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氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响 被引量:6
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作者 伏兵 诸葛飞 +4 位作者 刘志敏 罗浩 梁凌燕 高俊华 曹鸿涛 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期922-924,共3页
本文研究了氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响,发现等离子体处理可以使薄膜表面平整,并且增加薄膜中的缺陷浓度。以等离子体处理后的ZnO薄膜作为介质层,在Pt/ZnO/Pt三明治结构中观察到无电形成过程的阻变效应。本文研究表明,氩等... 本文研究了氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响,发现等离子体处理可以使薄膜表面平整,并且增加薄膜中的缺陷浓度。以等离子体处理后的ZnO薄膜作为介质层,在Pt/ZnO/Pt三明治结构中观察到无电形成过程的阻变效应。本文研究表明,氩等离子体处理是消除氧化物阻变效应电形成过程的有效手段。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 氩等离子体处理
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有机和杂化阻变材料与器件 被引量:4
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作者 陈威林 高双 +3 位作者 伊晓辉 尚杰 刘钢 李润伟 《功能高分子学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第4期434-447,共14页
阻变存储器具有功耗低、微缩性好、可大规模三维堆积、与互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺兼容等诸多优势,可以满足高性能信息存储的关键要求。采用有机及杂化阻变材料作为存储介质构建器件,通过分子设计及合成策略不仅可实现器件的轻量... 阻变存储器具有功耗低、微缩性好、可大规模三维堆积、与互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺兼容等诸多优势,可以满足高性能信息存储的关键要求。采用有机及杂化阻变材料作为存储介质构建器件,通过分子设计及合成策略不仅可实现器件的轻量化和柔性集成,还可以灵活地调控分子的电学特征以及器件的存储性能。本文全面综述了有机及杂化阻变材料与器件的最新进展,特别关注它们在电学性能调控和柔性存储性能方面的设计原则,并对有机及杂化阻变材料与柔性存储器件的当前挑战及未来发展前景进行了讨论。 展开更多
关键词 有机材料 有机-无机杂化材料 非易失性存储器 柔性
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忆阻器集成应用的研究进展 被引量:2
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作者 马佳杰 李建昌 陈博 《真空》 CAS 2018年第5期71-85,共15页
忆阻器因其独特的电学特性,在阻变存储、人工神经网络和电路中有着良好的应用前景。交叉阵列在二维集成中被广泛采用,三维集成可分为堆叠交叉阵列和垂直交叉阵列。本文对比讨论了两种三维结构,分析了提高集成密度的方法;总结了不同阻变... 忆阻器因其独特的电学特性,在阻变存储、人工神经网络和电路中有着良好的应用前景。交叉阵列在二维集成中被广泛采用,三维集成可分为堆叠交叉阵列和垂直交叉阵列。本文对比讨论了两种三维结构,分析了提高集成密度的方法;总结了不同阻变机理、窗函数、电路结构下的忆阻器模型,给出了相应的Ⅰ-Ⅴ曲线;解释了忆阻器的生物突触行为,介绍了忆阻器在人工神经网络和电路上的应用。 展开更多
关键词 交叉阵列 人工神经网络 突触
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退火温度对铁酸铋薄膜阻变特性的影响 被引量:2
4
作者 罗劲明 《科学技术与工程》 北大核心 2018年第33期122-125,共4页
