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国产碳化硅离子注入机的设计开发
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作者 袁卫华 李进 +1 位作者 罗才旺 许波涛 《电子工业专用设备》 2024年第1期38-42,共5页
为进一步增加SiC离子注入技术的自主可控能力和降低SiC器件的成本,SiC离子注入机的国产替代迫在眉睫。主要介绍国产SiC离子注入机的研制过程和其中的三大关键技术,目前国产SiC离子注入机核心技术攻关已取得突破并得到产线应用,器件良品... 为进一步增加SiC离子注入技术的自主可控能力和降低SiC器件的成本,SiC离子注入机的国产替代迫在眉睫。主要介绍国产SiC离子注入机的研制过程和其中的三大关键技术,目前国产SiC离子注入机核心技术攻关已取得突破并得到产线应用,器件良品率、性能等指标与国外进口机台的水平相当,能够满足SiC器件的生产要求。 展开更多
关键词 碳化硅 高能离子注入机 金属离子源 高温注入
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MEVVA型金属离子源
2
作者 孙别和 胡尚斌 陈勤 《辐射防护通讯》 1994年第4期35-38,共4页
本文报道金属蒸发真空孤放电(MEVVA)型金属离子源的研究结果。阴极材料分别使用了Al、Ti、Fe和Cu。阴极触发脉冲12kV,脉冲宽度90μs,脉冲重复率1-5次/s。引出束流脉冲宽度300μs。当引出电压为28k... 本文报道金属蒸发真空孤放电(MEVVA)型金属离子源的研究结果。阴极材料分别使用了Al、Ti、Fe和Cu。阴极触发脉冲12kV,脉冲宽度90μs,脉冲重复率1-5次/s。引出束流脉冲宽度300μs。当引出电压为28kV时,可引出Al、Ti、Fe和Cu离子流强度分别为230mA、250mA。 展开更多
关键词 金属离子源 束流脉冲 放电 离子源
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薄膜制备用电子束蒸发强流气固两用离子源
3
作者 冯毓材 李晓谦 《真空科学与技术》 CSCD 1996年第6期445-448,共4页
介绍了一种新型的电子束蒸发(EBE)强流气、固两用离子源,其基本原理是将电子束蒸发技术引人离子源放电室内,使材料的蒸发和游离在同一放电室内完成。该源不仅能引出包括各种难熔材料在内的强流金属和非金属离子束,而且能同时引出... 介绍了一种新型的电子束蒸发(EBE)强流气、固两用离子源,其基本原理是将电子束蒸发技术引人离子源放电室内,使材料的蒸发和游离在同一放电室内完成。该源不仅能引出包括各种难熔材料在内的强流金属和非金属离子束,而且能同时引出气态和固态元素的混合离子束。迄今为止,已引出包括C,W,Ta,Mo,Cr,Ti,B,Cu,Ni,Al,Ar,N以及C和N,Ti等的混合离子束。用于薄膜制备的引出束径为3.6cm,其最大引出束流可达到90mA。利用此源引出的离子束流可在膜基间形成具有良好共混的过渡层,其沉积速率Mo约为2.5nm/s,C可达到8nm/s。 展开更多
关键词 表面改性 电子束蒸发 金属离子源 薄膜制备
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Escamoles Ant Eggs Liometopumapiculatumm Source of Metal Ions for Human Health 被引量:1
4
作者 Virginia Melo Concepcion Calvo +2 位作者 Tomas Quirino Susana Macin Ileana Muniz 《Journal of Chemistry and Chemical Engineering》 2013年第6期556-559,共4页
The earth crust is believed to be made of a mass of minerals and is matched by their importance in human life. The human body, depend like other leaving organisms, on several minerals as essential constituents of its ... The earth crust is believed to be made of a mass of minerals and is matched by their importance in human life. The human body, depend like other leaving organisms, on several minerals as essential constituents of its existence. Metal ions in foodstuff are in different chemical forms, as inorganic salts or organic molecules or complexes with other compounds such as proteins, amino acids, enzymes and some vitamins, among others, that play an important role in human health. Entomophagy, insect consumption by several ethnic groups in Mexico as cultural tradition since prehispanic era represent an option for population to obtain the minerals needed by the body to keep a good health. Escamoles ant eggs of the Liometopumapiculatum M genus, much appreciated either at rural communities as well as in urban cities, contain minerals with a favorable effect in human health. The aim of this study was to investigate the mineral composition of Escamoles and the benefits which can provide to the human body. Sampling was at an arid region of the Hidalgo state on April 2012. Minerals in dry basis, determined by atomic absorption spectrophotometry, with the exception of phosphorus content, obtained from a triple acid digested extract and determined colorimetrically. Data of mineral analysis in dry basis of Escamoles were: total minerals 5.92%; Na 0.079%; K 0.075%; Ca 0.097%; P 0.701%; Fe 0.021%; Zn 0.035% Cu 0.009%; Mg 0.998%; Mn 0.002%. Minerals quantify are not equal to total ash contained because not all of them were assess determined. Elements concentration depends not only on the total mineral composition of foodstuff the inorganic or organic form or interaction among metal ions, but also on their availability and avail of them. Minerals in Escamoles ant eggs have a considerable influence in the condition of human health. 展开更多
关键词 Escamoles ant eggs metal ions human health.
