TN256 99021067制备波导光栅的相位掩模技术=Fabricating ofwaveguide grating by phase mask technique[刊,中]/马少杰,李燕,徐迈,林久令(中科院长春物理所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1998,19(1).—77-79采用体相位掩模板的方法...TN256 99021067制备波导光栅的相位掩模技术=Fabricating ofwaveguide grating by phase mask technique[刊,中]/马少杰,李燕,徐迈,林久令(中科院长春物理所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1998,19(1).—77-79采用体相位掩模板的方法制备了光波导光栅。用该方法可制备光波导耦合器件,并获得较高的耦合效率。图3参5(常唯)TN256 99021068集成光学亚微米光栅的原子力显微镜表征=Characterisationof submicrometer gratings for integratedoptics by a atomic-force-microscope[刊,中]/李燕,徐迈(中科院长春物理所.吉林,长春(130023)),张玉书(集成光电子学国家重点实验室.吉林,长春(130023))//发光学报.—1998,19(1).—80-81利用常规微电子设备掩模,通过全息曝光和离子蚀刻技术制备出不同材料,不同结构的多种波导光栅器件。采用单台原子力显微镜。展开更多
文摘TN256 99021067制备波导光栅的相位掩模技术=Fabricating ofwaveguide grating by phase mask technique[刊,中]/马少杰,李燕,徐迈,林久令(中科院长春物理所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1998,19(1).—77-79采用体相位掩模板的方法制备了光波导光栅。用该方法可制备光波导耦合器件,并获得较高的耦合效率。图3参5(常唯)TN256 99021068集成光学亚微米光栅的原子力显微镜表征=Characterisationof submicrometer gratings for integratedoptics by a atomic-force-microscope[刊,中]/李燕,徐迈(中科院长春物理所.吉林,长春(130023)),张玉书(集成光电子学国家重点实验室.吉林,长春(130023))//发光学报.—1998,19(1).—80-81利用常规微电子设备掩模,通过全息曝光和离子蚀刻技术制备出不同材料,不同结构的多种波导光栅器件。采用单台原子力显微镜。
