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WO_3薄膜的后氧处理及其红外反射率研究 被引量:3
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作者 杜金会 于振瑞 +1 位作者 贾小东 张加友 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 2000年第4期356-358,共3页
本文采用“改进电沉积法”制备 WO3薄膜 ,并研究了该薄膜的后氧处理方法 ,以及后氧处理条件对薄膜的电化学特性 ,尤其是红外反射率的影响。结果表明 ,经该方法处理过的薄膜 ,其红外反射率调制能力提高 8%。
关键词 WO3薄膜 处理 红外反射率
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光学、显示与发光材料
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《电子科技文摘》 2000年第12期7-8,共2页
SPIE-Vol.3554 00198091998年 SPIE 会议录,卷3554:光折射材料的现象与应用=1998 proceedings of SPIE,Vol.3554:photorefrac-tive materials:phenomena and related applications Ⅱ[会,英]/SPIE-the International Society for Optica... SPIE-Vol.3554 00198091998年 SPIE 会议录,卷3554:光折射材料的现象与应用=1998 proceedings of SPIE,Vol.3554:photorefrac-tive materials:phenomena and related applications Ⅱ[会,英]/SPIE-the International Society for Optical En-gineering.-1998.-272P.(EC)本会议录收集了于1998年9月16~17日在北京召开的光折射材料会议上发表的43篇论文。 展开更多
关键词 发光材料 会议录 光折射 非线性光学材料 二次谐波 荧光体 论文 红外反射率 处理 液晶
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