平均混合偏差下混水平设计的均匀性 被引量：1

1

作者 刘佳琦 王康 李洪毅 《系统科学与数学》 CSCD 北大核心 2021年第3期875-886,共12页

基于因子的水平置换方法讨论了混水平设计在平均混合偏差准则下的均匀性,得到了平均混合偏差的一个新下界,并研究了其所有水平置换设计的平均混合偏差与广义字长型之间的解析联系.从数值结果上表明该下界是可达的,且利用投影的方式可获... 基于因子的水平置换方法讨论了混水平设计在平均混合偏差准则下的均匀性,得到了平均混合偏差的一个新下界,并研究了其所有水平置换设计的平均混合偏差与广义字长型之间的解析联系.从数值结果上表明该下界是可达的,且利用投影的方式可获得平均混合偏差下高效率的混水平设计. 展开更多

关键词 水平置换 混水平设计 平均混合偏差 广义字长型

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二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性

2

作者 胡柳平 刘佳琦 +1 位作者 王康 欧祖军 《吉首大学学报（自然科学版）》 CAS 2018年第2期13-16,共4页

讨论了二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性,并给出了Lee偏差的一个下界,该下界可以作为搜索Lee偏差下二四混水平均匀设计的一个基准.

关键词 混水平设计 U型设计 均匀设计 Lee偏差 下界

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二三混水平设计可卷型L_(2)-偏差的新下界

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作者 王治清 罗彪 欧祖军 《吉首大学学报（自然科学版）》 CAS 2021年第2期26-30,64,共6页

研究了二三混水平设计在可卷型L_(2)-偏差下的均匀性,获得了可卷型L_(2)-偏差的一个新的下界.

关键词 均匀设计 混水平设计 可卷型L_(2)偏差 下界

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2^((n1+n2)(k1+k2))4~2混合水平裂区设计包含纯净效应的条件

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作者 刘文娟 赵胜利 《中国科学：数学》 CSCD 北大核心 2013年第1期75-90,共16页

混水平部分因析裂区设计在各类试验中有广泛应用.在三因子及更高阶交互作用可以忽略这一很弱的假设下,试验者可以得到纯净主效应或者纯净两因子交互作用成分的无偏估计.本文给出了含有两个四水平因子和若干二水平因子的混水平裂区设计... 混水平部分因析裂区设计在各类试验中有广泛应用.在三因子及更高阶交互作用可以忽略这一很弱的假设下,试验者可以得到纯净主效应或者纯净两因子交互作用成分的无偏估计.本文给出了含有两个四水平因子和若干二水平因子的混水平裂区设计包含各类纯净主效应或者纯净两因子交互作用成分的条件以及构造相应设计的方法. 展开更多

关键词 混水平设计 纯净两因子交互作用成分 分辨度 全区因子 子区因子

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8×4×2~n设计纯净两因子交互作用成分最大数的界

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作者 赵倩倩 赵胜利 《数学学报（中文版）》 CSCD 北大核心 2017年第6期993-1002,共10页

混水平部分因析设计在各类试验中有广泛应用.纯净效应准则是用于选取最优部分因析设计的重要准则之一.本文考虑含有一个八水平因子、一个四水平因子和若干二水平因子的8×4×2~n混水平设计,给出了分辨度为Ⅲ和Ⅳ的该类混水平设... 混水平部分因析设计在各类试验中有广泛应用.纯净效应准则是用于选取最优部分因析设计的重要准则之一.本文考虑含有一个八水平因子、一个四水平因子和若干二水平因子的8×4×2~n混水平设计,给出了分辨度为Ⅲ和Ⅳ的该类混水平设计包含纯净两因子交互作用成分最大数的上界和下界.下界通过构造特定设计而得到. 展开更多

关键词 纯净效应 混水平设计 分辨度 两因子交互作用成分

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二五混水平U型设计的Lee偏差下界

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作者 李伟 汪政红 《中南民族大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2023年第4期571-576,共6页

研究了二五混水平U型设计在Lee偏差下的均匀性,利用两种不同的新方法,即CHATTERJEE和HU的方法得到了二五混水平U型设计的两个下界,并将它们综合成一个下界,同时以数值实例验证了该综合下界是紧的,且优于以往文献中的下界.

