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间歇供N_2闭炉的纯氮离子渗氮工艺
1
作者
钟厉
韩西
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期22-25,共4页
基于纯N2 离解产生活性氮原子能量条件的基本理论和纯氮离子渗氮模型 ,研究了间歇供N2 闭炉纯氮离子渗氮新工艺以实现纯氮代替氨或氮 氢的离子渗氮。通过对渗氮层显微组织、相组成和硬度梯度的测定与分析 ,对纯氮离子渗氮工艺中N2 分...
基于纯N2 离解产生活性氮原子能量条件的基本理论和纯氮离子渗氮模型 ,研究了间歇供N2 闭炉纯氮离子渗氮新工艺以实现纯氮代替氨或氮 氢的离子渗氮。通过对渗氮层显微组织、相组成和硬度梯度的测定与分析 ,对纯氮离子渗氮工艺中N2 分子临界离解能进行了理论计算和试验验证。结果表明 ,纯氮离子渗氮存在电压门槛值 ,只有在 70 0V左右的高电压下 ,并且采用间歇供N2 闭炉方式进行离子渗氮 ,才能产生明显的渗氮效果。在相同的渗氮时间里 ,间歇供N2 闭炉的纯氮离子渗氮可获得比常规纯氨离子渗氮更好的渗氮效果.
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关键词
纯
氮
离子渗氮
工艺
间歇供
氮
闭炉
活性
氮
原子
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职称材料
题名
间歇供N_2闭炉的纯氮离子渗氮工艺
1
作者
钟厉
韩西
机构
重庆交通学院机电学院
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期22-25,共4页
基金
重庆市科委应用基础研究项目 ( 2 0 0 0 -60 82 )
文摘
基于纯N2 离解产生活性氮原子能量条件的基本理论和纯氮离子渗氮模型 ,研究了间歇供N2 闭炉纯氮离子渗氮新工艺以实现纯氮代替氨或氮 氢的离子渗氮。通过对渗氮层显微组织、相组成和硬度梯度的测定与分析 ,对纯氮离子渗氮工艺中N2 分子临界离解能进行了理论计算和试验验证。结果表明 ,纯氮离子渗氮存在电压门槛值 ,只有在 70 0V左右的高电压下 ,并且采用间歇供N2 闭炉方式进行离子渗氮 ,才能产生明显的渗氮效果。在相同的渗氮时间里 ,间歇供N2 闭炉的纯氮离子渗氮可获得比常规纯氨离子渗氮更好的渗氮效果.
关键词
纯
氮
离子渗氮
工艺
间歇供
氮
闭炉
活性
氮
原子
Keywords
ion nitriding with pure nitrogen
N_2 provided intermittently
furnace shut
active nitrogen atom
分类号
TG156.82 [金属学及工艺—热处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
间歇供N_2闭炉的纯氮离子渗氮工艺
钟厉
韩西
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2004
0
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