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高纯锗多晶材料区熔速度优化的数值模拟
被引量:
5
1
作者
郝昕
孙慧斌
+4 位作者
赵海歌
胡世鹏
罗奇
谭志新
白尔隽
《深圳大学学报(理工版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期248-253,共6页
为提高探测器级高纯锗多晶材料的制备效率,开展对锗材料多次区熔过程的参数优化的数值模拟.利用分凝原理对高纯锗多晶材料制备的区熔过程进行数值模拟,针对杂质分凝系数小于1的情况,比较了不同区熔速度下,单次和多次区熔的提纯效果.结...
为提高探测器级高纯锗多晶材料的制备效率,开展对锗材料多次区熔过程的参数优化的数值模拟.利用分凝原理对高纯锗多晶材料制备的区熔过程进行数值模拟,针对杂质分凝系数小于1的情况,比较了不同区熔速度下,单次和多次区熔的提纯效果.结果表明,虽然速度越慢单次区熔效果越好,但对多次区熔的累计效果要采用相对快速多次的方法,以实现相同提纯效果下总时间最短,即多次累计的区熔效率最高.给出了区熔速度的优化方法,以指导实验提高区熔效率.
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关键词
半导体
高纯
锗
制备
高纯
锗
探测器
区熔提纯
杂质浓度
数值模拟
参数优化
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职称材料
高纯锗单晶的制备与位错密度分析
被引量:
1
2
作者
郝昕
甘林
+5 位作者
胡世鹏
罗奇
吴正新
钟健
赵海歌
孙慧斌
《深圳大学学报(理工版)》
CAS
CSCD
北大核心
2022年第5期504-508,共5页
高纯锗探测器在辐射探测领域具有重要地位.经过区熔提纯和单晶生长2个阶段,成功制备了纯度为13N、位错密度介于100~10000 cm^(-2)之间的高纯锗.其中,区熔实验使用自制水平区熔炉,在高纯氢气环境下,通过20~50次区熔以达到提纯要求.单晶...
高纯锗探测器在辐射探测领域具有重要地位.经过区熔提纯和单晶生长2个阶段,成功制备了纯度为13N、位错密度介于100~10000 cm^(-2)之间的高纯锗.其中,区熔实验使用自制水平区熔炉,在高纯氢气环境下,通过20~50次区熔以达到提纯要求.单晶生长采用直拉法,在高纯氢气环境下,沿[100]晶向生长,单晶有效长度>50 mm,有效直径>30 mm.采用浸蚀法测量位错密度,利用酸性腐蚀液腐蚀锗单晶片(100)晶面,读取位错腐蚀坑数量.结果显示,距单晶棒头部25、50和72 mm处的位错密度分别为2537、3425和4075 cm^(-2),表明在晶锭头部72 mm前,位错密度满足高纯锗探测器制备的要求.研究可为高纯锗单晶的制备提供参考.
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关键词
半导体材料
晶体
高纯
锗
制备
高纯
锗
探测器
单晶生长
位错密度
直拉法
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职称材料
题名
高纯锗多晶材料区熔速度优化的数值模拟
被引量:
5
1
作者
郝昕
孙慧斌
赵海歌
胡世鹏
罗奇
谭志新
白尔隽
机构
深圳大学物理与能源学院
中国科学院高能物理研究所
东莞中子科学中心
出处
《深圳大学学报(理工版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期248-253,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(11575118)~~
文摘
为提高探测器级高纯锗多晶材料的制备效率,开展对锗材料多次区熔过程的参数优化的数值模拟.利用分凝原理对高纯锗多晶材料制备的区熔过程进行数值模拟,针对杂质分凝系数小于1的情况,比较了不同区熔速度下,单次和多次区熔的提纯效果.结果表明,虽然速度越慢单次区熔效果越好,但对多次区熔的累计效果要采用相对快速多次的方法,以实现相同提纯效果下总时间最短,即多次累计的区熔效率最高.给出了区熔速度的优化方法,以指导实验提高区熔效率.
关键词
半导体
高纯
锗
制备
高纯
锗
探测器
区熔提纯
杂质浓度
数值模拟
参数优化
Keywords
semiconductor
high-purity germanium preparation
high-purity germanium detector
zone refining
impurity concentration
numerical simulation
parameter optimization
分类号
TN304.1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
高纯锗单晶的制备与位错密度分析
被引量:
1
2
作者
郝昕
甘林
胡世鹏
罗奇
吴正新
钟健
赵海歌
孙慧斌
机构
深圳大学物理与光电工程学院
出处
《深圳大学学报(理工版)》
CAS
CSCD
北大核心
2022年第5期504-508,共5页
基金
国家自然科学青年基金资助项目(11905136)
广东省自然科学基金资助项目(2018A030310636)
广东省重点领域研发计划资助项目(2020B040420005)。
文摘
高纯锗探测器在辐射探测领域具有重要地位.经过区熔提纯和单晶生长2个阶段,成功制备了纯度为13N、位错密度介于100~10000 cm^(-2)之间的高纯锗.其中,区熔实验使用自制水平区熔炉,在高纯氢气环境下,通过20~50次区熔以达到提纯要求.单晶生长采用直拉法,在高纯氢气环境下,沿[100]晶向生长,单晶有效长度>50 mm,有效直径>30 mm.采用浸蚀法测量位错密度,利用酸性腐蚀液腐蚀锗单晶片(100)晶面,读取位错腐蚀坑数量.结果显示,距单晶棒头部25、50和72 mm处的位错密度分别为2537、3425和4075 cm^(-2),表明在晶锭头部72 mm前,位错密度满足高纯锗探测器制备的要求.研究可为高纯锗单晶的制备提供参考.
关键词
半导体材料
晶体
高纯
锗
制备
高纯
锗
探测器
单晶生长
位错密度
直拉法
Keywords
semiconductor material
crystal
high purity germanium preparation
high purity germanium detector
single crystal growth
dislocation density
Czochralski method
分类号
TN304.1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高纯锗多晶材料区熔速度优化的数值模拟
郝昕
孙慧斌
赵海歌
胡世鹏
罗奇
谭志新
白尔隽
《深圳大学学报(理工版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
5
下载PDF
职称材料
2
高纯锗单晶的制备与位错密度分析
郝昕
甘林
胡世鹏
罗奇
吴正新
钟健
赵海歌
孙慧斌
《深圳大学学报(理工版)》
CAS
CSCD
北大核心
2022
1
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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