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基于DSP控制的金属离子源脉冲弧电源的研制
5
作者 李运坡 蒲世豪 +3 位作者 陈东来 金凡亚 魏于苹 陈常 《真空》 CAS 2017年第4期21-25,共5页
离子源是离子注入设备的重要组成部分,其控制方式,工作频率以及产生离子的种类、电流强度、离子束密度等对离子注入设备的运行效率和稳定性有着重大影响。本文主要论述了一套应用于MEVVA型金属离子源的脉冲弧电源的设计与优化。该电源... 离子源是离子注入设备的重要组成部分,其控制方式,工作频率以及产生离子的种类、电流强度、离子束密度等对离子注入设备的运行效率和稳定性有着重大影响。本文主要论述了一套应用于MEVVA型金属离子源的脉冲弧电源的设计与优化。该电源由触发电源和电弧电源组成,其中触发电源输出峰值电压高达25KV,脉宽为20us;电弧电源输出峰值电压为90V,输出脉宽在200us^3ms范围内可调。该电源采用DSP-28335芯片作为控制系统,输出PWM信号准确控制IGBT的开通关断,从而控制输出脉冲的电压,频率和脉宽;实时监控过压过流信号,保护电源系统安全可靠运行。实验结果表明:此电源各项指标运行正常,电磁干扰小,具有良好的应用价值。 展开更多
关键词 金属离子源 脉冲弧电 IGBT DSP控制
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高束流密度金属注入离子源
6
作者 PaulJ.Wilbur Ronghua Wei 陈阳 《微细加工技术》 1992年第4期49-52,共4页
本文对直接从高温石墨室的稳定金属等离子体放电中,引出高束流密度的宽束离子源的设计特点和初步试验进行了介绍。金属蒸气是通过将电子流引入到具有阳极电势的坩埚内,使其中的纯金属蒸发而得到的。当金属蒸气的数量达到能自己维持的程... 本文对直接从高温石墨室的稳定金属等离子体放电中,引出高束流密度的宽束离子源的设计特点和初步试验进行了介绍。金属蒸气是通过将电子流引入到具有阳极电势的坩埚内,使其中的纯金属蒸发而得到的。当金属蒸气的数量达到能自己维持的程度时,就停止送入用于起动放电的氩气。引出的钛或铜离子束在距离子源50cm处的靶上,束斑直径可达几厘米,束流密度可达几百μA/cm^2。该系统简单、安全、易于保养。 展开更多
关键词 表面处理 离子 密度 金属离子源
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金属离子源磁过滤器磁场位形的设计与实验研究
7
作者 赵杰 唐德利 耿少飞 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期696-699,共4页
根据磁过滤器对磁场的要求,利用水冷铜管产生的反向磁场,设计一个轴向磁场较弱的磁镜式磁过滤器。由数值模拟和实验研究的结果可知:磁过滤器磁场位形是一个轴向较弱的磁镜式磁场分布;并且在磁过滤器的出口处,磁场强度的均匀性较好;还增... 根据磁过滤器对磁场的要求,利用水冷铜管产生的反向磁场,设计一个轴向磁场较弱的磁镜式磁过滤器。由数值模拟和实验研究的结果可知:磁过滤器磁场位形是一个轴向较弱的磁镜式磁场分布;并且在磁过滤器的出口处,磁场强度的均匀性较好;还增强了水冷铜管和磁过滤器壁之间的磁场。由离子束测试实验可知在加反向磁场时离子束的均匀性比没有反向磁场时高很多。 展开更多
关键词 金属离子源 磁过滤器 离子 磁场强度
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用强流金属离子源研究Ti-Si化合物的形成
8
作者 朱德华 卢红波 柳百新 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期229-234,共6页
利用金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子源引出强流Ti离子注入单晶硅,当MEVVA源引出电压为40kV,束流密度达到100μA/cm2,Ti离子剂量为5×1017/cm2,Ti离子注入单晶硅可得到C54-TiSi2的... 利用金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子源引出强流Ti离子注入单晶硅,当MEVVA源引出电压为40kV,束流密度达到100μA/cm2,Ti离子剂量为5×1017/cm2,Ti离子注入单晶硅可得到C54-TiSi2的注入层,且薄层电阻低于3.0Ω/□.本文用束流热效应讨论了形成硅化物的机理. 展开更多
