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离子束混合沉积C-SiC涂层的阻氢特性研究
被引量:
1
1
作者
杨斌
熊器
+3 位作者
刘耀光
雷家荣
汪德志
黄宁康
《四川大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期65-68,共4页
对离子束混合技术制备的C SiC阻氢涂层进行了SEM形貌观察 ,比较了在相同组分的C SiC靶材下采用不同的Ar+ 离子轰击剂量 ,在相同的Ar+ 离子轰击剂量下采用不同组分的C SiC靶材所制备涂层的表面形貌特征 ,并由二次离子质谱 (SIMS)分析了C ...
对离子束混合技术制备的C SiC阻氢涂层进行了SEM形貌观察 ,比较了在相同组分的C SiC靶材下采用不同的Ar+ 离子轰击剂量 ,在相同的Ar+ 离子轰击剂量下采用不同组分的C SiC靶材所制备涂层的表面形貌特征 ,并由二次离子质谱 (SIMS)分析了C SiC涂层的阻氢性能 .结果表明 ,所制备C SiC涂层的表面形貌与靶材组分以及Ar+ 离子轰击剂量有关 ,不同的形貌特征对涂层的阻氢性能影响不同 .
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关键词
C-SiC
离子束混合技术
表面形貌
阻氢性能
碳-碳化硅涂层
聂击剂量
金属
表达
保护
下载PDF
职称材料
题名
离子束混合沉积C-SiC涂层的阻氢特性研究
被引量:
1
1
作者
杨斌
熊器
刘耀光
雷家荣
汪德志
黄宁康
机构
四川大学原子核科学技术研究所.教育部辐射物理及技术重点实验室
出处
《四川大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期65-68,共4页
基金
中国工程物理研究院科研基金
文摘
对离子束混合技术制备的C SiC阻氢涂层进行了SEM形貌观察 ,比较了在相同组分的C SiC靶材下采用不同的Ar+ 离子轰击剂量 ,在相同的Ar+ 离子轰击剂量下采用不同组分的C SiC靶材所制备涂层的表面形貌特征 ,并由二次离子质谱 (SIMS)分析了C SiC涂层的阻氢性能 .结果表明 ,所制备C SiC涂层的表面形貌与靶材组分以及Ar+ 离子轰击剂量有关 ,不同的形貌特征对涂层的阻氢性能影响不同 .
关键词
C-SiC
离子束混合技术
表面形貌
阻氢性能
碳-碳化硅涂层
聂击剂量
金属
表达
保护
Keywords
C SiC coating
ion beam mixing
morphology
hydrogen resistance
分类号
TG174.45 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
离子束混合沉积C-SiC涂层的阻氢特性研究
杨斌
熊器
刘耀光
雷家荣
汪德志
黄宁康
《四川大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
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