在氧化铟锡衬底上利用溶胶凝胶法,分别在500℃和600℃退火条件下,制备了锰掺杂的铁酸铋薄膜。两种退火温度下制备出来的薄膜均具有典型的钙钛矿晶体结构,但高温退火的薄膜晶粒尺寸要比低温退火的薄膜大。此外,随着退火温度的升高,薄膜... 在氧化铟锡衬底上利用溶胶凝胶法,分别在500℃和600℃退火条件下,制备了锰掺杂的铁酸铋薄膜。两种退火温度下制备出来的薄膜均具有典型的钙钛矿晶体结构,但高温退火的薄膜晶粒尺寸要比低温退火的薄膜大。此外,随着退火温度的升高,薄膜的介电常数增大,漏电流也随之增加。通过测量约120个电流电压循环曲线,研究了这两种退火温度下锰掺杂铁酸铋薄膜的阻变效应,发现高温退火下薄膜的阻变性能稳定性要比低温退火的薄膜好。最后,基于氧空位相关的导电丝理论,进一步讨论分析了退火温度对薄膜介电、漏电性能和阻变特性的影响。 展开更多
关键词 铁酸铋 退火温度
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基于二维层状GaSe纳米片忆阻器阻变特性研究 被引量:1
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作者 廖康宏 康雨薇 +2 位作者 雷沛先 汤越月 接文静 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2021年第4期323-327,共5页
忆阻器由于其非易失性、低功耗、擦写速度快等优点,在存储器、逻辑器件和计算等领域具有广阔的应用前景。另一方面,二维材料由于二维层状的结构和优异的电学性能被广泛应用于忆阻器。其中,硒化镓是III-VI主族的层状半导体材料,具有高载... 忆阻器由于其非易失性、低功耗、擦写速度快等优点,在存储器、逻辑器件和计算等领域具有广阔的应用前景。另一方面,二维材料由于二维层状的结构和优异的电学性能被广泛应用于忆阻器。其中,硒化镓是III-VI主族的层状半导体材料,具有高载流子迁移率、非线性光学特性和优异的光响应等特性,为研究新型电子器件提供了可能性。本文通过机械剥离法获得二维层状硒化镓纳米薄片,并以Cu作电极制备了具有平面结构基于二维硒化镓的两端阻变存储器件,实现了高达104的开关比。保留特性曲线表明器件可以在6600 s的时间范围内保持高的开关比。此外,随着测试时间的推移,器件的开关比有增大的趋势,显示了良好的稳定性。该研究为二维硒化镓在非易失性储存器件的进一步应用提供了前期基础。 展开更多
关键词 二维材料 硒化镓 非易失性
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Cu/SiO_2结构单元在阻变效应中形成导电通道的模型分析 被引量:1
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作者 罗劲明 《科学技术与工程》 北大核心 2017年第9期103-106,共4页
通过建立一个模型,简单地讨论了Cu/SiO_2结构单元在阻变效应中形成导电通道的临界电压特性。该模型考虑了Cu离子在SiO_2薄膜的迁移扩散和Cu离子在薄膜内引起的空间电荷效应,同时考虑了电子电导机制。模型的计算表明,薄膜的结构参数(厚... 通过建立一个模型,简单地讨论了Cu/SiO_2结构单元在阻变效应中形成导电通道的临界电压特性。该模型考虑了Cu离子在SiO_2薄膜的迁移扩散和Cu离子在薄膜内引起的空间电荷效应,同时考虑了电子电导机制。模型的计算表明,薄膜的结构参数(厚度、电极功函数、掺杂等)对导电通道的形成过程有很大的影响,其临界电压随薄膜厚度和电极功函数的增加而增大,而随Cu离子掺杂浓度增大而减小。这一结果对未来存储器件的性能设计和制造具有一定的指导意义。 展开更多
关键词 SIO2 导电通道 击穿
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高性能Ag/La_(0.7)Mg_(0.3)MnO_3/p^+-Si阻变器件的研究 被引量:1
7
作者 闫帅帅 王华 +2 位作者 许积文 杨玲 陈齐松 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期3493-3497,共5页
采用溶胶-凝胶工艺在p型单晶硅衬底上制备了La_(0.7)Mg_(0.3)MnO_3薄膜,对薄膜的微观结构及Ag/La_(0.7)Mg_(0.3)MnO_3/p+-Si器件的电致阻变性能进行了研究。结果表明:La_(0.7)Mg_(0.3)MnO_3薄膜在经过700℃退火2 h后为单一的钙钛矿结构,... 采用溶胶-凝胶工艺在p型单晶硅衬底上制备了La_(0.7)Mg_(0.3)MnO_3薄膜,对薄膜的微观结构及Ag/La_(0.7)Mg_(0.3)MnO_3/p+-Si器件的电致阻变性能进行了研究。结果表明:La_(0.7)Mg_(0.3)MnO_3薄膜在经过700℃退火2 h后为单一的钙钛矿结构,沿(112)晶向择优生长,薄膜致密平整;Ag/La_(0.7)Mg_(0.3)MnO_3/p+-Si阻变器件具有典型的双极型阻变特性,具有非常高的电阻开关比,其高阻态(HRS)与低阻态(LRS)的比值高于105,以及较佳的耐疲劳性能,器件在1000次循环后高、低阻态比值没有明显变化;器件在高阻态(HRS)时的导电机制为Schotty势垒发射效应,低阻态(LRS)导电机制为导电细丝机制。 展开更多
