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Transforming bilayer MoS2 into single-layer with strong photoluminescence using UV-ozone oxidation 被引量:3
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作者 Weitao Su Naresh Komar +2 位作者 Steve J. Spencer Ning Dai Debdulal Roy 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第12期3878-3886,共9页
The use of single-layer MoS2 in light emitting devices requires innovative methods to enhance its low photoluminescence (PL) quantum yield. In this work, we report that single-layer MoS2 with a strong PL can be prep... The use of single-layer MoS2 in light emitting devices requires innovative methods to enhance its low photoluminescence (PL) quantum yield. In this work, we report that single-layer MoS2 with a strong PL can be prepared by oxidizing bilayer MoS2 using W-ozone oxidation. We show that as compared to mechanically-exfoliated single-layer MoS2, the PL intensity of the single-layer MoS2 prepared by W-ozone oxidation is enhanced by 20-30 times. We demonstrate that the PL intensity of both neutral excitons and trions (charged excitons) can be greatly enhanced in the oxidized MoS2 samples. These results provide novel insights into the PL enhancement of single-layer MoS2. 展开更多
关键词 single-layer MoS2 W-ozone oxidation photoluminescence enhancement tip-enhanced Raman spectroscopy
原文传递
Ru(Ⅱ)联吡啶配合物的合成及其光学性质的研究
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作者 孙英杰 钟菁 +3 位作者 代奕灵 张燕 黄晴菲 王启卫 《合成化学》 CAS 2022年第1期8-14,共7页
以2,2′-联吡啶为原料,合成了Ru(Ⅱ)联吡啶配合物,其结构经^(1)H NMR,^(13)C NMR和MALDI-TOF表征。测试并分析了化合物的紫外吸收、室温(298 K)光致发光和低温(77 K)光致发光性能。结果表明:配合物的紫外吸收性能优于Ru(bpy)3(PF 6)2;... 以2,2′-联吡啶为原料,合成了Ru(Ⅱ)联吡啶配合物,其结构经^(1)H NMR,^(13)C NMR和MALDI-TOF表征。测试并分析了化合物的紫外吸收、室温(298 K)光致发光和低温(77 K)光致发光性能。结果表明:配合物的紫外吸收性能优于Ru(bpy)3(PF 6)2;发射波长位于654,676,680,689 nm处,说明引入不同的取代基团,能够有效调控配合物的发射波长。 展开更多
关键词 联吡啶 Ru(Ⅱ)配合物 紫外吸收 室温光致发光 低温光致发光 合成
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6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
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作者 王鸥 丁元力 +5 位作者 钟志亲 袁菁 龚敏 Chen X D Fung S Beling C D 《光散射学报》 2004年第1期66-69,共4页
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对... 本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对具有不同的退火行为,这否定了它们源于相同的辐照诱生缺陷的观点。D1中心可能源于由空位和反位组成的复合体。 展开更多
关键词 碳化硅 低温光致发光 辐照诱生缺陷 退火处理 零声子谱线
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Carrier dynamics and doping profiles in GaAs nanosheets 被引量:1
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作者 Chia-Chi Chang Chun-Yung Chi +6 位作者 Chun-Chung Chen Ningfeng Huang Shermin Arab Jing Qiu Michelle L. Povinelli P. Daniel Dapkus Stephen B. Cronin 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第2期163-170,共8页
