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Interfacial reactions between Sn-2.5Ag-2.0Ni solder and electroless Ni(P) deposited on SiC_p/Al composites 被引量:3
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作者 吴茂 曲选辉 +3 位作者 何新波 Rafi-ud-din 任淑彬 秦明礼 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第6期958-965,共8页
A novel Sn-2.5Ag-2.0Ni alloy was used for soldering SiCp/Al composites substrate deposited with electroless Ni(5%P) (mass fraction)and Ni(10%P)(mass fraction)layers.It is observed that variation of P contents in the e... A novel Sn-2.5Ag-2.0Ni alloy was used for soldering SiCp/Al composites substrate deposited with electroless Ni(5%P) (mass fraction)and Ni(10%P)(mass fraction)layers.It is observed that variation of P contents in the electroless Ni(P)layer results in different types of microstructures of SnAgNi/Ni(P)solder joint.The morphology of Ni3Sn4 intermetallic compounds(IMCs)formed between the solder and Ni(10%P)layer is observed to be needle-like and this shape provides high speed diffusion channels for Ni to diffuse into solder that culminates in high growth rate of Ni3Sn4.The diffusion of Ni into solder furthermore results in the formation of Kirkendall voids at the interface of Ni(P)layer and SiCp/Al composites substrate.It is observed that solder reliability is degraded by the formation of Ni2SnP,P rich Ni layer and Kirkendall voids.The compact Ni3Sn4 IMC layer in Ni(5%P)solder joint prevents Ni element from diffusing into solder,resulting in a low growth rate of Ni3Sn4 layer.Meanwhile,the formation of Ni2SnP that significantly affects the reliability of solder joints is suppressed by the low P content Ni(5%P)layer.Thus,shear strength of Ni(5%P) solder joint is concluded to be higher than that of Ni(10%P)solder joint.Growth of Ni3Sn4 IMC layer and formation of crack are accounted to be the major sources of the failure of Ni(5%P)solder joint. 展开更多
关键词 SnAgNi solder electroless Ni(P) SiCp/Al composites intermetallic compound interfacial reaction
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喷油器喷孔加工及测量技术 被引量:2
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作者 王爱民 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2011年第10期104-108,共5页
重点介绍国外激光钻喷孔及无电镀镍(ENP)技术加工喷孔的情况,介绍了多传感器测量喷孔的最新技术。为满足欧6排放法规的喷油器喷孔的加工与测量提供了重要的方法与借鉴。
关键词 喷孔 激光钻孔 镀镍 多传感器测量
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利用无电镀金实现微结构金属化的技术
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作者 杨波 李志宏 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2007年第4期347-350,共4页
无电镀是金属化的一种重要手段,具有成本低、保形性好、简单易操作等特点.在以前报道的MEMS结构无电镀金属化过程中,金属和硅结构会全部被金属化,难以形成复杂结构的局部选择性金属化.为此,采用一种商用无氰配方无电镀金溶液,通过两步... 无电镀是金属化的一种重要手段,具有成本低、保形性好、简单易操作等特点.在以前报道的MEMS结构无电镀金属化过程中,金属和硅结构会全部被金属化,难以形成复杂结构的局部选择性金属化.为此,采用一种商用无氰配方无电镀金溶液,通过两步无电镀方法,控制实验样品的激活时间、水浴温度等条件和两步镀覆的时间,使用无电镀镍作为中间层,实现了在特定材料层上的无电镀金;其针孔密度低,表面平整度较好,具有高的选择性,为高性能器件的研制打下了基础. 展开更多
关键词 镀金 选择性 金属化 氰镀液 镀镍 激活液
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有关半导体制造中钯的运用:用于铜上的无电镀镍沉积物的钯催化剂
