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一种实现可控纳米定位沉积的探针修饰新方法 被引量：2
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作者 闫树华 李宾 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期237-240,共4页
报道了一种应用原子力显微镜(AFM)实现可控纳米定位沉积的探针修饰新方法。采用改进的AFM探针修饰方法—AFM系统控制的自动进针法—替代通常的将探针浸入"墨水"的直接蘸针法,可控制"墨水"吸附在探针的针尖末端,有... 报道了一种应用原子力显微镜(AFM)实现可控纳米定位沉积的探针修饰新方法。采用改进的AFM探针修饰方法—AFM系统控制的自动进针法—替代通常的将探针浸入"墨水"的直接蘸针法,可控制"墨水"吸附在探针的针尖末端,有效避免纳米点制造过程中非定位沉积的干扰。利用该方法修饰的探针可在DNA分子上可控制备氯化铜溶液纳米点阵,这为生物大分子的局部修饰、加工和改造提供有效途径。 展开更多
关键词 蘸笔纳米刻蚀技术 DNA 纳米点阵 探针修饰
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