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基于单片机的复杂可编程逻辑器件快速配置方法 被引量:12
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作者 刘晓明 王军 谢明钦 《电子技术应用》 北大核心 2002年第10期9-11,共3页
介绍基于SRAM的可重配置CPLD的原理,通过对多种串行配置的比较,提出了由单片机和FLASH存储器组成的串行配置方式,并从系统复杂度、可靠性和经济性等方面进行了比较和分析。
关键词 单片机 复杂可编辑逻辑 静态随机存储器 被动串行 CPLD SRAM FLASH存储器 配置方法
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亚微米特征工艺尺寸静态随机存储器单粒子效应实验研究 被引量:12
2
作者 郭红霞 罗尹虹 +4 位作者 姚志斌 张凤祁 张科营 何宝平 王园明 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期1498-1504,共7页
利用中国原子能科学研究院重离子加速器,开展了不同特征尺寸(0.35~0.13μm)CMOS工艺、不同集成度(1M、4M、8M、16M)静态随机存储器(SRAM)单粒子翻转(SEU)和单粒子闩锁(SEL)实验研究,给出了SRAM器件的SEU、SEL截面曲线。与μm级特征尺... 利用中国原子能科学研究院重离子加速器,开展了不同特征尺寸(0.35~0.13μm)CMOS工艺、不同集成度(1M、4M、8M、16M)静态随机存储器(SRAM)单粒子翻转(SEU)和单粒子闩锁(SEL)实验研究,给出了SRAM器件的SEU、SEL截面曲线。与μm级特征尺寸的器件相比,随特征尺寸的减小,单粒子翻转更加严重。测量到了令人关注的单粒子多位翻转(MBU)效应,对翻转位数进行了统计分析。MBU对目前卫星系统采用的EDAC技术提出了挑战。 展开更多
关键词 静态随机存储器 多位翻转 重离子加速
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用SOI技术提高CMOSSRAM的抗单粒子翻转能力 被引量:10
3
作者 赵凯 高见头 +5 位作者 杨波 李宁 于芳 刘忠立 肖志强 洪根深 《信息与电子工程》 2010年第1期91-95,共5页
提高静态随机存储器(SRAM)的抗单粒子能力是当前电子元器件抗辐射加固领域的研究重点之一。体硅CMOS SRAM不作电路设计加固则难以达到较好抗单粒子能力,作电路设计加固则要在芯片面积和功耗方面做出很大牺牲。为了研究绝缘体上硅(SOI)基... 提高静态随机存储器(SRAM)的抗单粒子能力是当前电子元器件抗辐射加固领域的研究重点之一。体硅CMOS SRAM不作电路设计加固则难以达到较好抗单粒子能力,作电路设计加固则要在芯片面积和功耗方面做出很大牺牲。为了研究绝缘体上硅(SOI)基SRAM芯片的抗单粒子翻转能力,突破了SOI CMOS加固工艺和128kb SRAM电路设计等关键技术,研制成功国产128kb SOI SRAM芯片。对电路样品的抗单粒子摸底实验表明,其抗单粒子翻转线性传输能量阈值大于61.8MeV/(mg/cm2),优于未做加固设计的体硅CMOS SRAM。结论表明,基于SOI技术,仅需进行器件结构和存储单元的适当考虑,即可达到较好的抗单粒子翻转能力。 展开更多
关键词 绝缘体上硅 静态随机存储器 抗单粒子翻转 设计加固
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一种I^2C总线接口的串行时钟芯片 被引量:9
4
作者 应建华 陈艳 郭艳 《华中科技大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期62-64,共3页
论述了一种采用I2C总线接口的串行实时时钟芯片的设计方法.该芯片是一个低功耗、完全BCD码的时钟/日历芯片,地址和数据通过I2C双向数据总线串行传输.时钟/日历提供秒、分、时、日、星期、月和年的时间信息;集成的249 byte的静态随机存储... 论述了一种采用I2C总线接口的串行实时时钟芯片的设计方法.该芯片是一个低功耗、完全BCD码的时钟/日历芯片,地址和数据通过I2C双向数据总线串行传输.时钟/日历提供秒、分、时、日、星期、月和年的时间信息;集成的249 byte的静态随机存储器(SRAM)可用于存储临时信息;内置了电源电压监控电路,可使芯片在掉电时自动转入电池供电模式,并对SRAM进行掉电保护;与微处理器连接时,只占用CPU的2条I/O口线(SDA口线和SCL口线),数据传输速率最高可达400 kHz. 展开更多
