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超宽禁带半导体β-Ga_2O_3及深紫外透明电极、日盲探测器的研究进展 被引量:38
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作者 郭道友 李培刚 +2 位作者 陈政委 吴真平 唐为华 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第7期7-42,共36页
β-Ga_2O_3是一种新型的超宽禁带氧化物半导体,禁带宽度约为4.9 eV,对应日盲区,对波长大于253 nm的深紫外一可见光具有高的透过率,是天然的日盲紫外探测及深紫外透明电极材料.本文介绍了Ga_20_3材料的晶体结构、基本物性与器件应用,并... β-Ga_2O_3是一种新型的超宽禁带氧化物半导体,禁带宽度约为4.9 eV,对应日盲区,对波长大于253 nm的深紫外一可见光具有高的透过率,是天然的日盲紫外探测及深紫外透明电极材料.本文介绍了Ga_20_3材料的晶体结构、基本物性与器件应用,并综述了β-Ga_2O_3在深紫外透明导电电极和日盲紫外探测器中的最新研究进展.Sn掺杂的Ga_2O_3薄膜电导率可达到32.3 S/cm,透过率大于88%,但离商业化的透明导电电极还存在较大差距.在日盲紫外探测器应用方面,基于异质结结构的器件展现出更高的光响应度和更快的响应速度,ZnO/Ga_2O_3核/壳微米线的探测器综合性能最佳,在-6 V偏压下其对254 nm深紫外光的光响应度达1.3×10~3A/W,响应时间为20μs. 展开更多
关键词 GA2O3 超宽带隙半导体 日盲探测器 深紫外透明电极
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基于氧化镓日盲紫外光电探测器的研究进展 被引量:27
2
作者 王江 罗林保 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第11期1-31,共31页
日盲紫外探测器以其较高的探测灵敏度和较低的背景噪声广泛应用于导弹制导、空间安全通信、臭氧层空洞监测和火焰检测等军事和民用领域。氧化镓(Ga_(2)O_(3))是一种典型的超宽禁带半导体材料,其较大的禁带宽度(4.2~5.3 eV)几乎占据太阳... 日盲紫外探测器以其较高的探测灵敏度和较低的背景噪声广泛应用于导弹制导、空间安全通信、臭氧层空洞监测和火焰检测等军事和民用领域。氧化镓(Ga_(2)O_(3))是一种典型的超宽禁带半导体材料,其较大的禁带宽度(4.2~5.3 eV)几乎占据太阳光谱的整个日盲波段,被认为是制备日盲紫外探测器的理想材料。主要介绍了Ga_(2)O_(3)。的不同晶体结构和基本特性,并综述了基于多种Ga_(2)O_(3)。结构的日盲紫外探测器的研究进展。基于Ga_(2)O_(3)。纳米线的器件的最大光响应度R>10^(3)A/W,外量子效率能达到10^(5)%;Ga_(2)O_(3)单晶器件的光响应度高达10^(3)~10^(5)A/W,外量子效率超过10^(6)%,响应速度较快(μs级)。Ga_(2)O_(3)基异质结、p-n结和肖特基结的日盲探测器表现出的自驱动特性使其在无需外加电源条件下就能正常工作,这在特殊环境下具有较大的应用潜力。 展开更多
关键词 光电探测器 氧化镓﹔超宽禁带半导体 日盲紫外 光响应
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Ga2O3功率器件研究现状和发展趋势 被引量:8
3
作者 孙学耕 张智群 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期241-249,284,共10页
氧化镓(Ga2O3)超宽禁带半导体材料在高频大功率器件领域具有巨大的应用潜力和前景,近几年已成为国内外研发的热点。概述了Ga2O3半导体材料在功率器件应用领域的特性优势和不足,重点介绍了日本、美国和国内的Ga2O3功率半导体器件的研... 氧化镓(Ga2O3)超宽禁带半导体材料在高频大功率器件领域具有巨大的应用潜力和前景,近几年已成为国内外研发的热点。概述了Ga2O3半导体材料在功率器件应用领域的特性优势和不足,重点介绍了日本、美国和国内的Ga2O3功率半导体器件的研发现状。详细介绍了目前Ga2O3肖特基势垒二极管(SBD)、Ga2O3金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)以及新型Ga2O3功率器件的最新研究成果。归纳出提高Ga2O3单晶和外延材料质量、优化Ga2O3功率器件结构和制造工艺是Ga2O3功率器件未来的主要发展趋势,高功率、高效率、高可靠性和低成本是Ga2O3功率器件未来的主要发展目标。最后总结了我国与美国、日本在Ga2O3功率半导体领域的技术发展差距,以及对未来我国在Ga2O3功率半导体技术方面的发展提出了建议。 展开更多
关键词 GA2O3 超宽禁带半导体 功率器件 Ga2O3肖特基势垒二极管(SBD) Ga2O3金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)
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立方氮化硼的研究进展 被引量:7
4
作者 刘彩云 高伟 殷红 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第5期781-800,共20页
