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题名Si基Si_3N_4弹性膜独立多探针的制作
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作者
原作兰
刘淑杰
张元良
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机构
大连理工大学机械工程学院
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出处
《微纳电子技术》
北大核心
2016年第8期541-546,551,共7页
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基金
国家自然科学基金青年项目(51205043)
高等学校博士学科点专项科研基金新教师基金资助项目(20120041120033)
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文摘
针对广域光-接触多探针方法测量光刻胶表面形貌的需要,设计制作了Si基Si_3N_4弹性膜独立多探针,该探针呈9×9二维阵列分布。先利用ANSYS有限元软件分析探针Si_3N_4弹性薄膜的厚度和面积尺寸对探针测量范围的影响规律,得到了优化的几何参数。然后基于仿真结果,运用微机电系统(MEMS)技术中的硅基工艺、薄膜工艺和光刻工艺完成了多探针硅杯的腐蚀、弹性薄膜的沉积及SU-8胶质探针的制作,制备出独立多探针。初步测量Si基Si_3N_4弹性膜独立多探针单元的各项参数表明:Si_3N_4弹性膜的长度平均值为399.4μm,最大偏差为1.8%;SU-8胶质探针的尺寸为Φ99.1μm×27.8μm,最大偏差分别为1.9%和9.8%;探针间的平均距离为1.500 6 mm,最大偏差为0.6%。该探针的结构设计合理,制作工艺可行,可以用于大范围、快速测量方法。
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关键词
独立多探针
微电子机械系统(MEMS)
广域测量
SU-8探针
Si3N4弹性薄膜
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Keywords
independent multi-probe
micro-electromechanical system（MEMS）
wide-area measurement
SU-8 probe
Si3N4 elastic film
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分类号
TH703
[机械工程—仪器科学与技术]
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