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宽禁带SiC肖特基势垒二极管的研制 被引量:6
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作者 徐军 谢家纯 +3 位作者 董小波 王克彦 李垚 易波 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期320-323,共4页
采用微电子平面工艺 ,高真空电子束蒸发金属Ni作肖特基接触 ,多层金属Ni、Ti、Ag合金作欧姆接触 ,SiO2 绝缘环隔离减小高压电场集边效应等技术 ,制作出Ni/4H SiC肖特基势垒二极管 (SBD) .该器件在室温下反向击穿电压大于 450V ,对应漏... 采用微电子平面工艺 ,高真空电子束蒸发金属Ni作肖特基接触 ,多层金属Ni、Ti、Ag合金作欧姆接触 ,SiO2 绝缘环隔离减小高压电场集边效应等技术 ,制作出Ni/4H SiC肖特基势垒二极管 (SBD) .该器件在室温下反向击穿电压大于 450V ,对应漏电流为 6× 1 0 -6 A .并对实验结果进行分析模拟 ,理想因子为 1 .73 ,肖特基势垒高度为 1 .2 5V ,实验表明 ,该器件具有较好的正向整流特性和较小的反向漏电流 . 展开更多
关键词 宽禁带SiC肖特基势垒二极管 碳化硅 半导体器件 微电子平面工艺 正向整流特性 反向漏电流
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微型化Clark氧传感器
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作者 朱建中 《电子与仪表》 1997年第5期25-28,共4页
叙述运用微电子平面工艺和微机械加工技术实现的微型化Clark氧传感器及其应用实例-微型葡萄糖传感器。
关键词 微电子平面工艺 氧传感器 葡萄糖 化学传感器
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