立方氮化硼(c-BN)作为闪锌矿面心立方结构的Ⅲ-Ⅴ族二元化合物,是第三代半导体中禁带宽度最大的材料,还具有高热导率、高硬度、耐高温、耐氧化、化学稳定性好、透光波长范围广、可实现p型或n型掺杂等一系列性能优点,不仅作为超硬磨料在... 立方氮化硼(c-BN)作为闪锌矿面心立方结构的Ⅲ-Ⅴ族二元化合物,是第三代半导体中禁带宽度最大的材料,还具有高热导率、高硬度、耐高温、耐氧化、化学稳定性好、透光波长范围广、可实现p型或n型掺杂等一系列性能优点,不仅作为超硬磨料在各行业的加工领域有广泛的应用,而且作为极端电子学材料在大功率半导体和光电子器件等领域也具有潜在的应用价值,使其适用于高温、高功率、高压、高频以及强辐射等极端环境。本文综述了历年来国内外制备c-BN晶体和外延生长c-BN薄膜的发展历程,重点关注了生长技术进步和晶体质量提高的代表性成果,并对c-BN的机械性能、光学性能以及电学性能方面的研究进展进行阐述,最后对全文内容进行总结并对c-BN应用所面临的挑战进行展望。 展开更多
关键词 立方氮化硼 晶体 外延生长 超硬材料 超宽禁带半导体
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超宽禁带半导体β-Ga_(2)O_(3)相关研究进展 被引量:6
5
作者 王新月 张胜男 +3 位作者 霍晓青 周金杰 王健 程红娟 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第11期1995-2012,共18页
氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))是一种超宽禁带氧化物半导体材料,其相关研究起源于日本。21世纪初,日本东北大学利用浮区法获得了多晶向的高质量β-Ga_(2)O_(3)单晶晶圆,京都大学开展了β-Ga_(2)O_(3)薄膜外延研究并获得了高质量的同质外延片... 氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))是一种超宽禁带氧化物半导体材料,其相关研究起源于日本。21世纪初,日本东北大学利用浮区法获得了多晶向的高质量β-Ga_(2)O_(3)单晶晶圆,京都大学开展了β-Ga_(2)O_(3)薄膜外延研究并获得了高质量的同质外延片。在此基础上,日本信息通信研究机构于2012年构建了第一个β-Ga_(2)O_(3)金属半导体场效应晶体管(MESFET),证明了β-Ga_(2)O_(3)在功率器件领域拥有巨大潜能,开启了β-Ga_(2)O_(3)研发的新纪元。此后,国际上众多机构加入了β-Ga_(2)O_(3)单晶、外延、器件的研发潮流。随着研发工艺的进步,β-Ga_(2)O_(3)基功率器件的耐压上限一次次被刷新。本文梳理了β-Ga_(2)O_(3)单晶、外延、器件发展的时间线,汇总分析了β-Ga_(2)O_(3)功率器件的研究现状,指出存在的问题和可能的解决方案,并对其未来进行了展望,期望为以后的技术发展提供参考。 展开更多
关键词 氧化镓 晶体生长 外延 功率器件 浮区法 导模法超宽禁带半导体
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Heteroepitaxial growth of thick α-Ga_2O_3 film on sapphire(0001)by MIST-CVD technique 被引量:4
6
作者 Tongchuan Ma Xuanhu Chen +5 位作者 Fangfang Ren Shunming Zhu Shulin Gu Rong Zhang Youdou Zheng Jiandong Ye 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2019年第1期81-85,共5页
The 8 μm thick single-crystalline α-Ga2O3 epilayers have been heteroepitaxially grown on sapphire(0001) substrates via mist chemical vapor deposition technique. High resolution X-ray diffraction measurements show th... The 8 μm thick single-crystalline α-Ga2O3 epilayers have been heteroepitaxially grown on sapphire(0001) substrates via mist chemical vapor deposition technique. High resolution X-ray diffraction measurements show that the full-widths-at-halfmaximum(FWHM) of rocking curves for the(0006) and(10-14) planes are 0.024° and 0.24°, and the corresponding densities of screw and edge dislocations are 2.24 × 106 and 1.63 × 109 cm-2, respectively, indicative of high single crystallinity. The out-ofplane and in-plane epitaxial relationships are [0001] α-Ga2O3//[0001] α-Al2O3 and [11-20] α-Ga2O3//[11-20] α-Al2O3, respectively.The lateral domain size is in micron scale and the indirect bandgap is determined as 5.03 eV by transmittance spectra. Raman measurement indicates that the lattice-mismatch induced compressive residual strain cannot be ruled out despite the large thickness of the α-Ga2O3 epilayer. The achieved high quality α-Ga2O3 may provide an alternative material platform for developing high performance power devices and solar-blind photodetectors. 展开更多