关键词 I^2C总线 实时时钟 串行接口 静态随机存储器
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静态随机存储器单粒子效应的角度影响研究 被引量:7
5
作者 张庆祥 侯明东 +4 位作者 刘杰 王志光 金运范 朱智勇 孙友梅 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期566-570,共5页
利用兰州重离子加速器加速的高能离子研究了入射角度对IDT712 5 6的单粒子翻转截面和多位翻转比例的影响 .研究表明 :在大角度掠射轰击下单粒子翻转截面的增大包括了多位翻转的贡献 ;离子在器件敏感层中沉积的能量及其横向分布是影响多... 利用兰州重离子加速器加速的高能离子研究了入射角度对IDT712 5 6的单粒子翻转截面和多位翻转比例的影响 .研究表明 :在大角度掠射轰击下单粒子翻转截面的增大包括了多位翻转的贡献 ;离子在器件敏感层中沉积的能量及其横向分布是影响多位翻转的两个重要参数 ,IDT712 5 展开更多
关键词 静态随机存储器 单粒子翻转 多位翻转 沉积能量 横向分布 离子加速 空间辐射 入射角度
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星载计算机SRAM抗单粒子多位翻转技术 被引量:7
6
作者 李晓花 王雅云 +1 位作者 于锋 丁传红 《计算机工程与设计》 北大核心 2015年第6期1519-1523,1529,共6页
为提高传统纠检错(error detection and correction,EDAC)模块对星载SRAM中单粒子多位翻转(multiple bit upsets,MBU)的纠错率,提出一种能同时纠正多比特位翻转的技术,称为数据交错技术。参照版图交错法的原理,在FPGA的软件设计等级实... 为提高传统纠检错(error detection and correction,EDAC)模块对星载SRAM中单粒子多位翻转(multiple bit upsets,MBU)的纠错率,提出一种能同时纠正多比特位翻转的技术,称为数据交错技术。参照版图交错法的原理,在FPGA的软件设计等级实现数据的交错存储,将单粒子的多位翻转分离后,分别通过EDAC模块纠正。仿真结果表明,该数据交错技术与(12,8)汉明码及(21,16)汉明码结合后,可将传统EDAC模块对单粒子引起的两位及三位翻转的纠错率从53.69%及28.91%提升至99.82%,以较低代价,实现了MBU大部分翻转形式的纠正。 展开更多
关键词 星载计算机 静态随机存储器 (SRAM ) 单粒子多位翻转 数据交错 高可靠性
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基于RHBD技术的深亚微米抗辐射SRAM电路的研究 被引量:7
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作者 王一奇 赵发展 +3 位作者 刘梦新 吕荫学 赵博华 韩郑生 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期18-23,共6页
研究了目前业内基于抗辐射加固设计(RHBD)技术的静态随机存储器(SRAM)抗辐射加固设计技术,着重探讨了电路级和系统级两种抗辐射加固方式。电路级抗辐射加固方式主要有在存储节点加电容电阻、引入耦合电容、多管存储单元三种抗辐射加固技... 研究了目前业内基于抗辐射加固设计(RHBD)技术的静态随机存储器(SRAM)抗辐射加固设计技术,着重探讨了电路级和系统级两种抗辐射加固方式。电路级抗辐射加固方式主要有在存储节点加电容电阻、引入耦合电容、多管存储单元三种抗辐射加固技术;系统级抗辐射加固方式分别是三态冗余(TMR)、一位纠错二位检错(SEC-DED)和二位纠错(DEC)三种纠错方式,并针对各自的优缺点进行分析。通过对相关产品参数的比较,得到采用这些抗辐射加固设计可以使静态随机存储器的软错误率达到1×10-12翻转数/位.天以上,且采用纠检错(EDAC)技术相比其他技术能更有效提高静态随机存储器的抗单粒子辐照性能。 展开更多
关键词 静态随机存储器 单粒子 抗辐射加固设计 抗辐射加固 纠检错
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抗辐射128kb PDSOI静态随机存储器 被引量:6