关键词 La0.7Mg0.3MnO3 溶胶-凝胶 异质结
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GaN衬底上Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_2薄膜的阻变性能与机理研究 被引量:1
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作者 陈晓倩 朱俊 吴智鹏 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第9期5-8,15,共5页
采用脉冲激光沉积法在n-Ga N衬底上制备了铁电Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_2薄膜,通过测量样品的P-E曲线与I-V特性曲线研究该异质结构的铁电特性及阻变特性。测试结果表明HZO薄膜具有良好的铁电极化特性及双极性电阻开关特性,HZO薄膜的阻值开关比... 采用脉冲激光沉积法在n-Ga N衬底上制备了铁电Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_2薄膜,通过测量样品的P-E曲线与I-V特性曲线研究该异质结构的铁电特性及阻变特性。测试结果表明HZO薄膜具有良好的铁电极化特性及双极性电阻开关特性,HZO薄膜的阻值开关比达10~4。薄膜同时还表现出良好的抗疲劳特性和保持特性,80次翻转后窗口保持同一个数量级,在10~5s内器件仍保持稳定。对薄膜的I-V曲线进行拟合分析,表明该薄膜的导电机理为界面肖特基发射模型。 展开更多
关键词 铁电 异质结 RRAM 脉冲激光沉积 肖特基发射
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低能Ar+刻蚀时间对抛光单晶LiNbO3薄膜忆阻器的影响
9
作者 梁翔 帅垚 +2 位作者 潘忻强 乔石珺 吴传贵 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第5期60-66,共7页
调节低能Ar+刻蚀对单晶LiNbO3(LN)的刻蚀时间,制备了不同LN厚度的单晶薄膜忆阻器。利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和电子顺磁共振(EPR)对器件的微观形貌与表面氧空位进行了表征。通过电流-电压曲线(IV曲线)、数据保持特性(... 调节低能Ar+刻蚀对单晶LiNbO3(LN)的刻蚀时间,制备了不同LN厚度的单晶薄膜忆阻器。利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和电子顺磁共振(EPR)对器件的微观形貌与表面氧空位进行了表征。通过电流-电压曲线(IV曲线)、数据保持特性(Retention)和抗疲劳特性(Endurance)的测试,探究了刻蚀时长对器件电学行为的影响。结果表明,随刻蚀时间增加,器件表面光滑均匀,氧空位浓度增加,电形成电压显著降低。同时,尽管LN薄膜厚度减小后,器件的开关比(On/Off)略有降低,但其具有更好的数据保持特性。该方法适用于对由离子注入剥离法制备的单晶薄膜进行改性,以调控其阻变特性,使之可在高密度存储、神经形态计算等领域得到应用。 展开更多
关键词 LiNbO3薄膜 低能离子辐照
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TiO_(x)薄膜阻变特性的氩等离子处理影响探讨
10
作者 徐文彬 任高潮 《科技创新导报》 2021年第14期122-127,131,共7页
本文探讨了氩气等离子处理对TiO_(x)薄膜阻变性能的影响,并根据阻变性能的变化,提出了改变等离子处理条件来优化阻变性能的思路。实验显示,随着等离子处理范围的增大,阻变forming-free特征出现的可能性在增大。而处理功率增长的影响主... 本文探讨了氩气等离子处理对TiO_(x)薄膜阻变性能的影响,并根据阻变性能的变化,提出了改变等离子处理条件来优化阻变性能的思路。实验显示,随着等离子处理范围的增大,阻变forming-free特征出现的可能性在增大。而处理功率增长的影响主要体现在阻变层中氧空位含量的增加(XPS测定)和等离子处理电流的增大,但在面积较小试样中则逐渐趋于饱和。面积较大试样中没有出现伴随功率增长的饱和趋势,但阻变失效的可能性也同时增大。根据离子电流的测试结果,处理面积变化带来的影响归因于等离子功率的匹配条件不同,并引入了3个小单元并列处理的优化方式。最终结果显示,三单元处理方式在阻变值稳定性、氧空位调整和避免阻变失效等方面有突出的综合优势,有助于阻变性能的进一步提升研究。 展开更多
关键词 等离子 TiO_(x) 无电形成 氧空位
