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半导体单晶抛光片清洗技术分析 被引量:2
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作者 张凇铭 《电子测试》 2018年第18期129-129,131,共2页
本文以半导体单晶抛光片清洗原理为入手点,结合铬、砷化镓、硅等半导体单晶抛光片污染物质来源,对半导体单晶抛光片清洗技术进行了简单的分析,以便为半导体单晶抛光片清洗效率的提升提供依据。
关键词 半导体 单晶抛光片 清洗技术
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半导体单晶抛光片清洗工艺研究 被引量:1
2
作者 袁绪泽 《通讯世界(下半月)》 2015年第11期270-271,共2页
半导体单晶抛光片是当前一种十分重要的材料,对于大规模集成电路和半导体器件的应用有着巨大的作用。本文主要以硅、砷化镓、锗等半导体单晶抛光片为例,对其清洗工艺和清洗机理进行了研究。具体来说,先采用氧化性的溶液在抛光片表面产... 半导体单晶抛光片是当前一种十分重要的材料,对于大规模集成电路和半导体器件的应用有着巨大的作用。本文主要以硅、砷化镓、锗等半导体单晶抛光片为例,对其清洗工艺和清洗机理进行了研究。具体来说,先采用氧化性的溶液在抛光片表面产生氧化膜,然后再将形成的氧化膜去除,从而实现抛光片表面杂质和污染物的清除。对这种氧化、剥离的清洗原理进行应用,能够有效的提高半导体单晶抛光片的清洗工艺和技术水平,从而为清洗工艺的优化与改善提供参考和借鉴。 展开更多
关键词 半导体 单晶抛光片 清洗工艺
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最新标准出版信息
3
《信息技术与标准化》 2015年第8期78-79,共2页
关键词 通用规范 单晶抛光片 测试方法 测量方法 电子标签 设备资源共享
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2015年9月起实施的国家标准
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《大众标准化》 2015年第9期88-89,共2页
关键词 GB 单晶抛光片 玻璃纤维增强塑料管 深冷容器 月起 石油天然气工业 能源工业 三轮汽车 外延 定心卡盘 旅行社 旅游社 旅游企业 低速货车 轮式拖拉机 驱动电机 测试方法 测量方法 几何精度
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工业和信息化部最新发布77项电子行业标准
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《信息技术与标准化》 2015年第5期75-79,共5页
关键词 包装 检验规则 半绝缘砷化镓 单晶抛光片 设备资源共享 数字电视机 聚四氟乙烯 含氟高聚物 危险化学品气瓶 线阵列扬声器系统 等离子体显示器件 测试方法 测量方法 通信电缆 通讯电缆 同轴 电子行业 工业和信息化部
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行业综述
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《中国金属通报》 1998年第10期8-10,共3页
有色金属流通企业经营应该重新定位我国有色金属市场已由卖方市场转为买方市场,流通模式也由以国家计划分配为主,变成以市场为导向的自由竞争模式,
关键词 有色金属公司 竞争模式 生产线 单晶抛光片 有色金属工业 卖方市场 建成投产 生产企业 国家订货 有色企业
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空间太阳能电池用超薄锗单晶片的清洗技术
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作者 林健 赵权 +1 位作者 刘春香 杨洪星 《电子工业专用设备》 2011年第3期31-34,共4页
由于锗在常温时即不与浓碱发生反应,也不与单一的强酸反应[1],因此其清洗机理与硅、砷化镓等材料相差较大[2,3]。在大量实验的基础上,阐述了锗单晶抛光片的清洗机理。通过对锗抛光片表面有机物和颗粒的去除技术研究,建立了超薄锗单晶抛... 由于锗在常温时即不与浓碱发生反应,也不与单一的强酸反应[1],因此其清洗机理与硅、砷化镓等材料相差较大[2,3]。在大量实验的基础上,阐述了锗单晶抛光片的清洗机理。通过对锗抛光片表面有机物和颗粒的去除技术研究,建立了超薄锗单晶抛光片的清洗技术,利用该技术清洗的超薄锗单晶抛光片完全满足了空间高效太阳电池的使用要求。 展开更多
关键词 单晶抛光片 清洗 空间太阳能电池
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新产品·新技术
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《中国信息导报》 CSSCI 2004年第1期62-63,共2页
