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题名激光直写光刻工艺技术研究
被引量：2
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作者
邱传凯
杜春雷
侯德胜
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机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
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出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期37-41,46,共6页
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基金
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室基金
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文摘
研究了利用激光直写技术制作微细图形的工艺方法，应用ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统，通过实验，分析了激光曝光机理以及提高实用分辨力的途径。得到了激光直写系统参数与处理工艺参数之间的匹配关系，实验数据对研究制作各种掩模版、衍射光学元件以及ＡＳＩＣ电路都有应用价值。
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关键词
激光直写
光刻工艺
激光光刻机
图形制备
曝光
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Keywords
Laser direct write,Photoetching technology,Laser photoetching machines,Pattern fabrication,Exposure.
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名X射线掩模电子束制备图形过程中的数值研究
被引量：1
- 2
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作者
王永坤
余建祖
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机构
北京航空航天大学
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出处
《微细加工技术》
EI
2005年第2期20-23,50,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目(59976004)
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文摘
得到移动光源照射下平板温度分布的理论解,验证了有限元方法的正确性。建立了X射线掩模电子束制备图形过程中传热的三维有限元模型,给出了掩模瞬态温度变化规律。结果表明,辐射是X射线掩模在图形制备中必须考虑的重要因素之一,当不考虑辐射时,掩模瞬时最高温度随时间振荡升高,最高温度为35.20℃;当考虑辐射时,掩模瞬时最高温度随时间周期变化,最高温度为26.95℃。
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关键词
掩模
电子束书写
温度分布
图形制备
有限元分析
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Keywords
mask
electron-beam writing
temperature distribution
patterning
finite element analysis
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名电子束直写中X射线光刻掩模的热形变研究
- 3
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作者
尚鸿雁
王永坤
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机构
上海海事大学物流工程学院
北京航空航天大学航空科学与工程学院
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出处
《微细加工技术》
2007年第5期10-13,25,共5页
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文摘
对X射线掩模电子束制备图形过程建立三维有限元模型,提出用热流密度等效法简化瞬态热应力计算,得到了X射线掩模在电子束直写过程中的瞬态热形变。结果表明,掩模面内形变在直写过程中出现振荡变化,最大值为8.24 nm,方向背离电子束光照中心,掩模面外形变最大值为9.75μm,方向沿图形窗口法线方向,并出现在电子束束斑中心。
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关键词
面内形变
面外形变
电子束直写
图形制备
有限元分析
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Keywords
in-plane distortion
out-of-plane distortion
electron-beam writing
patterning
finite element analysis
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名聚焦离子束(FIB)直写技术研究
被引量：1
- 4
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作者
金乾进
柴青
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机构
东南大学机械工程学院
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出处
《传感器世界》
2017年第3期12-15,共4页
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文摘
简单介绍了聚焦离子束的工作原理,以及在微电子行业中的应用。具体讨论了聚焦离子束在制备纳米图形中的影响因素,包括不同的加工参数,如离子束电能量、离子束电流、驻留时间,以及不同的制备方法产生的各效应,包括再沉积、结构干涉再沉积,对结构形貌的影响,从而确定各参数在纳米图形制备过程中的应用。实验结果表明,离子束能量改变了入射离子去除材料的能力、离子束电流改变了制备图形(线、方)结构的深宽比,驻留时间的变化增加了刻蚀结构中再沉积效应。
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关键词
聚焦离子束
纳米图形制备
加工参数
结构
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Keywords
focused ion beam： nano scale patterning
process parameter
micro/nano structure
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名电子表格:新版本比较
- 5
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作者
柴振荣
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出处
《管理观察》
1996年第3期37-37,共1页
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文摘
介绍下列3种电子表格的试验过程与结果：MicrosoftExcelRelcase4；QuattroProforWindowsWorkGroupEditionRelease5;Lotus1－2－3Release4，Lotus1-2－3Release4俄罗斯乙版。列举了上述产品的历史资料和价格（分别为155、116、99美元）。从表格结构和尺度控制可能性来看，每种表格各有所长，也有所短。在解决数据分析的问题上，依靠D：ttaM0delingExcel和Lotus所具备的各方面数据运算能力，QuattroPro进展最快，而且在图形制备上具有很大的潜能。Quattro刀ro却没有类似的可能性。按照图表类型的数量，QuattroPro与Excel领先。但Lotus1-2－3拥有更丰富的图形编辑手段。在组合问题上，QuattroPro无可争议地居首位，它拥有8种图幅。几种程序包均有良好的自学手段。在所使用的用户环境质量和方便方面，3种程序包的可能性相同。不过在总体上讲，从大部分优质完成可能的应用功能来看，第1的位置应归于QuattroPro。
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关键词
电子表格
新版本
RELEASE
MicrosoftExcel
程序包
图形编辑
图形制备
表格结构
数据分析
尺度控制
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分类号
TP317
[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
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