ASML公司光学光刻技术最新进展 被引量：8

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作者 张强 胡松 +1 位作者 姚汉民 刘业异 《微细加工技术》 2002年第3期8-11,27,共5页

荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一 ,通过不断的技术创新 ,在全球光刻机市场上居于领先地位。在简单介绍光刻机基本工作原理和主要技术指标的基础上 。

关键词 ASML公司 光刻机 投影光刻物镜 光学对准 照明系统 双平台扫描

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铷87原子双光子跃迁光谱稳频特性研究

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作者 孟一鸣 项静峰 +6 位作者 徐斌 李彪 万金银 任伟 邓思敏达 张迪 吕德胜 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第23期113-120,共8页

铷87的双光子光谱具有高信噪比、无多普勒展宽、窄线宽等特点。构建了基于87Rb原子双光子跃迁的光学频率参考,分析测试了影响其短期稳定度的因素。利用778 nm外腔半导体激光器激发双光子跃迁产生420 nm荧光信号,通过荧光信号锁定激光器... 铷87的双光子光谱具有高信噪比、无多普勒展宽、窄线宽等特点。构建了基于87Rb原子双光子跃迁的光学频率参考,分析测试了影响其短期稳定度的因素。利用778 nm外腔半导体激光器激发双光子跃迁产生420 nm荧光信号,通过荧光信号锁定激光器频率。探讨了谱线线宽、信噪比、功率、温度相关的谱线展宽、光频移、系统结构稳定性和调制宽度等对频移和稳定度的影响。采用螺栓锁紧结构固定光学元件,大幅改善了光学对准引起的稳频误差,通过直接调制激光器电流实现了秒级稳定度为1.5×10^(-12)、500 s稳定度为2.88×10^(-13)的光学频率参考。与其他基于饱和吸收的光学频率参考相比,构建的基于87Rb原子双光子跃迁的光学频率参考的稳定度提高了10~100倍。光学对准对于提高荧光探测信噪比和优化长期稳定度具有重要意义。验证了内调制实现双光子光学频率参考的可行性,并提出了进一步优化短期稳定度和长期稳定度可采用的技术方案。 展开更多

关键词 激光器 双光子跃迁 激光稳频 光学对准 频率稳定度

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舰载武器系统零位一致性检测研究 被引量：3

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作者 孔小健 王江安 +1 位作者 刘启忠 饶炯辉 《海军工程大学学报》 CAS 2001年第6期59-62,共4页

提出了一种舰载武器系统零位一致性检测的新方法 ,从理论上分析了该方法的原理 .采用该方法 。

关键词 舰载武器系统 零位检测 光学对准 零位一致性

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一种基于高斯光束的平凹激光腔对准方法 被引量：2

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作者 肖孟超 姜耀亮 +1 位作者 檀慧明 钱龙生 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期740-744,共5页

给出了一种基于高斯光束的平凹激光腔对准方法。在高斯准直光束后加一透镜系统,恰当地调整准直高斯光束到某一种汇聚发散的状态。在这种状态下,可使由平凹腔凹面镜和平面镜反射回来的光斑直径大小相仿,解决了不加透镜系统时,两反射回来... 给出了一种基于高斯光束的平凹激光腔对准方法。在高斯准直光束后加一透镜系统,恰当地调整准直高斯光束到某一种汇聚发散的状态。在这种状态下,可使由平凹腔凹面镜和平面镜反射回来的光斑直径大小相仿,解决了不加透镜系统时,两反射回来光斑直径相差很大,难于对准的问题,提高两光斑的对准精度。实验使用束腰为0.6 mm的氦氖光,其后加一优化好的透镜系统,在889 mm的距离下,对凹面镜曲率半径为50 mm的平凹腔进行对准。得到由凹面镜和平面镜反射回来的光斑直径分别为4.8 mm和5.1 mm,平凹腔的角度对准精度达到了3.18′。对准好的腔体在点亮LD后,均能出基模光斑。实验结果与理论分析相符,证明了该对准方法结构简单,执行方便。 展开更多

关键词 高斯光束 光学对准 平凹腔

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一种检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法 被引量：2

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作者 何乐 王向朝 +2 位作者 马明英 施伟杰 王帆 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1130-1135,共6页

提出一种精确检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法.将对准标记曝光到硅片表面并进行显影;利用光学对准系统测量曝光到硅片上的对准标记理论曝光位置与实际读取位置的偏差;由推导的位置偏差与非正交因子、坐标轴尺度比例、过... 提出一种精确检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法.将对准标记曝光到硅片表面并进行显影;利用光学对准系统测量曝光到硅片上的对准标记理论曝光位置与实际读取位置的偏差;由推导的位置偏差与非正交因子、坐标轴尺度比例、过程引入误差的线性模型,根据最小二乘原理计算出干涉仪测量系统的非正交性.实验结果表明,利用该方法使用同一硅片在不同旋转角下进行测量,干涉仪测量系统非正交因子的测量重复精度优于0.01μrad,坐标轴尺度比例的测量重复精度优于0.7×10-6.使用不同的硅片进行测量,非正交因子的测量再现性优于0.012μrad,坐标轴尺度比例的测量再现性优于0.6×10-6. 展开更多