关键词 ultra-wide bandgap semiconductor chemical vapor deposition EPITAXY GALLIUM oxide
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超宽禁带半导体氧化镓材料的专利分析
7
作者 崔颜军 闫春光 +4 位作者 宁平凡 牛萍娟 李明佳 孟宇陆 李雄杰 《河南科技》 2024年第10期134-138,共5页
【目的】氧化镓是一种超宽禁带半导体,具有耐高压、耐高温、功率大、抗辐照等特性,极有可能在未来成为高功率、大电压应用领域的主导者,在全球科研与产业界引起了广泛重视。从专利角度对氧化镓材料进行分析,为相关产业的发展和专利布局... 【目的】氧化镓是一种超宽禁带半导体,具有耐高压、耐高温、功率大、抗辐照等特性,极有可能在未来成为高功率、大电压应用领域的主导者,在全球科研与产业界引起了广泛重视。从专利角度对氧化镓材料进行分析,为相关产业的发展和专利布局提供参考。【方法】基于全球相关专利数据,从专利申请趋势、专利权人排名、技术来源国、技术领域IPC分类等维度对氧化镓材料进行分析。【结结果果】揭示了氧化镓在不同国家/地区的竞争态势、技术实力及我国与国际先进水平的差距。【结论】氧化镓材料的研究主要集中在半导体器件及晶体生长方面,国内相关研究起步晚,但发展迅速。 展开更多
关键词 超宽禁带半导体 专利分析 氧化镓 技术发展 晶体生长
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新一代功率半导体β-Ga2O3器件进展与展望 被引量:3
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作者 刁华彬 杨凯 +1 位作者 赵超 罗军 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第11期875-887,901,共14页
Ga2O3是一种新兴的超宽禁带半导体材料,具有超宽带隙4.8 eV、超高理论击穿电场8 MV/cm以及超高的Baliga品质因数等优良特性,作为下一代高功率器件材料其越来越受到人们的关注。首先,回顾了宽禁带半导体材料β-Ga2O3的基本性质,包括β-Ga... Ga2O3是一种新兴的超宽禁带半导体材料,具有超宽带隙4.8 eV、超高理论击穿电场8 MV/cm以及超高的Baliga品质因数等优良特性,作为下一代高功率器件材料其越来越受到人们的关注。首先,回顾了宽禁带半导体材料β-Ga2O3的基本性质,包括β-Ga2O3的晶体结构和电学性质,简述了基于β-Ga2O3制造的功率器件,主要包括肖特基势垒二极管(SBD)和金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)。总结回顾了β-Ga2O3SBD和MOSFET近年来的研究进展,比较了不同结构器件的特性,并分析了目前β-Ga2O3功率器件存在的问题。分析表明,β-Ga2O3用于高功率和高压电子器件具有巨大潜力。 展开更多
关键词 β-Ga2O3 超宽禁带半导体 功率器件 肖特基势垒二极管(SBD) 金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)
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The effect of oxygen on the epitaxial growth of diamond 被引量:1
9
作者 Meng Gong Yanan Chen +8 位作者 Wancheng Yu Peng Jin Zhanguo Wang Zhimin Wang Shenjin Zhang Feng Yang Fengfeng Zhang Qinjun Peng Zuyan Xu 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2018年第12期42-45,共4页
We studied the effect of oxygen on the growth quality of diamond epitaxial layers. After oxygen is added during the growth of the diamond epitaxial layer, as the thickness of the epitaxial layer increases, the full wi... We studied the effect of oxygen on the growth quality of diamond epitaxial layers. After oxygen is added during the growth of the diamond epitaxial layer, as the thickness of the epitaxial layer increases, the full width at half maximum of the rocking curve of the(004) plane of