关键词 薄膜晶体管 液晶显示器 多媒体手机 手机芯 单晶抛光片 产业化 智能机器人 弧焊机器人 四路服务器 微型硬盘 GPS定位器 诺基亚 手机服务 电视节目 全合成光纤
原文传递
最新标准出版信息
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《信息技术与标准化》 2015年第10期76-77,共2页
关键词 单晶抛光片 通用规范 通用技术
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相关行业信息
10
《中国金属通报》 2001年第11期17-18,共2页
光电子技术是继微电子技术之后,在电子学基础上发展起来的以激光及其应用技术为核心的新兴的一门前沿学科。作为近十几年来迅速发展的一门新高科技技术,它集中了固体物理、导波光学。
关键词 行业信息 微电子技术 应用技术 生产线 建成投产 技术发展 产业化示范 单晶抛光片 自主知识产权 千吨级
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最新标准出版信息
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《信息技术与标准化》 2015年第9期78-79,共2页
关键词 通用规范 单晶抛光片 测试方法 测量方法 电子标签 设备资源共享
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中国半导体材料标准化工作的回顾与展望
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作者 屠海令 石瑛 +1 位作者 肖芳 贺东江 《中国集成电路》 2002年第5期87-91,52,共6页
中国半导体材料研究工作起步于1957年,至今,已走过了近半个世纪的发展历程。目前国内从事Si材料研究与生产的单位已有20多家,主要生产厂家及产品种类见表1。近10年来,我国硅单晶产量一直保持着持续增长的势头,到2001年硅单晶及其加工片... 中国半导体材料研究工作起步于1957年,至今,已走过了近半个世纪的发展历程。目前国内从事Si材料研究与生产的单位已有20多家,主要生产厂家及产品种类见表1。近10年来,我国硅单晶产量一直保持着持续增长的势头,到2001年硅单晶及其加工片的产量达400吨,2亿平方英寸,分别比"九五"初期的1996年增长140%和145%。 展开更多
关键词 半导体材料 标准化工作 单晶抛光片 国际标准化组织 中国标准化 材料标准 半导体设备 生产单位 材料研究 委员会
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新闻摘要
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《电子元器件应用》 2004年第2期J003-J004,共2页
我国首条200mm硅单晶抛光片生产线通过验收我国首条可满足0.25μm线宽IC需求的200mm(8英寸)硅单晶抛光片生产线——硅单晶抛光片高技术产业化示范工程日前通过整体验收。业内人士认为,200mm硅单晶抛光片示范工程项目,可在一定程度上满... 我国首条200mm硅单晶抛光片生产线通过验收我国首条可满足0.25μm线宽IC需求的200mm(8英寸)硅单晶抛光片生产线——硅单晶抛光片高技术产业化示范工程日前通过整体验收。业内人士认为,200mm硅单晶抛光片示范工程项目,可在一定程度上满足中国半导体器件市场的需求,促进中国深亚微米集成电路的技术进步,这是中国大直径硅单晶工程化技术开发和实现工业经济规模生产的有益尝试。 展开更多
关键词 中国 单晶抛光片生产线 工业经济规模 印刷验证系统 微电子
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FA/O高纯多功能界面活性剂
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作者 刘玉岭 《技术与市场》 2004年第1期10-10,共1页
该成果在理论上揭示了单晶抛光片表面悬挂键强力场对周围环境颗粒吸附状态的转化规律,提出了重要的优先吸附数字模型。在此基础上,通过大量实验,选择出适于微电子工业应用的FA/O非离子表面活性剂。它是无离子共价健化合物,具有强... 该成果在理论上揭示了单晶抛光片表面悬挂键强力场对周围环境颗粒吸附状态的转化规律,提出了重要的优先吸附数字模型。在此基础上,通过大量实验,选择出适于微电子工业应用的FA/O非离子表面活性剂。它是无离子共价健化合物,具有强渗透性,可托起已吸附粒子。 展开更多
关键词 界面活性剂 FA/O非离子表面活性剂 单晶抛光片 富集吸附
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新书出版消息预告
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《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期40-40,共1页