关键词 Lee偏差 二五混水平设计 U型设计 下界

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Lee偏差下二三混水平因子设计的最优添加 被引量：1

7

作者 勾廷勋 覃红 Kashinath Chatterjee 《中国科学：数学》 CSCD 北大核心 2020年第5期599-612,共14页

根据序贯试验通过一个阶段试验接着另一个阶段试验不断扩充的特征,新的试验点将会被添加到已经选好的设计中,因此,如何设计一个好的序贯试验是一个非常有意义的问题.在Lee偏差度量下,本文研究均匀的非对称拓展设计,并用它来做序贯试验.... 根据序贯试验通过一个阶段试验接着另一个阶段试验不断扩充的特征,新的试验点将会被添加到已经选好的设计中,因此,如何设计一个好的序贯试验是一个非常有意义的问题.在Lee偏差度量下,本文研究均匀的非对称拓展设计,并用它来做序贯试验.本文建立二三混水平拓展设计的Lee偏差与其初始设计和附加设计的Lee偏差之间的解析关系,为构造(近似)均匀的拓展设计提供了理论支撑.为了给出筛选、评价拓展设计的准则,本文给出拓展设计Lee偏差的下界.此外,还通过一些数值例子来进一步说明、解释本文的理论结果. 展开更多

关键词 均匀性 二三混水平设计 拓展设计 序贯试验

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互补设计在Lee偏差下的均匀性 被引量：2

8

作者 李洪毅 欧祖军 《华中师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期1-5,共5页

针对两类特殊的二、三混水平部分因子设计d=(D■),在适当的划分下分别给出了互补设计的Lee偏差与子设计D()的广义字长型和均匀性模式的解析关系,同时给出了Lee偏差的下界,最后通过两个例子来验证其结论.

关键词 互补设计 Lee偏差 混水平因子设计 均匀设计

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二三混水平因子设计离散偏差新的下界

9

作者 李洪毅 欧祖军 黎奇升 《福州大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2016年第3期375-378,共4页

离散偏差经常用来衡量部分因子设计的均匀性,偏差的准确下界可以检验给定设计的均匀程度.基于现有的离散偏差的公式,讨论了二、三混水平设计离散偏差的下界问题,并利用泰勒展开的方法给出一个新的下界.与已有的下界相比,所给出的下界在... 离散偏差经常用来衡量部分因子设计的均匀性,偏差的准确下界可以检验给定设计的均匀程度.基于现有的离散偏差的公式,讨论了二、三混水平设计离散偏差的下界问题,并利用泰勒展开的方法给出一个新的下界.与已有的下界相比,所给出的下界在某些设计中更精确. 展开更多

关键词 均匀设计 U型设计 混水平因子设计 离散偏差 下界 泰勒展式

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互补设计在广义离散偏差下的均匀性

10

作者 李洪毅 黎奇升 欧祖军 《华中师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2015年第4期492-496,共5页

针对一类特殊的二、三混水平部分因子设计d=(D■D),在适当的划分下分别给出了互补设计的广义离散偏差与子设计D(D)的广义字长型及均匀性模式的解析关系,同时给出了互补设计的广义离散偏差的下界,最后通过例子来验证其结论.

关键词 互补设计 广义离散偏差 混水平因子设计 均匀设计

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混水平饱和正交设计在广义离散偏差下的均匀性

11

作者 李洪毅 欧祖军 黎奇升 《福州大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2016年第3期368-374,共7页

针对二、三混水平饱和正交设计d,在适当的划分下d=(D:),给出设计d的广义离散偏差与子设计D()的广义字长型及均匀性模式的解析关系.同时,给出这类因子设计的广义离散偏差的下界.最后,通过例子来验证其结论.

关键词 混水平饱和正交设计 广义离散偏差 广义字长型 均匀性模式

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