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氰化镀锌和无氰碱性锌酸盐镀锌通用光亮剂的研究 被引量：9
1
作者 左正忠 侯润香 +4 位作者 李卫东 陶腾峰 王汉玉 李再亮 孙延军 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 1997年第5期1-3,共3页
介绍了一种新的碱性镀锌通用型光亮剂（WD928）．可用于氰化物镀锌以及无氰碱性镀锌液中。使用时，镀液的基本成分和条件是：ZnO1I～45g／L，NaOH100～150g／LNaCN0－80g/L，WD9288～10ml／L，t=0～45℃，D、D_k=0．5～60A／dm^2，还讨... 介绍了一种新的碱性镀锌通用型光亮剂（WD928）．可用于氰化物镀锌以及无氰碱性镀锌液中。使用时，镀液的基本成分和条件是：ZnO1I～45g／L，NaOH100～150g／LNaCN0－80g/L，WD9288～10ml／L，t=0～45℃，D、D_k=0．5～60A／dm^2，还讨论了溶液中NaOH的浓渡对镀液的性能和镀层质量的影响。 展开更多
关键词 镀锌 氰化物溶液 无氰溶液 光亮剂 电镀 锌酸盐
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化学镀银工艺的溶液配制及应用 被引量：2
2
作者 田文慧 汪忠清 《湖北化工》 1999年第1期25-26,共2页
阐述了一种常温常压条件下使用的化学无氰镀银工艺的溶液配制方法及镀银原理和操作过程。
关键词 无氰溶液 化学镀 刷镀 镀银 电镀 镀液
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大面积无氰电刷镀银工艺
3
作者 费敬银 周爱梅 《电刷镀技术》 1994年第3期15-17,共3页
关键词 刷镀 无氰溶液 镀银 钛材
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电缆铜线无氰镀银代替氰化镀银的问题与难点
4
作者 赵俊 王清华 +1 位作者 曹永成 朱立群 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2023年第7期84-89,共6页
针对电缆铜线使用的氰化物高速连续电镀银工艺生产安全管理压力大,采用无氰镀银工艺是大势所趋的发展现状,探讨了电缆铜线高速无氰镀银工艺的基本特性和注意事项,以解决无氰镀银工艺在铜线高速连续镀银生产方面存在的一些困难与问题(如... 针对电缆铜线使用的氰化物高速连续电镀银工艺生产安全管理压力大,采用无氰镀银工艺是大势所趋的发展现状,探讨了电缆铜线高速无氰镀银工艺的基本特性和注意事项,以解决无氰镀银工艺在铜线高速连续镀银生产方面存在的一些困难与问题(如溶液稳定性等)。根据目前报道的一些典型无氰镀银工艺的特点,提出了电缆铜线无氰电镀银代替氰化镀银中可能存在的问题、技术难点以及今后的研发方向等,为后续的电缆铜线高速连续无氰电镀银代替目前应用的氰化镀银工艺打下技术基础。 展开更多
关键词 电缆铜线 氰化镀银 无氰镀银溶液 高速连续沉积
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一种无氰碱性光亮镀铜新工艺 被引量：2
5
作者 宋文超 李玉梁 +2 位作者 左正忠 熊剑锋 胡哲 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期55-57,61,共4页
为了解决无氰碱性镀铜存在的镀液不稳定、抗杂质能力弱、与工件间结合力差以及镀液排放的废水中含有磷或有机膦等问题,推出了一种新的无氰碱性光亮镀铜新工艺:以柠檬酸(C6H8O7)为Cu2+的主配位剂、丁二酰亚胺(C4H5O2N)为Cu2+的辅助配位剂... 为了解决无氰碱性镀铜存在的镀液不稳定、抗杂质能力弱、与工件间结合力差以及镀液排放的废水中含有磷或有机膦等问题,推出了一种新的无氰碱性光亮镀铜新工艺:以柠檬酸(C6H8O7)为Cu2+的主配位剂、丁二酰亚胺(C4H5O2N)为Cu2+的辅助配位剂;使用了超分子化学物质葫芦脲(CB-n)作为防止铜在钢铁件上产生置换的添加剂以及含有聚氨脲、吲哚类、乙氧基醇类等物质的光亮剂。通过小槽试验、Hull Cell试验、阴极极化曲线、机械弯曲、锉刀等方法考察了电镀效果。结果表明:镀液的性能稳定,可得到阴极电流效率在70%~85%、深镀能力为100%的光亮、均匀、结合力好的铜镀层;推荐的溶液组成和操作条件为25~30 g/L Cu SO_4·5H_2O,75~90 g/L C6H8O7,8~10 g/L C4H5O2N,2~5 g/L KNa C4H4O6·4H2O,25~30 g/L H3BO3,90~120 g/L KOH,0.01~0.05mg/L化学置换铜抑制剂CB-n,8~20 m L/L光亮剂,p H值9.0~11.0,Jc=0.2~3.0 A/dm2,温度45~55℃,阳极为纯铜。 展开更多
关键词 镀铜 无氰碱性溶液 柠檬酸 丁二酰亚胺 葫芦脲 光亮剂
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无氰碱性镀锌溶液中锌的分析方法 被引量：10
6
作者 郭崇武 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2015年第1期42-43,共2页