关键词 TI-SI 化合物 离子注入 金属离子源 半导体材料
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镓液态金属离子源的制备 被引量:9
9
作者 董桂芳 袁忠远 +2 位作者 汪健如 应根裕 张克潜 《微细加工技术》 EI 1998年第3期42-45,共4页
镓液态金属离子源广泛应用于聚焦离子束技术 ,本文介绍了一种利用电子轰击的方法制备镓液态金属离子源的工艺和设备 ,测试了源的 I- V发射特性曲线 ,d I/ d V≈ 0 .0 5 ( μA/ V) ,进行了新旧工艺下电流发射稳定度的比较 ,最佳源发射稳... 镓液态金属离子源广泛应用于聚焦离子束技术 ,本文介绍了一种利用电子轰击的方法制备镓液态金属离子源的工艺和设备 ,测试了源的 I- V发射特性曲线 ,d I/ d V≈ 0 .0 5 ( μA/ V) ,进行了新旧工艺下电流发射稳定度的比较 ,最佳源发射稳定度大于 95 % ,寿命大于 1 0 0 0小时。 展开更多
关键词 液态金属离子源 聚焦离子 微细加工 钨丝
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聚焦离子束加工技术及其应用 被引量:9
10
作者 马向国 顾文琪 《微纳电子技术》 CAS 2005年第12期575-577,582,共4页
对聚焦离子束加工技术在集成电路芯片的诊断与修改、修复光刻掩模缺陷、制作透射电镜样品以及多用途微切割上的应用作了详细介绍。
关键词 聚焦离子 液态金属离子源 应用
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液态金属离子源聚焦离子束系统在微米/纳米技术中的应用 被引量:6
11
作者 董桂芳 张克潜 +1 位作者 汪健如 应根裕 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第6期110-114,共5页
随着微米/纳米科学技术的发展,微细加工微区分析所用的主要技术之一──聚焦离子束技术引人注目.本文简述了具有液态金属离子源的聚焦离子束技术的主要功能,着重报道了近年来该技术在下述领域中的应用:(1)半导体大规模集成电路... 随着微米/纳米科学技术的发展,微细加工微区分析所用的主要技术之一──聚焦离子束技术引人注目.本文简述了具有液态金属离子源的聚焦离子束技术的主要功能,着重报道了近年来该技术在下述领域中的应用:(1)半导体大规模集成电路器件的集成、失误诊断和修复.(2)光电子集成技术中量子阱激光器和光纤相位掩模的制备及量子效应研究.(3)超导器件和真空微电子器件的研制.(4)二次离子质谱分析和透射电子显微镜样品的制备. 展开更多
关键词 聚焦离子 液态金属离子源 IC 微米/纳米技术
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液态金属离子源静电透镜离子枪的实验研究 被引量:3
12
作者 彭永生 刘心红 陆家和 《真空科学与技术》 CSCD 1994年第4期270-275,共6页
液态金属离子源(LMIS)的亚微米聚焦离子束(FIB)在现代分析技术和微细加工等领域有很多应用。介绍一种计算机控制的快速、灵活、准确的束斑测量方法;并报导用这种方法对采用Orloff—Swanson静电透镜离子枪的FIB性能的研究结果,包... 液态金属离子源(LMIS)的亚微米聚焦离子束(FIB)在现代分析技术和微细加工等领域有很多应用。介绍一种计算机控制的快速、灵活、准确的束斑测量方法;并报导用这种方法对采用Orloff—Swanson静电透镜离子枪的FIB性能的研究结果,包括源尖对中对束斑的影响、各电极电位对束斑的影响及束斑与束流的关系等。通过仔细的源尖位置调节,在束能13keV,束流1.0nA时,FIB束斑在亚微米范围。 展开更多
关键词 液态金属离子源 静电透镜离子 实验