8
作者 赵凯 刘忠立 +3 位作者 于芳 高见头 肖志强 洪根深 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1139-1143,共5页
介绍在部分耗尽绝缘体上硅(PDSOI)衬底上形成的抗辐射128kb静态随机存储器.在设计过程中,利用SOI器件所具有的特性,对电路进行精心的设计和层次化版图绘制,通过对关键路径和版图后全芯片的仿真,使得芯片一次流片成功.基于部分耗尽SOI材... 介绍在部分耗尽绝缘体上硅(PDSOI)衬底上形成的抗辐射128kb静态随机存储器.在设计过程中,利用SOI器件所具有的特性,对电路进行精心的设计和层次化版图绘制,通过对关键路径和版图后全芯片的仿真,使得芯片一次流片成功.基于部分耗尽SOI材料本身所具有的抗辐射特性,通过采用存储单元完全体接触技术和H型栅晶体管技术,不仅降低了芯片的功耗,而且提高了芯片的总体抗辐射水平.经过测试,芯片的动态工作电流典型值为20mA@10MHz,抗总剂量率水平达到500krad(Si),瞬态剂量率水平超过2.45×1011rad(Si)/s.这些设计实践必将进一步推动PDSOICMOS工艺的研发,并为更大规模抗辐射电路的加固设计提供更多经验. 展开更多
关键词 部分耗尽绝缘体上硅 静态随机存储器 加固设计
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便笺式存储器中一种新颖的交错映射数据布局
9
作者 曾灵灵 张敦博 +1 位作者 沈立 窦强 《计算机工程》 CAS CSCD 北大核心 2024年第5期33-40,共8页
现代计算机一直沿用传统的线性数据布局模式,该模式允许对使用行主序模式存储的二维矩阵进行高效的行优先数据访问,但是增加了高效执行列优先数据访问的复杂性,造成列优先访问的空间局部性较差。改善列优先数据访存效率的常见解决方案... 现代计算机一直沿用传统的线性数据布局模式,该模式允许对使用行主序模式存储的二维矩阵进行高效的行优先数据访问,但是增加了高效执行列优先数据访问的复杂性,造成列优先访问的空间局部性较差。改善列优先数据访存效率的常见解决方案是对原始矩阵进行预先转置操作,将列优先访问的复杂性集中在一次矩阵转置运算中,然而矩阵转置不仅会引入额外的数据传输操作,而且会消耗额外的存储空间用于存储转置后的矩阵。为了在不引入额外开销的情况下使行优先与列优先数据访问具有同样高效的访存效率,提出一种新颖的交错映射(IM)数据布局,同时在不改变便笺式存储器(SPM)内部结构的基础上,在SPM的输入和输出(I/O)接口处添加循环移位单元和译码单元2个新组件,实现交错映射数据布局并定制访存指令,使程序员可通过定制的访存指令充分利用该数据布局。实验结果表明,应用交错映射数据布局的SPM在仅额外增加了1.73%面积开销的情况下获得了1.4倍的加速。 展开更多
关键词 矩阵转置 单指令多数据 便笺式存储器 数据布局 静态随机存储器
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可兼容四种March系列算法的PMBIST电路设计
10
作者 杨鹏 曹贝 +1 位作者 付方发 王海新 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 2024年第2期242-252,共11页
存储器是系统级芯片(System on chip,SoC)中最重要的组成部分之一,也是最容易出现故障的部件。存储器故障可能会导致整个SoC失效,对存储器进行充分的测试和验证是至关重要的。目前,主流的存储器测试方法是采用存储器内建自测试(Memory b... 存储器是系统级芯片(System on chip,SoC)中最重要的组成部分之一,也是最容易出现故障的部件。存储器故障可能会导致整个SoC失效,对存储器进行充分的测试和验证是至关重要的。目前,主流的存储器测试方法是采用存储器内建自测试(Memory build-in-self test,MBIST)技术,传统的可测性技术采用单一的测试算法进行测试,为了满足不同类型存储器的测试需求以及不同工艺制造阶段的测试强度,需要使用不同类型的测试算法进行测试。结合存储器常见的故障模型以及多种测试算法,设计了具有较高灵活性和可扩展性的可编程存储器内建自测试(Programmable memory built-in-self test,PMBIST)电路,可兼容四种不同的March系列算法进行存储器内建自测试,采用寄存器传输语言(Reigster transfer language,RTL)级代码的编写方式,针对静态随机存储器(Static random-access memory,SRAM)采用不同March系列测试算法进行仿真,并以常用的March C+算法为例进行说明。仿真结果表明,所设计的PMBIST电路可对四种不同的March算法进行测试,满足不同类型存储器的内建自测试需求。 展开更多
