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离子束混合沉积C-SiC涂层的阻氢特性研究 被引量:1
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作者 杨斌 熊器 +3 位作者 刘耀光 雷家荣 汪德志 黄宁康 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期65-68,共4页
对离子束混合技术制备的C SiC阻氢涂层进行了SEM形貌观察 ,比较了在相同组分的C SiC靶材下采用不同的Ar+ 离子轰击剂量 ,在相同的Ar+ 离子轰击剂量下采用不同组分的C SiC靶材所制备涂层的表面形貌特征 ,并由二次离子质谱 (SIMS)分析了C ... 对离子束混合技术制备的C SiC阻氢涂层进行了SEM形貌观察 ,比较了在相同组分的C SiC靶材下采用不同的Ar+ 离子轰击剂量 ,在相同的Ar+ 离子轰击剂量下采用不同组分的C SiC靶材所制备涂层的表面形貌特征 ,并由二次离子质谱 (SIMS)分析了C SiC涂层的阻氢性能 .结果表明 ,所制备C SiC涂层的表面形貌与靶材组分以及Ar+ 离子轰击剂量有关 ,不同的形貌特征对涂层的阻氢性能影响不同 . 展开更多
关键词 C-SiC 离子束混合技术 表面形貌 阻氢性能 碳-碳化硅涂层 聂击剂量 金属表达保护
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