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聚焦离子束技术及其在微纳加工技术中的应用 被引量:3
13
作者 马向国 刘同娟 顾文琪 《真空》 CAS 北大核心 2007年第6期74-78,共5页
聚焦离子束(FIB)技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。它突破了只能对表层成像和分析的局限,可以对样品进行三维的、表面下的观察和分析,也可以对样品材料进行切割研磨和... 聚焦离子束(FIB)技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。它突破了只能对表层成像和分析的局限,可以对样品进行三维的、表面下的观察和分析,也可以对样品材料进行切割研磨和沉积特定材料,用它可以获得以前无法得到的样品信息。从而为研究人员和制造人员提供了一种对多种样品在纳米尺度进行修改、制作和分析的有效工具。 展开更多
关键词 聚焦离子 液态金属离子源 微纳加工技术
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单级透镜聚焦离子束系统的研究 被引量:3
14
作者 俞学东 毕建华 陆家和 《微细加工技术》 1994年第3期6-16,共11页
建立了一台简单实用的单级透镜聚焦离子束(FIB)系统。该系统采用优越的Ca ̄+液态金属离子源(LMIS)和单级O-S透镜,在束能为20keV、束流为300pA时,束径达到0.3μm。改进了束斑的测量方法。研究了影响束... 建立了一台简单实用的单级透镜聚焦离子束(FIB)系统。该系统采用优越的Ca ̄+液态金属离子源(LMIS)和单级O-S透镜,在束能为20keV、束流为300pA时,束径达到0.3μm。改进了束斑的测量方法。研究了影响束斑的各种因素。该系统既可用来作为扫描离子显微镜,又可作为亚微米加工工具。文中给出了在该系统上得到的样品显微图像和刻蚀图形的结果。 展开更多
关键词 聚焦离子 液态金属离子源 微细加工 单级透镜
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AuSi液态金属离子源
15
作者 董桂芳 康文运 +1 位作者 应根裕 汪健如 《清华大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第9期114-117,共4页
为了进行Si聚焦离子束微细加工技术的研究,研制了AuSi液态金属离子源制备设备及其分析设备,制成了实用化的AuSi合金源,得到了制备该合金源的成熟工艺,利用E×B质量分离器分离出Au和Si离子束,对源的一些特性如... 为了进行Si聚焦离子束微细加工技术的研究,研制了AuSi液态金属离子源制备设备及其分析设备,制成了实用化的AuSi合金源,得到了制备该合金源的成熟工艺,利用E×B质量分离器分离出Au和Si离子束,对源的一些特性如电流—电压曲线、加热功率—发射电流曲线、束流质谱及源的寿命作了分析。该源结构采取同轴针型,合金槽的材料为钼,发射尖为钨丝。源正常工作时的加热方式为间接加热式。该源与带质量分离器的聚焦离子束系统结合,将迈开亚微米Si离子束加工的第一步。并为今后研究其它合金源提供经验。 展开更多
关键词 液态金属离子源 离子源 聚焦离子 微细加工
原文传递
聚焦离子束曝光技术 被引量:2
16
作者 马向国 顾文琪 《电子工业专用设备》 2005年第12期56-58,共3页
聚焦离子束技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程 于一身的新型微纳加工技术。它大大提高了微电子工业上材料、工艺、器件分析及修补的精度和速 度,目前已经成为微电子技术领域必不可少的关键技术之... 聚焦离子束技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程 于一身的新型微纳加工技术。它大大提高了微电子工业上材料、工艺、器件分析及修补的精度和速 度,目前已经成为微电子技术领域必不可少的关键技术之一。对聚焦离子束曝光技术作了介绍。 展开更多
关键词 聚焦离子 液态金属离子源 曝光
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聚焦离子束系统液态金属离子源的研制 被引量:2
