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正电子深能级瞬态谱在Ga As缺陷研究中的应用
被引量：
4
1
作者
张英杰
邓爱红
+4 位作者
幸浩洋
龙娟娟
喻菁
于鑫翔
程祥
《四川大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第3期586-590,共5页
本文介绍的正电子深能级瞬态谱（PDLTS）技术是结合了对固体缺陷有很高灵敏度的正电子湮没谱（PAS）和一些深能级瞬态谱（DLTS）技术而成新的实验方法．该技术能用来研究Ⅲ～Ⅴ，Ⅱ～Ⅵ族等半导体材料的缺陷特征，它的优点不仅能研究半...
本文介绍的正电子深能级瞬态谱（PDLTS）技术是结合了对固体缺陷有很高灵敏度的正电子湮没谱（PAS）和一些深能级瞬态谱（DLTS）技术而成新的实验方法．该技术能用来研究Ⅲ～Ⅴ，Ⅱ～Ⅵ族等半导体材料的缺陷特征，它的优点不仅能研究半导体材料中缺陷的电学特征而且还能够同时揭示这些电活性缺陷的微观结构信息．本文将介绍砷化镓中EL2缺陷能级的PDLTS研究，运用该技术并结合深能级Arrhenius分析，得到EL2能级值为0．82±0．02eV．
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关键词
正电子
半导体
深
能级
瞬态
谱
(DLTS)
正电子
深
能级
瞬态
谱
(
pdlts
)
原文传递
题名
正电子深能级瞬态谱在Ga As缺陷研究中的应用
被引量：
4
1
作者
张英杰
邓爱红
幸浩洋
龙娟娟
喻菁
于鑫翔
程祥
机构
四川大学物理学院应用物理系
出处
《四川大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第3期586-590,共5页
基金
国家自然科学基金(10775102)
文摘
本文介绍的正电子深能级瞬态谱（PDLTS）技术是结合了对固体缺陷有很高灵敏度的正电子湮没谱（PAS）和一些深能级瞬态谱（DLTS）技术而成新的实验方法．该技术能用来研究Ⅲ～Ⅴ，Ⅱ～Ⅵ族等半导体材料的缺陷特征，它的优点不仅能研究半导体材料中缺陷的电学特征而且还能够同时揭示这些电活性缺陷的微观结构信息．本文将介绍砷化镓中EL2缺陷能级的PDLTS研究，运用该技术并结合深能级Arrhenius分析，得到EL2能级值为0．82±0．02eV．
关键词
正电子
半导体
深
能级
瞬态
谱
(DLTS)
正电子
深
能级
瞬态
谱
(
pdlts
)
Keywords
positron, semiconductor, DLTS,
pdlts
（positron deep level transient spectroscopy）
分类号
O571.23 [理学—粒子物理与原子核物理]
O472 [理学—物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
正电子深能级瞬态谱在Ga As缺陷研究中的应用
张英杰
邓爱红
幸浩洋
龙娟娟
喻菁
于鑫翔
程祥
《四川大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2008
4
原文传递
已选择
0
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参考文献
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