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作者 Wan Tatt Wai 《中国集成电路》 2013年第8期58-62,共5页
1 引言 钯(Pd)是一种稀有的带光泽的银白金属,是铂族金属(PGM)中的一种元素,同时也是一种贵重金属,作为有害气体的催化转化器已得到广泛运用,例如将废气系统中的碳氢化合物快速转化成水和二氧化碳。钯还具有十分明显的催化特... 1 引言 钯(Pd)是一种稀有的带光泽的银白金属,是铂族金属(PGM)中的一种元素,同时也是一种贵重金属,作为有害气体的催化转化器已得到广泛运用,例如将废气系统中的碳氢化合物快速转化成水和二氧化碳。钯还具有十分明显的催化特性,被运用于化学湿式转化中的各种应用中。在对钯进行了越来越多的研究后,科学家发现。 展开更多
关键词 钯催化剂 半导体制造 镀镍 沉积物 催化转化器 铂族金属 碳氢化合物 贵重金属
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稀H_2SO_4液滴对PCB初期腐蚀行为的影响 被引量:6
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作者 丁康康 肖葵 +3 位作者 邹士文 董超芳 李昊然 李晓刚 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期2565-2575,共11页
采用交流阻抗谱(EIS)和扫描Kelvin探针(SKP)技术研究4种表面工艺处理印制电路板(PCB)试样在不同pH值稀H2SO4液滴下的腐蚀行为,通过体视学显微镜和扫描电镜结合能谱对PCB上液滴扩展和腐蚀行为进行观察分析。结果表明:覆铜板(PCB-Cu)在液... 采用交流阻抗谱(EIS)和扫描Kelvin探针(SKP)技术研究4种表面工艺处理印制电路板(PCB)试样在不同pH值稀H2SO4液滴下的腐蚀行为,通过体视学显微镜和扫描电镜结合能谱对PCB上液滴扩展和腐蚀行为进行观察分析。结果表明:覆铜板(PCB-Cu)在液滴作用下发生全面腐蚀;无电镀镍金处理电路板(PCB-ENIG)主要为微孔腐蚀,腐蚀微孔数目由液滴边缘向液滴中心区域逐渐递减,而化学浸银处理电路板(PCB-ImAg)的腐蚀仅局限于液滴边缘,两者基底金属均发生了不同程度的腐蚀;热风整平无铅喷锡板(PCB-HASL)的腐蚀最轻微。结合EIS和SKP分析表明:稀H2SO4能够活化液滴作用区域,增大试样表面电位差,从而促进试样腐蚀;整体上,PCB-ENIG试样的耐蚀防护性能略优于PCB-ImAg试样的,PCB-HASL的最优。 展开更多
关键词 覆铜板 镀镍 化学浸银 稀H2SO4 DILUTE H2SO4
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CMOS影像感应器构装——湿式无电镀镍沉积技术之最佳化 被引量:1
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作者 许明哲 余智林 +2 位作者 詹印丰 颜锡鸿 黄子馨 《电子工业专用设备》 2010年第6期27-33,共7页
无电镀镍金(ElectrolessNickel&ImmersionGold;简称ENIG)沉积可以选择性地沉积于铝垫,由于此技术不必使用高成本之光阻微影制程,也不需真空溅镀制程,它可以降低制造成本。然而在实际制造大量生产时,常常面临到化学镀液很难控制之问... 无电镀镍金(ElectrolessNickel&ImmersionGold;简称ENIG)沉积可以选择性地沉积于铝垫,由于此技术不必使用高成本之光阻微影制程,也不需真空溅镀制程,它可以降低制造成本。然而在实际制造大量生产时,常常面临到化学镀液很难控制之问题。经由精密控制其化学镀液中之一些重要参数,例如温度、pH值、还原剂、镍及稳定剂浓度等,可以明显提高制程性能,以满足量产需求。 展开更多
关键词 镀镍 附着层 扩散阻障层 湿润层 焊锡印刷
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无电镀镍复合镀层耐蚀性质研究
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作者 杨聪仁 周孟锋 谢淑惠 《电化学》 CAS CSCD 2001年第2期203-209,共7页
研究无电镀镍镀层加入钻石微粒或PTFE微粒的均匀分散相 ,所得之复合镀层在 3.5%NaCl水溶液中的电化学分析 ,浸渍试验与临雾试验 ,皆显示复合镀层之耐蚀性低于不含微粒之无电镀镍镀层 .由SEM ,AES ,XRD ,EPMA分析镀层微观组成 ,复合镀层... 研究无电镀镍镀层加入钻石微粒或PTFE微粒的均匀分散相 ,所得之复合镀层在 3.5%NaCl水溶液中的电化学分析 ,浸渍试验与临雾试验 ,皆显示复合镀层之耐蚀性低于不含微粒之无电镀镍镀层 .由SEM ,AES ,XRD ,EPMA分析镀层微观组成 ,复合镀层之磷含量分布呈差异性变化 ,磷量较多区域为微阴极 ,磷量较少区域为微阳极 ,复合镀层存在众多微电池组合 ,容易引起电化学伽凡尼腐蚀 ,造成复合镀层耐蚀性降低 ,当镀层微粒含量增加时 ,微粒的惰性保护效果超过微电池效应 。 展开更多
关键词 镀镍复合镀层 钻石微粒 PTFE 耐蚀性 腐蚀 化学
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CMOS影像感应器构装——湿式无电镀镍沉积技术之最佳化
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作者 许明哲 余智林 +2 位作者 詹印丰 颜锡鸿 黄子馨 《电子工业专用设备》 2009年第12期1-6,19,共7页
无电镀镍金(Electroless Nickel & Immersion Gold;简称ENIG)沉积可以选择性地沉积于铝垫,由于此技术不必使用高成本之光阻微影制程,也不需真空溅镀制程,它可以降低制造成本。然而在实际制造大量生产时,常常面临到化学镀液很难控制... 无电镀镍金(Electroless Nickel & Immersion Gold;简称ENIG)沉积可以选择性地沉积于铝垫,由于此技术不必使用高成本之光阻微影制程,也不需真空溅镀制程,它可以降低制造成本。然而在实际制造大量生产时,常常面临到化学镀液很难控制之问题。经由精密控制其化学镀液中之一些重要参数,例如温度、pH值、还原剂、镍及稳定剂浓度等,可以明显提高制程性能,以满足量产需求。 展开更多
关键词 镀镍 锡铅凸块 附着层 扩散阻障层 湿润层 焊锡印刷 凸块底下金属层 二次锌活化处理
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