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远紫外光刻现状及未来被引量：1: 1; 作者童志义《电子工业专用设备》 1997年第2期5-11,共7页; 简要评述光学光刻技术由０３５μｍ工艺向０２５μｍ工艺转移中所面临的挑战，及远紫外光刻技术在器件制造中的地位。; 关键词光刻技术远紫外曙光 0.25μm工艺; 下载PDF 职称材料

远紫外光刻现状及未来: 2; 作者童志义《微电子技术》 1997年第2期10-17,共8页; 本文主要过评了光学光刻技术在由0．35μmat艺向0．25μm工艺阶段转移的技术革命中所面临的挑战，以及远紫外光刻所处的地位，现状及今后的发展趋势。; 关键词光学光刻远紫外曝光 0.25μm工艺集成电路; 下载PDF 职称材料

采用0.25μmCMOS工艺的SOC电源管理IP模块: 3; 作者张宇弘何乐年 +1 位作者严晓浪汪乐宇《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期211-214,共4页; 　设计了一个采用0.25μmCMOS工艺的电源管理IP模块。该模块包含DC/DC转换/调整、上电复位、低电压监测和后备电源自动切换功能,通过对电源的动态管理,可提供稳定的系统电源。该IP模块能够提供独立的数字电源、模拟电源和闪存电源,具有... 展开更多; 关键词 0.25μmCMOS工艺 SOC 电源管理 IP模块模拟电路集成电路 DC/DC转换电压监测电源自动切换功能; 下载PDF 职称材料

国家鼓励扶持芯片产业发展投资晶圆厂生产减免所得税: 4; 《电子工业专用设备》 2008年第6期63-63,共1页; 中国财政部、税务总局近日公布最新的企业奖励优惠政策“财税2008一号文”，政策中规定中国内地晶圆厂生产0．25μm工艺技术以下，可抵减15％的企业所得税；同时投资超过15年，从获利年度起的5年内甚至可全免企业所得税。这份最新的投... 展开更多; 关键词企业所得税芯片产业晶圆投资生产 0.25μm工艺中国内地优惠政策; 下载PDF 职称材料

NEC Electronics扩大加州晶圆厂产能以支持MCU产品: 5; 《电子工业专用设备》 2006年第9期28-28,共1页; NEC Electronics America Inc．近期发布了含有嵌入式闪存芯片的29款微控制器，目标应用于汽车和安全控制等。新产品包括采用0．15μm制程技术的8-bit和32-bit MCU。重点支持于汽车行业，NEC Electronics America表示，公司正在扩大设... 展开更多; 关键词 ELECTRONICS NEC MCU 产品产能加州 0.25μm工艺晶圆制程技术汽车行业; 下载PDF 职称材料

基于3英寸0.25μm工艺的GaN HEMT宽带功率MMIC: 6; 作者张斌陈堂胜 +1 位作者任春江余旭明《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期F0003-F0003,共1页; GaN HEMT具有工作电压高、功率密度大、输出阻抗高、散热性能好等特点，大大扩展了功率MMIC的设计空间。具体表现在：GaN HEMT可工作于高电压下，同样的输出功率工作电流较小，大大简化了系统电源和电磁兼容设计；高密度的输出功率使得... 展开更多; 关键词 HEMT 0.25μm工艺功率密度 MMIC GaN 宽带电磁兼容设计输出阻抗; 下载PDF 职称材料

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