We have recently demonstrated that GaAs nanosheets can be grown by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD). Here, we investigate these nanosheets by secondary electron scanning electron microscopy (SE-SEM)... We have recently demonstrated that GaAs nanosheets can be grown by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD). Here, we investigate these nanosheets by secondary electron scanning electron microscopy (SE-SEM) and electron beam induced current (EBIC) imaging. An abrupt boundary is observed between an initial growth region and an overgrowth region in the nanosheets. The SE-SEM contrast between these two regions is attributed to the inversion of doping at the boundary. EBIC mapping reveals a p-n junction formed along the boundary between these two regions. Rectifying I-V behavior is observed across the boundary further indicating the formation of a p-n junction. The electron concentration (ND) of the initial growth region is around 1 × 10^18 cm^-3, as determined by both Hall effect measurements and low temperature photoluminescence (PL) spectroscopy. Based on the EBIC data, the minority carrier diffusion length of the nanosheets is 177 nm, which is substantially longer than the corresponding length in unpassivated GaAs nanowires measured previously. 展开更多
关键词 MOCVD GAAS NANOSHEETS EBIC Hall measurement secondary electronemission
原文传递
Ⅲ-Ⅴ族半导体材料的低温光致发光
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作者 于鲲 孟庆惠 +3 位作者 李永康 吴灵犀 陈廷杰 徐寿定 《Journal of Semiconductors》 EI CAS 1981年第3期243-246,共4页
砷化镓、磷化铟等Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体已广泛应用于微波、光电等器件中.为了提高材料质量,我们建立了灵敏、非破坏性的检测手段——低温光致发光.它还适合于微区和薄膜的研究,是分析GaAs等Ⅲ-Ⅴ族半导体材料中杂质和缺陷的有效方法之一... 砷化镓、磷化铟等Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体已广泛应用于微波、光电等器件中.为了提高材料质量,我们建立了灵敏、非破坏性的检测手段——低温光致发光.它还适合于微区和薄膜的研究,是分析GaAs等Ⅲ-Ⅴ族半导体材料中杂质和缺陷的有效方法之一.本文将介绍低温光致发光的实验技术和部份实验结果. 展开更多
关键词 光致发光 低温光致发光 汽相外延 GAAS 栅单色仪 发光
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发光、荧光材料
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《中国光学》 EI CAS 1995年第3期92-94,共3页
O482.31 95032051MOCVD的InGaAs/GaAs应变层量子阱的低温光致发光研究=Studies on low temperature photo-lumineseence spectra of InGaAs/GaAs stra-ined quantum wells by MOCVD[刊,中]/王小军,王启明,庄婉如,郑婉华(中科院半导体所... O482.31 95032051MOCVD的InGaAs/GaAs应变层量子阱的低温光致发光研究=Studies on low temperature photo-lumineseence spectra of InGaAs/GaAs stra-ined quantum wells by MOCVD[刊,中]/王小军,王启明,庄婉如,郑婉华(中科院半导体所集成光电子学国家重点联合实验室.北京(100083))。 展开更多
关键词 多孔硅发光 低温光致发光 发光 应变层量子阱 中科院 发光材料 集成电子学 跃迁几率 能量传递 发光
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用X射线双晶衍射及低温光致发光研究MBE生长GaAs/AlGaAs量子阱材料的均匀性
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作者 冯禹臣 高大超 袁佑荣 《半导体光电》 CAS 1987年第2期-,共9页
本文叙述了用X射线双晶衍射仪非平行(十、一)设置法,测量用分子束外延(MBE)法在GaAs(001)面上生长的量子阱(QW)材料表面各点的回摆曲线。结果表明,松弛状态下晶体表面不同位置上各点的晶格失配、应力以及外延层铝含量分布是不均匀的,这... 本文叙述了用X射线双晶衍射仪非平行(十、一)设置法,测量用分子束外延(MBE)法在GaAs(001)面上生长的量子阱(QW)材料表面各点的回摆曲线。结果表明,松弛状态下晶体表面不同位置上各点的晶格失配、应力以及外延层铝含量分布是不均匀的,这与用低温光致发光(PL)光谱测量的组分均匀性的结果有较好的一致性。实验表明,在工艺相同的条件下,采用MBE生长有超晶格过渡层的GaAs/AlGaAs量子阱材料,提高了外延层的均匀性。 展开更多