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电场调控Pt/Co∶ZnO/Nb∶SrTiO_3异质结阻变与磁性研究
11
作者 胡诚 张婷婷 +3 位作者 来国红 邱达 张昌华 朱永丹 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期1596-1601,共6页
利用脉冲激光沉积法在0.7%Nb∶SrTiO_3衬底上制备了Co∶ZnO薄膜,并构建了Pt/Co∶ZnO/Nb∶SrTiO_3异质结器件。该器件表现出典型的双极性阻变效应,在正、负向电压作用下,器件电阻可以在低阻态和高阻态之间变换,电阻变换比值可达到104,阻... 利用脉冲激光沉积法在0.7%Nb∶SrTiO_3衬底上制备了Co∶ZnO薄膜,并构建了Pt/Co∶ZnO/Nb∶SrTiO_3异质结器件。该器件表现出典型的双极性阻变效应,在正、负向电压作用下,器件电阻可以在低阻态和高阻态之间变换,电阻变换比值可达到104,阻态具有一定的保持性与耐久性,同时Co∶ZnO薄膜的饱和磁化强度会产生与阻变相关联的可逆调控。结合ZnO薄膜阻变与磁性调控结果发现,氧空位在Co∶ZnO/Nb∶SrTiO_3异质结的阻变及磁性调控中具有重要作用,并采用氧空位产生与湮灭结合载流子注入-束缚/解束缚模型解释阻变与磁性调控。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 Pt/Co∶ZnO/Nb∶SrTiO3异质结 氧空位 磁性
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ZrO_2纳米粒子薄膜阻变特性研究
12
作者 李润霞 李建昌 《真空》 CAS 2016年第3期26-29,共4页
用水热法制备了ZrO_2纳米粒子,结构通过XRD表征,利用GaIn上电极对旋涂于ITO基底上薄膜进行伏安特性测试。结果表明,ZrO_2纳米粒子为微晶单斜相,随水热温度增加,结晶度增强。器件具有双极阻变特性,开关比随水热温度增加而减小,阈值电压... 用水热法制备了ZrO_2纳米粒子,结构通过XRD表征,利用GaIn上电极对旋涂于ITO基底上薄膜进行伏安特性测试。结果表明,ZrO_2纳米粒子为微晶单斜相,随水热温度增加,结晶度增强。器件具有双极阻变特性,开关比随水热温度增加而减小,阈值电压则近乎线性增加。样品低阻态输运为欧姆特性,而高阻态符合空间电荷限制导电机制,阻变机理为氧空位导电细丝的形成与断裂。 展开更多
关键词 ZrO_2纳米粒子 水热法 氧空位
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1D1R型阻变存储器的研究进展
13
作者 马佳杰 陈博 +1 位作者 王勃 李建昌 《真空》 CAS 2017年第5期71-77,共7页
本文从二极管类型、器件组成和单元结构综述了1D1R型阻变存储器的研究进展。二极管可分为硅基二极管、氧化物二极管(p-n结型、肖特基型)和聚合物二极管。硅基二极管性能优异,但制备温度高,不利于集成;氧化物二极管易制备,且与CMOS工艺兼... 本文从二极管类型、器件组成和单元结构综述了1D1R型阻变存储器的研究进展。二极管可分为硅基二极管、氧化物二极管(p-n结型、肖特基型)和聚合物二极管。硅基二极管性能优异,但制备温度高,不利于集成;氧化物二极管易制备,且与CMOS工艺兼容,但正向电流密度不足;聚合物二极管虽然性能较差,但易于大面积制备,柔性好。单元结构可分为1D1R、1D2R和Bi-1D1R。1D1R研究最为广泛,但不适用于双极型阻变介质,1D2R和Bi-1D1R型可适用于双极型阻变介质。分析静态和柔性下的器件表明:阻变介质和制备方法对于存储器的性能有较大影响,柔性1D1R型阻变存储器已经具备了一定的抗弯扭、卷绕能力,其柔性主要受到基底性质、膜层间粘附力、杨氏模量差、材料属性等影响。 展开更多
关键词 二极管 1D1R 柔性电子
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Influence of Poly(methyl metacrylate) Addition on Resistive Switching Performance of P3HT/P(VDF-TrFE) Blend Films
14
作者 翁军辉 胡静航 +2 位作者 张剑驰 蒋玉龙 朱国栋 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2017年第2期200-206,I0002,共8页
