 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期130-134,共5页
利用LPCVD方法在Si(100)衬底上获得了3C SiC外延膜,扫描电子显微镜(SEM)研究表明3C SiC/p Si界面平整、光滑,无明显的坑洞形成。研究了以In和Al为接触电极的3C SiC/p Si异质结的I V,C V特性及I V特性的温度依赖关系,比较了In电极的3C Si... 利用LPCVD方法在Si(100)衬底上获得了3C SiC外延膜,扫描电子显微镜(SEM)研究表明3C SiC/p Si界面平整、光滑,无明显的坑洞形成。研究了以In和Al为接触电极的3C SiC/p Si异质结的I V,C V特性及I V特性的温度依赖关系,比较了In电极的3C SiC/p Si异质结构和以SiGe作为缓冲层的3C SiC/SiGe/p Si异质结构的I V特性,实验发现引入SiGe缓冲层后,器件的反向击穿电压由40V提高到70V以上。室温下Al电极3C SiC/p Si二极管的最大反向击穿电压接近100V,品质因子为1 95。 展开更多
关键词 硅衬底 si(100)衬底 n-3c-sic/p-si异质结 结构研究 3c-sic外延膜 碳化硅 扫描电子显微镜 SEM
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制备工艺对三维针刺C/SiC层向动态压缩性能的影响 被引量:3
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作者 高晓菊 成来飞 +2 位作者 燕东明 李良军 方志坚 《固体火箭技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期95-99,105,共6页
为了研究制备工艺对三维针刺C/Si C复合材料(3N-C/Si C)层向压缩力学性能的影响,对分别采用反应熔体浸渍(RMI)和化学气相浸渍(CVI)2种工艺制备的3N-C/Si C进行了不同应变率下压缩性能研究,并对比了2种工艺试样在破坏前后的显微结构。结... 为了研究制备工艺对三维针刺C/Si C复合材料(3N-C/Si C)层向压缩力学性能的影响,对分别采用反应熔体浸渍(RMI)和化学气相浸渍(CVI)2种工艺制备的3N-C/Si C进行了不同应变率下压缩性能研究,并对比了2种工艺试样在破坏前后的显微结构。结果表明,在高应变率下2种工艺试样的破坏强度分布均遵循Weibull分布,且RMI工艺试样的性能稳定性明显高于CVI工艺试样。2种工艺试样的压缩强度均具有明显的应变率强化效应,且与对数应变率近似呈线性关系。观察断口形貌发现,在静态压缩载荷作用下,2种工艺试样的破坏方式为剪切破坏和分层破坏的叠加,而在动态压缩条件下试样的破坏方式为劈裂破坏。研究发现,CVI工艺试样纤维束断口不平整;RMI工艺试样断口相对平整,纤维束多发生整束剪断,且动态条件下纤维束的束内脱粘现象得到明显的抑制。 展开更多
关键词 三维针刺c/sic复合材料 WEIBULL分布 RMI工艺 cVI工艺 破坏模式
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0.3C-1.6Si-0.8Mn-1.1Cr-0.48Mo-0.1V工件断裂失效分析
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作者 孙国洋 雷应华 +1 位作者 何润 杨娥 《中国科技期刊数据库 工业A》 2022年第1期17-19,共3页
文章针对超高强度0.3C-1.6Si-0.8Mn-1.1Cr-0.48Mo-0.1V工件断裂现象,采用直读光谱仪、扫描电子显微镜、能谱仪及金相显微镜对失效区化学成分、断口形貌、断裂源区域夹杂物成分,及断裂区域非金属夹杂物水平及金相组织进行观察,结果表明0.... 文章针对超高强度0.3C-1.6Si-0.8Mn-1.1Cr-0.48Mo-0.1V工件断裂现象,采用直读光谱仪、扫描电子显微镜、能谱仪及金相显微镜对失效区化学成分、断口形貌、断裂源区域夹杂物成分,及断裂区域非金属夹杂物水平及金相组织进行观察,结果表明0.3C-1.6Si-0.8Mn-1.1Cr-0.48Mo-0.1V工件断裂机理为微孔聚集断裂,钢中存在大量的氮化钛类复合型脆性夹杂,是引起工件断裂的主要原因。钢中的氮化钛类夹杂物中含有锆元素、硫化锰类夹杂物含有硒元素,可能来自与钢水接触过的耐火材料。 展开更多
关键词 0.3c-1.6si-0.8Mn-1.1cr-0.48Mo-0.1V 断裂 脆性夹杂 氮化钛
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Preparation of 50mm 3C-SiC/Si(111) as Substrates Suited for Ⅲ-Nitrides
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作者 孙国胜 张永兴 +6 位作者 高欣 王军喜 王雷 赵万顺 王晓亮 曾一平 李晋闽 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1205-1210,共6页
mm SiC films with high electrical uniformity a re grown on Si(111) by a newly developed vertical low-pressure chemical vapor dep osition (LPCVD) reactor.Both in-situ n- and p-type doping of 3C-SiC are achi eved by in... mm SiC films with high electrical uniformity a re grown on Si(111) by a newly developed vertical low-pressure chemical vapor dep osition (LPCVD) reactor.Both in-situ n- and p-type doping of 3C-SiC are achi eved by intentional introduction of ammonia and boron into the precursor gases.T he dependence of growth rate and surface morphology on the C/Si ratio and optimi zed growth conditions is obtained.The best electrical uniformity of 50mm 3C-SiC films obtained by non-contact sheet resistance measurement is ±2.58%.GaN fil ms are grown atop the as-grown 3C-SiC/Si(111) layers using molecular beam epit axy (MBE).The data of both X-ray diffraction and low temperature photoluminesc e nce of GaN/3C-SiC/Si(111) show that 3C-SiC is an appropriate substrate or buff er layer for the growth of Ⅲ-nitrides on Si substrates with no cracks. 展开更多
关键词 c-sic/si(111) LPcVD GAN
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