关键词 GAAS/ALGAAS 衬底 基片 MBE 材料 量子阱材料 外延层 均匀性 双晶衍射 低温光致发光
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MOCVD生长InP/GaInAsP DBR结构及相关材料特性 被引量:2
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作者 蒋红 金亿鑫 +2 位作者 缪国庆 宋航 元光 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期632-636,共5页
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法InP衬底上成功地制备了GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的分布布喇格反射镜(DBR)结构以及与之相关的四元合金GaxIn1-xAsyP1-y和InP外延层。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)、低温光致发光(PL)光谱等... 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法InP衬底上成功地制备了GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的分布布喇格反射镜(DBR)结构以及与之相关的四元合金GaxIn1-xAsyP1-y和InP外延层。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)、低温光致发光(PL)光谱等测量手段对材料的物理特性进行了表征。结果表明,在InP衬底上生长的InP外延层和四元合金GaxIn1-xAsyP1-y外延层77K光致发光(PL)谱线半峰全宽(FWHM)分别为9.3meV和32meV,说明形成DBRs结构的交替层均具有良好的光学质量。X射线衍射测量结果表明,四元合金GaxIn1-xAsyP1-y外延层与InP衬底之间的相对晶格失配仅为1×10-3。GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的DBR结构每层膜的光学厚度约为λ/4n(λ=1.55/μm)。根据多层膜增反原理计算得出当膜的周期数为23时,反射率可达90%。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 MOCVD 半导体材料 磷化铟 磷砷铟镓 布喇格反射镜 X射线衍射 扫描电子显微镜 低温光致发光 反射率 周期数
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GaAs-InP异质材料的结构特性和光学特性研究 被引量:1
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作者 陈松岩 李玉东 +3 位作者 孙洪波 王本忠 刘式墉 张玉贤 《光子学报》 EI CAS CSCD 1996年第2期140-146,共7页
我们在低压金属有机汽相沉积(MOCVD)设备上采用两步升温法与金属有机源流量周期调制生长界面过渡层方法制备出GaAs-InP材料,并对此进行了X-射线衍射、低温光致发光谱(PL)和Raman谱分析,结果表明,GaAs... 我们在低压金属有机汽相沉积(MOCVD)设备上采用两步升温法与金属有机源流量周期调制生长界面过渡层方法制备出GaAs-InP材料,并对此进行了X-射线衍射、低温光致发光谱(PL)和Raman谱分析,结果表明,GaAs外延层的位错密度低于用两步升温法得到的GaAs材料,PL谱峰较强,GaAs的特征激子峰和杂质相关的激子峰同时被测到.Raman谱PL谱的峰移表明GaAs外延层处于(100)双轴伸张应力下,应力大小随温度变化是由于GaAs、InP之间的热膨胀系数不同。 展开更多
关键词 GaAs-InP导质材料 X-射线衍射 低温光致发光 RAMAN谱
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砷化镓中某些缺陷低温光致发光光谱的解释
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作者 邹重基 邹元燨 《应用科学学报》 CAS 1987年第2期108-112,共5页
本文对某些缺陷的低温光致发光光谱的解释提出了一种经验方法.将该法应用于文献中报道的非掺、LEC半绝缘砷化镓的低温光致发光光谱,得到了一些有用的结果.然后,对某些有关缺陷的本性提出了一些看法.
关键词 发射带 LEC 半绝缘 低温光致发光 位错密度 晶体生长 能级 砷化镓 砷化物
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CeO_2/Si薄膜的紫/蓝光跃迁 被引量:5
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作者 柴春林 杨少延 +2 位作者 刘志凯 廖梅勇 陈诺夫 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期780-782,共3页
利用双离子束外延技术制备了CeO2/Si薄膜,观察到了CeO2室温蓝光发光以及低温紫光致发光(PL)现象.利用XRD和XPS对薄膜结构及价态进行分析后表明,CeO2的发光机制是由于电子的Ce4f→O2p跃迁和缺陷能级→O2p能级跃迁共同作用的结果,并且这... 利用双离子束外延技术制备了CeO2/Si薄膜,观察到了CeO2室温蓝光发光以及低温紫光致发光(PL)现象.利用XRD和XPS对薄膜结构及价态进行分析后表明,CeO2的发光机制是由于电子的Ce4f→O2p跃迁和缺陷能级→O2p能级跃迁共同作用的结果,并且这些缺陷能级位于Ce4f能级上下1 eV的范围内. 展开更多
关键词 CeO2/Si薄膜 室温蓝发光 低温光致发光 薄膜结构 发光机制 能级跃迁 双离子束外延技术
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