关键词 静态随机存储器 故障模型 March系列+算法 存储器内建自测试
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130 nm 7T SOI SRAM总剂量与单粒子协和效应研究
11
作者 肖舒颜 郭刚 +7 位作者 王林飞 张峥 陈启明 高林春 王春林 张付强 赵树勇 刘建成 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期506-512,共7页
为进一步阐明SOI器件中总剂量效应(TID)与单粒子效应(SEE)间的协和效应,本文基于SOI工艺特征尺寸为130 nm的国产7T结构SRAM进行了相关研究。通过对4组SOI SRAM开展了不同TID辐照后的SEE实验,得到器件单粒子翻转(SEU)截面随TID的变化规律... 为进一步阐明SOI器件中总剂量效应(TID)与单粒子效应(SEE)间的协和效应,本文基于SOI工艺特征尺寸为130 nm的国产7T结构SRAM进行了相关研究。通过对4组SOI SRAM开展了不同TID辐照后的SEE实验,得到器件单粒子翻转(SEU)截面随TID的变化规律。SOI SRAM的SEU截面在TID辐照后呈现明显的降低,最大在750 krad(Si)剂量辐照后下降80.5%。器件的饱和截面呈现随剂量增加而下降的趋势,最大下降19.5%,研究中未发现SEU阈值的明显变化。分析认为,延迟晶体管N5的等效关态电阻因为TID辐照而增加,该现象会造成N5的延迟作用增强,是该款器件SEU截面下降的主要原因。采用这种7T结构的SOI SRAM的抗SEE性能会随其在轨累积剂量的增加而逐渐增强,这为今后电子器件的抗辐射加固提供了启示。 展开更多
关键词 总剂量效应 单粒子效应 协和效应 单粒子翻转 静态随机存储器
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基于并行总线分布式波控系统的实现 被引量:6
12
作者 崔忠林 李冬芳 《现代雷达》 CSCD 北大核心 2005年第12期29-32,36,共5页
随着相控阵雷达技术的发展,大型有源相控阵雷达的天线阵列面大、T/R组件数目多达几百、几千个,对如此众多的T/R组件实现快速、准确的波束控制,给波控系统的设计带来了新的难度。介绍了一种基于并行总线接口技术分布式控制的波控系统的... 随着相控阵雷达技术的发展,大型有源相控阵雷达的天线阵列面大、T/R组件数目多达几百、几千个,对如此众多的T/R组件实现快速、准确的波束控制,给波控系统的设计带来了新的难度。介绍了一种基于并行总线接口技术分布式控制的波控系统的设计方法,解决了布相时间短、波束切换快、实时校正补偿、B IT自动检测等多项工程难题。 展开更多
关键词 并行总线 分布式 波控系统 布相 静态随机存储器
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基于ARM+FPGA的大屏幕显示器控制系统设计 被引量:5
13
作者 陈炳权 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期171-175,共5页
目前各种LED显示器常采用8位/16位的微处理器,由于其运行速度、寻址能力和功耗等问题,已难满足显示区域较大、显示内容切换频繁的相对较复杂的应用场合。采用32位ARM嵌入式微处理器S3C4510B和32位FPGA扫描驱动电路芯片PolarPro QL1P300... 目前各种LED显示器常采用8位/16位的微处理器,由于其运行速度、寻址能力和功耗等问题,已难满足显示区域较大、显示内容切换频繁的相对较复杂的应用场合。采用32位ARM嵌入式微处理器S3C4510B和32位FPGA扫描驱动电路芯片PolarPro QL1P300,选用IS61C1024静态RAM作为缓存器,组成由多块大屏幕LED显示器构成了新的显示系统。该系统在不增加成本的情况下,可支持更大可视区域的稳定显示,存储更多显示内容。 展开更多
关键词 32位ARM微处理 发光二极管显示系统 现场可编程门阵列 静态随机存储器
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抗单粒子翻转效应的SRAM研究与设计 被引量:6