关键词 测量 激光干涉仪 非正交性 光学对准 工件台 光刻机

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基于离散阵列光源的空间光学系统对准

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作者 张晓明 陈洪斌 +2 位作者 王继红 亓波 史建亮 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期73-77,共5页

为了解决基于波前或星点图对准大口径空间光学系统时计算量大、面形误差影响大等问题,提出了一种基于离散阵列光源对准空间光学系统的方法.给出了离散阵列光源的设计、检测和标定方法,并以此为基础设计了对准检测光路.以某在研RC望远镜... 为了解决基于波前或星点图对准大口径空间光学系统时计算量大、面形误差影响大等问题,提出了一种基于离散阵列光源对准空间光学系统的方法.给出了离散阵列光源的设计、检测和标定方法,并以此为基础设计了对准检测光路.以某在研RC望远镜为对象,用离散阵列光源产生参考光,设计了一个用于快速对准主次镜的检测光路.在光学系统设计参数已知的情况下,根据像平面上的点列图,建立了主次镜位置信息和点列图分布信息的函数关系.利用光学设计软件和数学计算工具建立仿真平台,并进行了主次镜的仿真验证.仿真结果表明,使用离散阵列光源可以有效减少计算量,降低面形误差和杂散光的影响,提高对准效率,并且具有较高的计算准确度. 展开更多

关键词 光学检测 光学对准 离散阵列光源 望远镜 参考光 对准检测 点列图

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基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术 被引量：1

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作者 施伟杰 王向朝 +1 位作者 张冬青 王帆 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期85-90,共6页

提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上,硅片显影后,由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息,根据对准位置信息计算得到视场中各点的焦深。与传统的... 提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上,硅片显影后,由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息,根据对准位置信息计算得到视场中各点的焦深。与传统的FEM焦深测试技术相比,该技术具有测量精度高、速度快、成本低、操作简单等优点,在光刻工艺参数优化及光刻设备性能评价等方面有很好的应用前景。 展开更多

关键词 激光技术 焦深 光学对准 投影光刻机 原位检测

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掩膜对不准测量用的电压对比度测试结构

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作者 Oliver D.Patterson Stephen R.Fox Roland Hahn 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期136-141,共6页

由于目前最先进CMOS器件的尺寸非常小,对准要求变得极具挑战性。测量触点至栅极对准的方法涉及用SEM扫描触点阵列,每次与接地栅极的重叠部分数量不同。电压对比信号表明哪些触点正在触及栅极。把样品晶圆数据与光学对准数据进行了比较... 由于目前最先进CMOS器件的尺寸非常小,对准要求变得极具挑战性。测量触点至栅极对准的方法涉及用SEM扫描触点阵列,每次与接地栅极的重叠部分数量不同。电压对比信号表明哪些触点正在触及栅极。把样品晶圆数据与光学对准数据进行了比较。阐述了更充分比较二种技术的精度必须要做的后续工作。 展开更多

关键词 光学对准 触点 栅条 栅极 晶圆 掩膜 测试结构 电压

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高精度光学对准测量装置的设计

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作者 耿天文 刘建红 +1 位作者 刘绍锦 刘畅 《中国光学与应用光学》 2010年第5期467-473,共7页

设计了一套光学对准测量装置,该装置主要由面阵CCD相机、光学镜头、图像处理模块、LED红光光源、球面反光镜组成。介绍了测量原理,测量目标采用等腰三角形排列,通过面阵CCD对目标所反射的图像进行采集,由图像处理模块对该图像进行实时处... 设计了一套光学对准测量装置,该装置主要由面阵CCD相机、光学镜头、图像处理模块、LED红光光源、球面反光镜组成。介绍了测量原理,测量目标采用等腰三角形排列,通过面阵CCD对目标所反射的图像进行采集,由图像处理模块对该图像进行实时处理,能够同时得到X、Y、Z以及旋转角度等四维坐标数据。推导了光斑图像坐标和被测平面距离等计算公式,并进行了对准精度分析。结果表明,该装置位置误差<1mm,角度误差为0.24°,实现了高精度、自动、快速对准测量。 展开更多

关键词 光学对准 测量装置 四维坐标 精度分析

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关于4×10G 850nm AOC耦合技术的研究

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作者 陈国祥 《电子科学技术》 2016年第2期109-112,共4页

