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题名编程等离子体辅助化学蚀刻装置
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作者
周才品
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出处
《等离子体应用技术快报》
1998年第3期9-11,共3页
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关键词
等离子体蚀刻
半导体基片
可编程
蚀刻装置
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分类号
TN405.982
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名国外显示技术专利文摘
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作者
杜艺
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机构
彩虹集团彩管一厂
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出处
《显示器件技术》
2008年第4期47-52,共6页
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文摘
蚀刻液供应装置、蚀刻装置及蚀刻方法;定向膜的图形形成方法;等离子体显示面板;等离子体显示面板的点亮检查方法;用于等离子体显示面板的绿色磷光体和等离子体显示面板;
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关键词
专利文摘
显示技术
显示面板
等离子体
国外
蚀刻装置
形成方法
蚀刻液
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分类号
TN27
[电子电信—物理电子学]
G306
[文化科学]
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题名表面离子蚀刻装置
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作者
一弓
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出处
《等离子体应用技术快报》
1998年第6期10-11,共2页
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关键词
工件
大面积
等离子体蚀刻
蚀刻装置
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分类号
TN405.982
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名ECR装置
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作者
一弓
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出处
《等离子体应用技术快报》
1994年第12期8-9,共2页
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关键词
ECR装置
电子回旋共振
蚀刻装置
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名磁控管等离子体加工装置和等离子体蚀刻装置
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作者
未然
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出处
《等离子体应用技术快报》
1999年第2期12-14,共3页
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关键词
磁控管
等离子体加工
蚀刻装置
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分类号
TN405.982
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名亚微米孔径PET核孔膜生产工艺研究
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作者
张璐
肖德涛
吴振东
梁海英
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机构
南华大学核科学技术学院
中国原子能科学研究院
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出处
《南华大学学报（自然科学版）》
2014年第2期6-10,共5页
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文摘
为了得到优质的亚微米孔径PET微孔膜的生产方法,为它投入实际应用奠定基础,采用被中国原子能科学研究院HI-13串列加速器产生的32S轰击过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜,薄膜放置在空气中陈化三个月,在模拟生产条件下利用自主设计加工具有高精度温控的小型生产蚀刻装置,使用NaOH溶液对薄膜进行蚀刻处理,制备出孔径0.2至0.93μm的重离子微孔膜.研究添加表面活性剂和紫外线敏化以及蚀刻时间对孔型的影响.结果表明,紫外线敏化可以减小微孔锥角,紫外线敏化后再添加表面活性剂蚀刻可以消除孔锥角.在蚀刻出平均孔径为0.2至0.93μm核孔膜的前提下,得到了孔锥角与随着时间增加的变化趋势.
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关键词
核孔膜
生产蚀刻装置
紫外线敏化
表面活性剂
孔锥角
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Keywords
track etched membrane
producing device
UV sensitizition
surfactant
taper angle
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分类号
TB838
[一般工业技术—摄影技术]
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题名AMEC发布新型蚀刻与CVD设备
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出处
《集成电路应用》
2008年第1期14-14,共1页
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文摘
中微半导体设备（Advanced Micro-Fabfication Equipment．AMEC）12月正式发布了两款新产品：蚀刻装置“PrimoD—R1E”和CVD装置“Primo HPCVD”。AMEC称，两款产品均针对65nm及45nm工艺节点，比市场现有产品处理能力高出35％，因此成本理论上也可下降35％。
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关键词
蚀刻装置
CVD设备
产品处理
半导体设备
CVD装置
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分类号
TN405.982
[电子电信—微电子学与固体电子学]
TN405
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题名微尺度激光蚀刻装置为微型芯片电路刻制提供新思路
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出处
《光机电信息》
2008年第7期60-60,共1页
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文摘
就像利用聚光镜在太阳光下聚光一样的方式，普林斯顿大学的激光蚀刻系统几乎可以对所有东西的表面进行纳米级的阵列图案刻制。
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关键词
激光蚀刻
芯片电路
蚀刻装置
刻制
微尺度
微型
普林斯顿大学
聚光镜
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分类号
TG665
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
TP332
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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