14
作者 陈楠 魏廷存 +2 位作者 魏晓敏 高武 郑然 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期491-496,共6页
在空间应用和核辐射环境中,单粒子翻转(SEU)效应严重影响SRAM的可靠性。采用错误检测与校正(EDAC)和版图设计加固技术研究和设计了一款抗辐射SRAM芯片,以提高SRAM的抗单粒子翻转效应能力。内置的EDAC模块不仅实现了对存储数据"纠... 在空间应用和核辐射环境中,单粒子翻转(SEU)效应严重影响SRAM的可靠性。采用错误检测与校正(EDAC)和版图设计加固技术研究和设计了一款抗辐射SRAM芯片,以提高SRAM的抗单粒子翻转效应能力。内置的EDAC模块不仅实现了对存储数据"纠一检二"的功能,其附加的存储数据错误标志位还简化了SRAM的测试方案。通过SRAM原型芯片的流片和测试,验证了EDAC电路的功能。与三模冗余技术相比,所设计的抗辐射SRAM芯片具有面积小、集成度高以及低功耗等优点。 展开更多
关键词 静态随机存储器 辐射加固技术 单粒子翻转 错误检测与校正
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总剂量与单粒子协合效应对SRAM单粒子翻转敏感性影响的仿真研究 被引量:1
15
作者 刘艳 曹荣幸 +6 位作者 李红霞 赵琳 韩丹 刘洋 郑澍 曾祥华 薛玉雄 《航天器环境工程》 CSCD 北大核心 2023年第2期170-178,共9页
静态随机存储器(SRAM)在空间环境中可能会受到总电离剂量(TID)效应和单粒子效应(SEE)协合作用的影响,导致器件单粒子翻转(SEU)的敏感性发生改变。文章针对90 nm的SRAM器件,通过器件级和电路级的综合仿真手段,利用计算机辅助设计(TCAD)... 静态随机存储器(SRAM)在空间环境中可能会受到总电离剂量(TID)效应和单粒子效应(SEE)协合作用的影响,导致器件单粒子翻转(SEU)的敏感性发生改变。文章针对90 nm的SRAM器件,通过器件级和电路级的综合仿真手段,利用计算机辅助设计(TCAD)和集成电路模拟程序(SPICE)软件研究TID和SEE的协合作用对SRAM器件SEU敏感性的影响机制。发现:当TID和SEE作用在器件相反工作阶段(即存储相反数据)时,SEU敏感性随着总剂量的增加而增强;当TID和SEE作用在器件相同工作阶段(即存储相同数据)时,SEU敏感性随着总剂量的增加而减弱。其原因主要是SRAM的一个下拉NMOS管受到总剂量辐照发生损伤后,引起电路恢复时间和反馈时间的改变,并且恢复过程和反馈过程对SEU敏感性的贡献程度不同。以上模拟结果可为存储器件的抗辐射加固设计提供参考。 展开更多
关键词 静态随机存储器 总电离剂量 单粒子效应 单粒子翻转 协合效应 仿真研究
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静态随机存储器单粒子翻转效应的二维数值模拟 被引量:5
16
作者 郭红霞 陈雨生 +2 位作者 周辉 贺朝会 李永宏 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 2003年第6期508-512,共5页
采用MEDICI二维模拟软件对静态存储器SRAM的单粒子翻转(SEU)现象进行了计算。对MOSFET漏区模拟得到的结果与电荷漏斗模型相吻合,表明所建立的物理模型的正确性。通过输入不同粒子的线性能量传输LET值,得到了某一结构器件的收集电荷与LE... 采用MEDICI二维模拟软件对静态存储器SRAM的单粒子翻转(SEU)现象进行了计算。对MOSFET漏区模拟得到的结果与电荷漏斗模型相吻合,表明所建立的物理模型的正确性。通过输入不同粒子的线性能量传输LET值,得到了某一结构器件的收集电荷与LET值的关系曲线,并给出临界电荷7 73×10-14C。 展开更多
关键词 静态随机存储器 单粒子翻转 SEU SRAM 电荷漏斗模型 加速
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CMOS SRAM抗辐照加固电路设计技术研究 被引量:4
17
作者 陆虹 尹放 高杰 《微处理机》 2005年第5期6-7,共2页
本文介绍了CMOS SRAM抗辐照加固电路的逻辑电路和版图加固设计技术。
关键词 静态随机存储器 电离辐射效应 单粒子效应
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不同特征尺寸SRAM质子单粒子效应实验研究 被引量:5
