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PG-510型单面抛光机的研制被引量：4: 1; 作者刘涛高慧莹 +1 位作者罗杨费玖海《电子工业专用设备》 2010年第8期11-15,19,共6页; 介绍了针对蓝宝石衬底表面纳米级抛光工艺而研制的PG-510单面抛光机的主要结构及其性能特点,简要论述了抛光过程中各工艺参数的控制方案,并通过实验验证了设备的主要性能指标,能够满足蓝宝石衬底表面纳米级抛光的工艺要求。; 关键词蓝宝石纳米级抛光 CMP工艺; 下载PDF 职称材料

超精密砷化镓晶片抛光机的研制被引量：1: 2; 作者徐敏师如华李明《机电产品开发与创新》 2013年第4期8-10,共3页; 化学机械抛光(CMP)技术作为目前唯一可提供在整个晶圆片上全面平坦化的工艺技术,已被越来越广泛地应用到了半导体领域。通过了解化学机械抛光(CMP)技术原理,分析出影响晶片抛光质量的主要因素基础上开发了超精密砷化镓晶片抛光机。重点... 展开更多; 关键词化学机械抛光(CMP) 纳米级抛光下压力温度控制; 下载PDF 职称材料

智能型纳米级抛光机的运动分析被引量：5: 3; 作者赵萍吕冰海 +3 位作者袁巨龙常敏赵文宏潘锋《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2003年第7期19-22,共4页; 分析了智能型纳米级抛光机运动的设计原理 ,使工件加工表面各点相对于抛光盘的抛光线速度相等 ,且工件表面各点运动轨迹不重复 ;提出了“低速起动—无级提速—恒速加工—低速修整—低速停止”的加工运动模式 ,采用光栅测量和微机控制技... 展开更多; 关键词智能型纳米级抛光机运动分析超精密抛光运行模式精度平面度; 下载PDF 职称材料

修正环型纳米级超精密抛光机智能控制系统的实现被引量：4: 4; 作者赵文宏黄文君 +2 位作者冯冬芹褚健袁巨龙《机电工程》 CAS 2003年第3期38-41,共4页; 针对现阶段抛光加工存在精度低、产品质量一致性差、成品率及生产效率低等问题 ,提出了一种适于高精度、高效率抛光加工的智能控制系统。; 关键词修正环型纳米级超精密抛光机智能控制系统抛光加工金属抛光; 下载PDF 职称材料

纳米级超精密抛光机控制系统的研制被引量：2: 5; 作者赵文宏袁巨龙 +1 位作者邓凌卢小慧《测控技术》 CSCD 2002年第7期39-42,共4页; 简述超精密加工技术现状 ,介绍超精密平面抛光机的工作原理 ,分析达到纳米级超精密抛光的技术难点 ,并阐述了纳米级超精密抛光智能控制系统的实现。; 关键词纳米级超精密抛光机控制系统电子元件加工; 下载PDF 职称材料

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