北京有色金属研究总院(Grinm)、有研半导体材料股份有限公司(Gritek)张厥宗编著的《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》一书近期将由《化学工业出版社》出版。《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》在内容上采取由浅入深的方式,在介绍... 北京有色金属研究总院(Grinm)、有研半导体材料股份有限公司(Gritek)张厥宗编著的《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》一书近期将由《化学工业出版社》出版。《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》在内容上采取由浅入深的方式,在介绍半导体硅及集成电路有关知识的同时,简单介绍半导体工业及国外、国内半导体材料硅(Si)单晶、抛光片技术的发展和动态外,结合能满足小于线宽0.13~0.10μm IC 工艺用优质大直径硅(Si)单晶抛光片的加工技术进行全面、系统的概述。全书共分八章。第一章介绍半导体工业发展及动态和国外、国内硅(Si)单晶、抛光片的发展概况;第二章介绍半导体材料硅(Si)的物理、化学及其半导体的性质;第三章介绍集成电路对硅(Si)单晶、抛光片的技术要求及硅(Si)单晶、抛光片的制备; 展开更多
关键词 单晶抛光片 加工技术 Si 加工工艺 电工材料 半导体材料 有研半导体材料股份有限公司 晶形 单晶 新书
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我国实现8英寸硅单晶抛光片规模生产
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《世界制造技术与装备市场》 2004年第1期30-30,共1页
由北京有色金属研究总院承担的“直径200mm(8英寸)硅单晶抛光片高技术产业化示范工程”
关键词 单晶抛光片 高技术产业化 规模生产 半导体 中国
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8英寸硅单晶抛光片生产线在京建成
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作者 李家鸣 《功能材料信息》 2004年第1期55-55,共1页
报导,由北京有色金属研究总院承担的“直径200mm(8英寸)硅单晶抛光片高技术产业化示范工程”不久前通过国家验收。这是我国建设成功的第一条满足0。25微米线宽集成电路需求的8英寸硅单晶抛光片生产线。该院利用自主知识产权技术,集几... 报导,由北京有色金属研究总院承担的“直径200mm(8英寸)硅单晶抛光片高技术产业化示范工程”不久前通过国家验收。这是我国建设成功的第一条满足0。25微米线宽集成电路需求的8英寸硅单晶抛光片生产线。该院利用自主知识产权技术,集几十年来在硅材料领域的研究成果和产业化经验,在8英寸硅单晶抛光片技术开发和5、6英寸硅单晶抛光片产业化技术基础上。 展开更多
关键词 北京 单晶抛光片 硅材料 电子产品 市场 集成电路
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信息快递
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《今日科苑》 2002年第12期63-63,共1页
我国研制出十八英寸直拉硅单晶我国第一根直径18英寸(450毫米)直拉硅单晶2002年11月份在北京有色金属研究总院研制成功,这标志着我国大直径拉硅单晶研究又迈上一个新台阶,进入世界领先行列。北京有色金属研究总院研制成功的18英寸直拉... 我国研制出十八英寸直拉硅单晶我国第一根直径18英寸(450毫米)直拉硅单晶2002年11月份在北京有色金属研究总院研制成功,这标志着我国大直径拉硅单晶研究又迈上一个新台阶,进入世界领先行列。北京有色金属研究总院研制成功的18英寸直拉硅单晶,其抛光片将成为未来22纳米线宽64G 集成电路的衬底材料。这种大直径硅单晶抛光片材料目前在国际上仍处于基础研究阶段。 展开更多
关键词 直拉硅单晶 研制成功 金属研究 大直径 单晶抛光片 研究阶段 纳米线宽 集成电路 衬底材料 液化石油气
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3月科技大事
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《中国科技财富》 1998年第1期64-64,共1页
2月27日至3月1日国家高新技术产业开发区知识产权工作会议在长春召开。会议就《关于加强国家高新技术产业开发区知识产权若干意见》进行了讨论。会议提出各高新区要把加强知识产权保护提上高新区管理工作的重要议事日程。
关键词 国家高新技术产业开发区 知识产权保护意识 科学技术 工作会议 全体会议 高新区 单晶抛光片 中国人民政治协商会议 发射 国务院
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新书预告
20
《电子工业专用设备》 2005年第6期81-81,共1页
关键词 单晶抛光片 加工技术 加工工艺 电工材料 半导体材料 单晶 新书预告
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