制定了测定无氰碱性镀锌溶液中锌质量浓度的新方法。在p H=10的条件下用三乙醇胺掩蔽镀液中的铁和铝杂质,以铬黑T作指示剂,用EDTA标准滴定溶液滴定锌。实验表明,方法的相对平均偏差为0.2%,回收率为99.12%。与以氰化钾作掩蔽剂的测定方... 制定了测定无氰碱性镀锌溶液中锌质量浓度的新方法。在p H=10的条件下用三乙醇胺掩蔽镀液中的铁和铝杂质,以铬黑T作指示剂,用EDTA标准滴定溶液滴定锌。实验表明,方法的相对平均偏差为0.2%,回收率为99.12%。与以氰化钾作掩蔽剂的测定方法相比,该方法简单,操作安全,无污染。 展开更多
关键词 无氰碱性镀锌溶液 锌质量浓度 三乙醇胺 掩蔽剂 EDTA容量法
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氯化钾无氰镀镉溶液中铜杂质的分析 被引量：7
7
作者 陈媚 郭崇武 黎小阳 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期169-170,共2页
利用铜离子与双环己酮草酰二腙的特效显色反应,制定了测定氯化钾无氰镀镉溶液中铜杂质的分光光度法。在加热和强酸性条件下用过硫酸铵氧化镀液中的配位剂,用甲酸铵还原残留的过硫酸铵,用酒石酸钾钠配合镀液中的镉离子以及铝、铁、镍、... 利用铜离子与双环己酮草酰二腙的特效显色反应,制定了测定氯化钾无氰镀镉溶液中铜杂质的分光光度法。在加热和强酸性条件下用过硫酸铵氧化镀液中的配位剂,用甲酸铵还原残留的过硫酸铵,用酒石酸钾钠配合镀液中的镉离子以及铝、铁、镍、锌等杂质,用氨水调节pH至弱碱性,用双环己酮草酰二腙与铜离子反应生成蓝色配合物,以水做参比液,在波长600 nm处测定吸光度。测定结果的相对平均偏差为0.65%,回收率为98.5%~101.2%。 展开更多
关键词 无氰镀镉溶液 铜杂质 双环己酮草酰二腙 分光光度法
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钛铁试剂分光光度法测定氯化钾无氰镀镉溶液中的铁杂质 被引量：7
8
作者 郭崇武 陈建锐 李小花 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2017年第24期1325-1326,共2页
利用铁离子与钛铁试剂(即邻苯二酚-3,5-二磺酸钠)生成红色配合物的特效显色反应,制定了氯化钾无氰镀镉溶液中铁杂质的分析方法。用氨-氯化铵缓冲溶液调节试液的pH至9.2,以空白底液作参比,在波长480nm处测定吸光度。测定结果的相对平均... 利用铁离子与钛铁试剂(即邻苯二酚-3,5-二磺酸钠)生成红色配合物的特效显色反应,制定了氯化钾无氰镀镉溶液中铁杂质的分析方法。用氨-氯化铵缓冲溶液调节试液的pH至9.2,以空白底液作参比,在波长480nm处测定吸光度。测定结果的相对平均偏差为0.35%,回收率为99.3%~100.9%。 展开更多
关键词 氯化钾无氰镀镉溶液 铁杂质 钛铁试剂 分光光度法 测定
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返滴定法测定氯化钾无氰镀镉溶液中氯化镉 被引量：7
9
作者 王小琴 郭崇武 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2018年第3期44-46,共3页
制定了氯化钾无氰镀镉溶液中氯化镉的返滴定分析方法,在强酸性和加热条件下用过硫酸铵氧化镀液中的配位剂,使镉离子从配合物中释放出来。用氟化钠掩蔽Al^(3+)和Sn^(4+)杂质,用三乙醇胺掩蔽Fe^(3+)杂质。加入过量的EDTA标准溶液配位Cd^(2... 制定了氯化钾无氰镀镉溶液中氯化镉的返滴定分析方法,在强酸性和加热条件下用过硫酸铵氧化镀液中的配位剂,使镉离子从配合物中释放出来。用氟化钠掩蔽Al^(3+)和Sn^(4+)杂质,用三乙醇胺掩蔽Fe^(3+)杂质。加入过量的EDTA标准溶液配位Cd^(2+),在pH≈9.3的条件下,以铬黑T作指示剂,用硫酸锌标准溶液返滴定EDTA,用差减法计算镀液中氯化镉的质量浓度。结果表明,测定结果的相对平均偏差为0.19%,回收率为98.03%。 展开更多
关键词 氯化钾无氰镀镉溶液 掩蔽剂 氯化镉 返滴定法
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分析氯化钾无氰镀镉溶液中氯化镉的新方法 被引量：6
10
作者 郭崇武 王小琴 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2017年第19期1064-1066,共3页
在强酸性及加热条件下,用过硫酸铵氧化无氰镀铬溶液中的配位剂,加氨水调节试液至p H约为9.3,再用丁二酮肟掩蔽镍杂质,用氟化钠和三乙醇胺联合掩蔽铝、四价锡、三价铁等杂质。以1-(2-吡啶偶氮)-2-萘酚(PAN)作指示剂,用EDTA标准溶液滴定... 在强酸性及加热条件下,用过硫酸铵氧化无氰镀铬溶液中的配位剂,加氨水调节试液至p H约为9.3,再用丁二酮肟掩蔽镍杂质,用氟化钠和三乙醇胺联合掩蔽铝、四价锡、三价铁等杂质。以1-(2-吡啶偶氮)-2-萘酚(PAN)作指示剂,用EDTA标准溶液滴定氯化镉。测定结果的相对平均偏差为0.27%,回收率为98.77%。 展开更多
关键词 氯化钾无氰镀镉溶液 杂质 丁二酮肟 掩蔽剂 氯化镉 乙二胺四乙酸 滴定
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