Organic semiconducting/ferroelectric blend films attracted much attention due to their electrical bistability and rectification properties and thereof the potential in resistive memory devices. Blend films were usuall... Organic semiconducting/ferroelectric blend films attracted much attention due to their electrical bistability and rectification properties and thereof the potential in resistive memory devices. Blend films were usually deposited from solution, during which phase separation oc- curred, resulting in discrete semiconducting phase whose electrical property was modulated by surrounding ferroelectric phase. However, phase separation resulted in rough surface and thus large leakage current. To further improve electrical properties of such blend films, poly(methyl metacrylate) (PMMA) was introduced as additive into P3HT/P(VDF-TrFE) semiconducting/ferroelectric blend films in this work. It indicated that small amount of PMMA addition could effectively enhance the electrical stability to both large electrical stress and electrical fatigue and further improve retention performance. Overmuch PMMA addition tended to result in the loss of resistive switching property. A model on the configuration of three components was also put forward to well understand our experimental observations. 展开更多
关键词 Resistive switching Ferroelectric/semiconducting blend film Spin coating Phase separation
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退火对CdZnTe薄膜阻变特性影响研究
15
作者 高杨帆 杨虎 曾冬梅 《数码设计》 2020年第20期157-158,共2页
CdZnTe(简称为CZT)薄膜是近年发展起来的一种性能优异的新型半导体材料,可用于探测器、太阳能电池、阻变存储器等方面。然而,CdZnTe材料发生电阻转变的物理机制还不太清晰,本论文采用射频磁控溅射制备具有阻变特性的CdZnTe薄膜,利用X射... CdZnTe(简称为CZT)薄膜是近年发展起来的一种性能优异的新型半导体材料,可用于探测器、太阳能电池、阻变存储器等方面。然而,CdZnTe材料发生电阻转变的物理机制还不太清晰,本论文采用射频磁控溅射制备具有阻变特性的CdZnTe薄膜,利用X射线衍射仪、原子力显微镜和半导体测试系统等设备测试分析CdZnTe薄膜的结构、表面形貌及电学性能,研究退火对其阻变特性的影响。 展开更多
关键词 CdZnTe薄膜 磁控溅射
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基于氩等离子处理的阻变氧空位调控探讨
16
作者 徐文彬 任高潮 《集美大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第5期387-392,共6页
以氩气等离子处理为优化工艺,通过其对ZnO阻变薄膜中氧空位缺陷的影响,来改进ZnO薄膜阻变特性。等离子处理范围减小和处理时间延长有助于阻变特性的稳定,以及阻变工作电压的降低。为了降低阻变工作电压及抑制随机性,最终确定的等离子处... 以氩气等离子处理为优化工艺,通过其对ZnO阻变薄膜中氧空位缺陷的影响,来改进ZnO薄膜阻变特性。等离子处理范围减小和处理时间延长有助于阻变特性的稳定,以及阻变工作电压的降低。为了降低阻变工作电压及抑制随机性,最终确定的等离子处理条件是时间不超过45min,处理范围介于0.8mm×0.8mm和0.9mm×0.9mm之间。主要的阻变工作电压均在3V以下,适合低功耗器件应用。并结合处理条件和表面粗糙度等测试结果进行了讨论。 展开更多