18
作者 殷倩 郭刚 +3 位作者 张凤祁 郭红霞 覃英参 孙波波 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期1118-1124,共7页
利用中国原子能科学研究院100MeV质子回旋加速器开展了一系列不同特征尺寸双数据速率(DDR)静态随机存储器(SRAM)单粒子效应实验研究.获得了不同能量、不同入射角度下3款SRAM的单粒子翻转(SEU)截面曲线.分析了入射质子能量及角度对不同... 利用中国原子能科学研究院100MeV质子回旋加速器开展了一系列不同特征尺寸双数据速率(DDR)静态随机存储器(SRAM)单粒子效应实验研究.获得了不同能量、不同入射角度下3款SRAM的单粒子翻转(SEU)截面曲线.分析了入射质子能量及角度对不同特征尺寸SRAM的SEU饱和截面的影响和效应规律,并利用蒙特卡罗方法对65nm SRAM SEU特性进行了模拟.研究结果表明:随特征尺寸的减小,SEU饱和截面会出现不同程度的降低,但降低程度会由于多单元翻转(MCU)的增多而变缓;随入射角度的增加,MCU规模及数量的增加导致器件截面增大;3款SRAM所采用的位交错技术并不能有效抑制多位翻转(MBU)的发生. 展开更多
关键词 质子 静态随机存储器 能量 入射角度 多位翻转
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超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量率效应 被引量:4
19
作者 郑齐文 崔江维 +4 位作者 王汉宁 周航 余徳昭 魏莹 苏丹丹 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期250-255,共6页
对0.18μm互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺的N型金属氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)及静态随机存储器(SRAM)开展了不同剂量率下的电离总剂量辐照试验研究.结果表明:在相同累积剂量,SRAM的低剂量率辐照损伤要略大于高剂量率辐照的损... 对0.18μm互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺的N型金属氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)及静态随机存储器(SRAM)开展了不同剂量率下的电离总剂量辐照试验研究.结果表明:在相同累积剂量,SRAM的低剂量率辐照损伤要略大于高剂量率辐照的损伤,并且低剂量率辐照损伤要远大于高剂量率辐照加与低剂量率辐照时间相同的室温退火后的损伤.虽然NMOSFET低剂量率辐照损伤略小于高剂量率辐照损伤,但室温退火后,高剂量率辐照损伤同样要远小于低剂量率辐照损伤.研究结果表明0.18μm CMOS工艺器件的辐射损伤不是时间相关效应.利用数值模拟的方法提出了解释CMOS器件剂量率效应的理论模型. 展开更多
关键词 总剂量辐射效应 超深亚微米 金属氧化物半导体场效应晶体管 静态随机存储器
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PDSOI静态随机存储器的总剂量辐照加固 被引量:4
20
作者 郭天雷 韩郑生 +3 位作者 海潮和 周小茵 李多力 赵立新 《电子器件》 CAS 2007年第3期794-798,共5页
对PDSOI CMOS器件及电路进行总剂量辐照的加固势必会引起其性能下降,这就需要在器件及电路加固和其性能之间进行折中.从工艺集成的角度,对PDSOI CMOS器件和电路的总剂量辐照敏感区域:正栅氧化层、场区氧化层及埋氧层提出了折中的方法.... 对PDSOI CMOS器件及电路进行总剂量辐照的加固势必会引起其性能下降,这就需要在器件及电路加固和其性能之间进行折中.从工艺集成的角度,对PDSOI CMOS器件和电路的总剂量辐照敏感区域:正栅氧化层、场区氧化层及埋氧层提出了折中的方法.采用此种方法研制了抗总剂量辐照PDSOI SRAM,进行总剂量为2×105rad(Si)的辐照后SRAM的各项功能测试均通过,静态电流的变化满足设计要求,取数时间:辐照前为26.3ns;辐照后仅为26.7ns. 展开更多
关键词 总剂量辐照 静态随机存储器 工艺集成 加固
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