17
作者 马向国 刘同娟 顾文琪 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期331-336,共6页
设计了一种聚焦离子束系统用液态金属离子源(Liquid Metal lon Source-LMIS),本文对该源组件结构的设计、发射针尖的腐蚀工艺、挂金属镓工艺、测试系统的设计作了介绍;然后对该离子源的I-V特性、角电流密度、稳定性以及寿命等性能进行... 设计了一种聚焦离子束系统用液态金属离子源(Liquid Metal lon Source-LMIS),本文对该源组件结构的设计、发射针尖的腐蚀工艺、挂金属镓工艺、测试系统的设计作了介绍;然后对该离子源的I-V特性、角电流密度、稳定性以及寿命等性能进行了测试。实验结果表明,该源的各项指标均达到了聚焦离子束系统的要求,并对影响源性能的因素进行了分析,从而为合理有效地设计液态金属离子源提供启示。 展开更多
关键词 聚焦离子 液态金属离子源 测试系统 发射特性
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用于聚焦离子束系统的离子源
18
作者 尚勇 赵环昱 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2011年第4期439-443,共5页
介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——... 介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——电子束离子源,并介绍了电子束离子源的基本原理,给出了设计参数、模拟结果(20kV的Ar+离子束,发射度约为5.8×10-5π.mm.mrad,束斑约为1μm)和初步的实验结果。 展开更多
关键词 聚焦离子束系统 液态金属离子源 气体场发射离子源 电子束离子源
原文传递
聚焦离子束(FIB)中的离子光学问题 被引量:1
19
作者 陈文雄 徐军 张解东 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期411-415,共5页
本文简要讨论了聚焦离子束中的离子光学问题 ,包括液态金属离子源的发射机制和发射特性 ,如虚源、角电流强度、能量分散、伏安特性、束流起伏、聚焦限制、离子束中的化学成分及源的寿命。讨论了离子光学柱体的组成与特征 ,束流一束径关... 本文简要讨论了聚焦离子束中的离子光学问题 ,包括液态金属离子源的发射机制和发射特性 ,如虚源、角电流强度、能量分散、伏安特性、束流起伏、聚焦限制、离子束中的化学成分及源的寿命。讨论了离子光学柱体的组成与特征 ,束流一束径关系 ,束中电流密度分布 ,以及空间电荷效应等。 展开更多
关键词 离子光学 聚焦离子 FIB 液态金属离子源 LMIS 静电透镜 空间电荷效应 发射机制
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可变束流二级透镜聚焦离子束系统的设计 被引量:1
20
作者 俞学东 毕建华 陆家和 《微细加工技术》 1994年第4期18-35,共18页
本文介绍了一种具有高速消隐和可变束流的二级透镜聚焦离子束(FIB)系统的设计原理和方法。在这种新的二级透镜FIB系统中,采用了束径束流的双工作模式和一种新的电可调无级可变束径束流方案,使二级系统既可用于需要大束流的T... 本文介绍了一种具有高速消隐和可变束流的二级透镜聚焦离子束(FIB)系统的设计原理和方法。在这种新的二级透镜FIB系统中,采用了束径束流的双工作模式和一种新的电可调无级可变束径束流方案,使二级系统既可用于需要大束流的TOF─SIMS和刻蚀粗加工,又可用于需要小束径的高分辨扫描离子显微镜和刻蚀精加工以及FIB暴光、变蚀等其它微细加工。设计中提出了逐级可测试性设计原则,解决了多级系统中对中调整和测试的困难。计算了透镜系统的离子光学性能和各种参数对束径束流的影响。最后对系统进行了初步的调试,束斑达到0.1μm,得到了预期的结果。 展开更多
关键词 聚焦离子 液态金属离子源 微细加工 透镜
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