关键词 氧空位 等离子 ZNO 无电形成
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忆阻器及其阻变机理研究进展 被引量:24
17
作者 刘东青 程海峰 +2 位作者 朱玄 王楠楠 张朝阳 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第18期16-24,共9页
忆阻器是除电阻、电容、电感之外的第四种电路元件,在信息存储、逻辑运算和神经网络等研究领域具有重要的应用前景.本文综述了忆阻器以及忆阻器材料的研究进展,主要介绍了忆阻器的内涵与特征、阻变机理、材料类型以及应用前景,指出了目... 忆阻器是除电阻、电容、电感之外的第四种电路元件,在信息存储、逻辑运算和神经网络等研究领域具有重要的应用前景.本文综述了忆阻器以及忆阻器材料的研究进展,主要介绍了忆阻器的内涵与特征、阻变机理、材料类型以及应用前景,指出了目前忆阻器研究中需要关注的主要问题,并对以后的发展趋势进行了展望. 展开更多
关键词 机理 开关 器材料
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阻变存储器研究进展 被引量:13
18
作者 龙世兵 刘琦 +1 位作者 吕杭炳 刘明 《中国科学:物理学、力学、天文学》 CSCD 北大核心 2016年第10期138-164,共27页
阻变存储器(Resistive Random Access Memory,RRAM)是最具应用前景的下一代非易失性存储器之一,与传统浮栅闪存相比在器件结构、速度、可微缩性、三维集成潜力等方面都具有明显的优势,本文对RRAM技术进行了综述.首先简单介绍了阻变存储... 阻变存储器(Resistive Random Access Memory,RRAM)是最具应用前景的下一代非易失性存储器之一,与传统浮栅闪存相比在器件结构、速度、可微缩性、三维集成潜力等方面都具有明显的优势,本文对RRAM技术进行了综述.首先简单介绍了阻变存储器的工作原理、技术优势、发展历程和面临的基础科学问题.然后深入总结了RRAM的材料体系,包括固态电解质、多元金属氧化物、二元金属氧化物3类传统的阻变介质材料,总结了纳米线、二维材料等低维纳米材料在RRAM运用方面的近期研究进展,分析了绝缘/导电的低维材料分别用作阻变介质、平面电极层/纳米电极/侧边电极、界面插层所带来的微缩性、阻变性能和稳定性等的改善效果.总结和分析了细丝型电阻转变的3类物理机制:热化学机制(Thermochemical Mechanism,TCM)、电化学金属化(Electrochemical Metallization,ECM)机制、化合价变化机制(Valence Change Mechanism,VCM),详细分析了3种机制的SET/RESET转变原理和基本电学特性、透射电镜观测关键实验验证、对阻变机制的认识发展过程等.在阻变机制分析的基础上,接着阐述了RRAM电阻转变过程中由于纳米尺度下材料微观结构和能带结构的变化导致的一些新奇的物理现象,包括量子效应、磁电效应、光电效应等.最后针对RRAM实现应用的关键——集成技术,总结分析了存储阵列架构、二维/三维集成等关键问题及其研究进展. 展开更多
关键词 存储器 材料 机制 导电细丝 三维集成 选通管
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阻变存储器及其集成技术研究进展 被引量:13
19
作者 左青云 刘明 +6 位作者 龙世兵 王琴 胡媛 刘琦 张森 王艳 李颖弢 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2009年第4期546-551,共6页
在各种新型非挥发性存储器中,阻变存储器(RRAM)具有成为下一代存储器的潜力。介绍了RRAM器件的基本结构,分类总结了常用的材料以及制备工艺,对RRAM阵列的集成方案进行了比较,并讨论了目前存在的问题;最后,对RRAM的研究趋势进行了展望。
关键词 非挥发性存储器 存储器
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新一代存储技术:阻变存储器 被引量:14
20
作者 王源 贾嵩 甘学温 《北京大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期565-572,共8页
阻变存储器具有存储单元结构简单、工作速度快、功耗低、有利于提高集成密度等诸多优点,受到广泛的关注。作者论述了RRAM的基本结构和工作原理,并介绍了三维集成和多值存储等RRAM新型技术。
关键词 不挥发性存储器 存储器 可逆转换 三维集成 多值存储
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