高速大数据的传输与信息处理是光通信中的重点。4×10G 850nm是大数据处理中心所用的关键部件,本文介绍了基于一种垂直腔体发射激光器(VCSEL)及光探测器PD集成的4×10G并行光模块,对40G QSFP+SR4 AOC光学对准进行分析;阐述了40G... 高速大数据的传输与信息处理是光通信中的重点。4×10G 850nm是大数据处理中心所用的关键部件,本文介绍了基于一种垂直腔体发射激光器(VCSEL)及光探测器PD集成的4×10G并行光模块,对40G QSFP+SR4 AOC光学对准进行分析;阐述了40G QSFP+SR4 AOC主要结构组成,从而对光学对准设备及工艺要求进行研究。 展开更多

关键词 40G 850 VCSEL 光学对准 光功率 光响应度 紫外胶

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一种光学对准器视差检测方法研究 被引量：1

11

作者 张保昌 余壮 +2 位作者 张平鑫 郭丽娜 彭传刚 《电光与控制》 北大核心 2016年第4期98-100,共3页

针对小视场光学对准器视差无法利用传统方法借助平行光管检测的问题,通过专用组合工装、二轴位移台、经纬仪和光学平台搭建一个视差检测系统,它是以光学经纬仪为测量基准,然后通过专用工装将光学对准器固定在光学平台上,调整好经纬仪后... 针对小视场光学对准器视差无法利用传统方法借助平行光管检测的问题,通过专用组合工装、二轴位移台、经纬仪和光学平台搭建一个视差检测系统,它是以光学经纬仪为测量基准,然后通过专用工装将光学对准器固定在光学平台上,调整好经纬仪后,移动导轨至光学系统出瞳的方位或俯仰方向极限位置处检测光学系统的最大光学视差。最后通过试验验证了此系统的稳定性,且该方法简单易于操作,测量结果精确直观。 展开更多

关键词 光学对准器 视差检测 光学经纬仪 头盔显示器

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微型光纤研磨机

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《光机电信息》 2008年第3期62-62,共1页

Krell Technologies公司的Rev是加工光纤连接器的低成本系统。光纤连接器是光学对准和校准工具，通过它使光学系统达到Telcordia标准。新的连接器终端能在2min内研磨成单模几何形状。在缆线、插入头、OTDR发射盒和测试设备接口损坏的连... Krell Technologies公司的Rev是加工光纤连接器的低成本系统。光纤连接器是光学对准和校准工具，通过它使光学系统达到Telcordia标准。新的连接器终端能在2min内研磨成单模几何形状。在缆线、插入头、OTDR发射盒和测试设备接口损坏的连接头可以修复，并能够反复研磨为初始规格。据称Rev对场终端成套设备是理想的，它可采用9V电池或者AC适配器供电。 展开更多

关键词 光纤连接器 研磨机 微型 KRELL AC适配器 成本系统 光学对准 光学系统

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晶片传输系统中切边探测和预对准技术 被引量：8

13

作者 杨兴平 《电子工业专用设备》 2003年第1期43-47,共5页

介绍投影光刻机设备的晶片传输系统中切边探测和晶片预对准技术。

关键词 投影光刻 晶片传输 切边 机械预对准 光学预对准 半导体

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SiGeC薄膜表征对于光刻对准性能的影响研究

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作者 王霞珑 《电子与封装》 2013年第3期32-35,共4页

Si1-x-yGexCy是继Si和GaAs之后又一重要的半导体材料。由于Si1-x-yGexCy具有优于纯Si材料的良好特性,器件和制程又可与Si工艺兼容,采用Si1-x-yGexC及其Si1-x-yGexCy/Si异质结所制作出来的器件如异质结双极晶体管(Heterojunction Bipolar... Si1-x-yGexCy是继Si和GaAs之后又一重要的半导体材料。由于Si1-x-yGexCy具有优于纯Si材料的良好特性,器件和制程又可与Si工艺兼容,采用Si1-x-yGexC及其Si1-x-yGexCy/Si异质结所制作出来的器件如异质结双极晶体管(Heterojunction Bipolar Transistor,HBT),其电性能几乎可达到GaAs等化合物半导体制作的同类器件的水平,而且在成本上低于GaAs HBT。因此Si1-x-yGexCy可能是未来微电子发展进程中必不可少、并起着关键作用的一种材料。文章对Si1-x-yGexCy薄膜的表征进行了探索,在总结大量数据的基础上,验证了利用Si1-x-yGexCy薄膜的反射率进行光学表征的方法的可行性。同时,文章系统研究了Si1-x-yGexCy薄膜的工艺条件、薄膜成份、薄膜厚度等参数对光刻对准性能的影响。 展开更多

关键词 SI1-X-YGEXCY 光学表征对准性能 HBT异质结双极晶体管

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