-
题名氮氩流量比对玻璃基TiN薄膜的结构和硬度的影响
- 1
-
-
作者
顾宝宝
赵青南
刘旭
罗乐平
丛芳玲
赵修建
-
机构
武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室
江苏秀强玻璃工艺股份有限公司
-
出处
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第12期4076-4081,共6页
-
基金
湖北省重大科技创新计划项目(2013AAA005)
-
文摘
采用直流磁控溅射镀膜工艺,在不同的氮氩流量比条件下,制备了玻璃基Ti N薄膜。通过X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（SEM、EDS）、纳米显微硬度仪,研究了Ti N薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、元素成份、维氏硬度,分析了氮氩流量比对Ti N薄膜结晶取向、硬度的影响机理。结果表明,在低的氮氩流量比条件下,Ti N薄膜以（111）晶面择优取向;随着氮氩流量比增加,择优取向由（111）晶面向（200）晶面过渡;氮氩流量比为1∶2时薄膜以（200）晶面择优取向;继续增加氮氩流量比（1∶2~2∶1）,Ti N薄膜衍射峰强度降低,晶粒尺寸减小;当氮氩流量比增加到2∶1时,薄膜开始呈现非晶态。随着氮氩流量比的增加,薄膜硬度呈现先增加后减小的趋势;当氮氩流量比为1∶1时,Ti N薄膜以（200）晶面择优取向结晶,组织致密均匀,晶粒尺寸最小,具有最大的硬度值（825 HV）,相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了20.44%。
-
关键词
磁控溅射
玻璃基ti
N薄膜
硬度
氮氩流量比
-
Keywords
magnetron sputtering
tiN films deposited the glass substrate
hardness
flow ratio of N2/Ar
-
分类号
O484
[理学—固体物理]
-