diamond epitaxial layer increases continuously, and, in addition, the intensities of both the Raman peaks and the free exciton emission peaks of the diamond epitaxial layer decrease continuously. These experimental results demonstrate that as the thickness of the diamond epitaxial layer increases, the quality of the diamond epitaxial layer degrades. The strong etching effect of the OH radical groups in the plasma on the diamond epilayers leads to the degradation of their crystallinity. 展开更多
关键词 DIAMOND ultra-wide bandgap semiconductor MPCVD oxygen effect
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提拉法生长超宽禁带半导体β-Ga2O3单晶的研究 被引量:2
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作者 赵绪尧 孙敦陆 +3 位作者 张会丽 方忠庆 权聪 程毛杰 《中国照明电器》 2017年第10期10-12,共3页
采用提拉法生长得到了新型超宽禁带透明半导体材料β-Ga_2O_3单晶,对其进行了物相分析和结晶质量的表征。XRD测试结果显示所获得的晶体为单一β相,晶体摇摆曲线半峰宽为3.48',峰形对称,表明具有较高的结晶质量。测试了晶体的透过光... 采用提拉法生长得到了新型超宽禁带透明半导体材料β-Ga_2O_3单晶,对其进行了物相分析和结晶质量的表征。XRD测试结果显示所获得的晶体为单一β相,晶体摇摆曲线半峰宽为3.48',峰形对称,表明具有较高的结晶质量。测试了晶体的透过光谱和荧光光谱,外推法得到晶体的禁带宽度为4.78 eV。 展开更多
关键词 β-Ga2O3单晶 提拉法 宽禁带半导体
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亚稳相Ga_(2)O_(3)异质外延的研究进展
11
作者 汪正鹏 叶建东 +6 位作者 郝景刚 张贻俊 况悦 巩贺贺 任芳芳 顾书林 张荣 《电子与封装》 2023年第1期96-108,共13页
作为一种新兴的超宽禁带半导体材料,氧化镓(Ga_(2)O_(3))被认为是下一代高功率电力电子器件领域的战略性先进电子材料。相较于热稳定的β-Ga_(2)O_(3),亚稳相Ga_(2)O_(3)表现出更为新颖的物理性质,逐渐受到关注。通过异质外延生长高质... 作为一种新兴的超宽禁带半导体材料,氧化镓(Ga_(2)O_(3))被认为是下一代高功率电力电子器件领域的战略性先进电子材料。相较于热稳定的β-Ga_(2)O_(3),亚稳相Ga_(2)O_(3)表现出更为新颖的物理性质,逐渐受到关注。通过异质外延生长高质量的亚稳相Ga_(2)O_(3)单晶薄膜是实现亚稳相Ga_(2)O_(3)基功率电子、微波射频和深紫外光电信息感知器件的重要前提。重点阐述了亚稳相Ga_(2)O_(3)的晶体结构、电子能带结构以及相关物理性质,总结了近年来亚稳相Ga_(2)O_(3)异质外延和能带工程的研究进展,并对未来亚稳相Ga_(2)O_(3)材料和器件的发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 超宽禁带半导体 亚稳相Ga_(2)O_(3) 异质外延 能带工程
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切割角蓝宝石基氧化镓薄膜MOCVD外延及日盲紫外光电探测器制备
12
作者 汪正鹏 张崇德 +8 位作者 孙新雨 胡天澄 崔梅 张贻俊 巩贺贺 任芳芳 顾书林 张荣 叶建东 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第6期1007-1015,共9页
本文使用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在不同切割角的c面蓝宝石衬底上外延氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))单晶薄膜,揭示了衬底切割角对外延薄膜晶体质量的影响规律。研究表明,当衬底切割角为6°时,β-Ga_(2)O_(3)外延膜具有较小的X射... 本文使用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在不同切割角的c面蓝宝石衬底上外延氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))单晶薄膜,揭示了衬底切割角对外延薄膜晶体质量的影响规律。研究表明,当衬底切割角为6°时,β-Ga_(2)O_(3)外延膜具有较小的X射线摇摆曲线半峰全宽(1.10°)和最小的表面粗糙度(7.7 nm)。在此基础上,采用光刻、显影、电子束蒸发及剥离工艺制备了金属-半导体-金属结构的日盲紫外光电探测器,器件的光暗电流比为6.2×10^(6),248 nm处的峰值响应度为87.12 A/W,比探测率为3.5×10^(15) Jones,带外抑制比为2.36×10^(4),响应时间为226.2μs。 展开更多
关键词 超宽禁带半导体 氧化镓薄膜 金属有机物化学气相沉积 日盲紫外光电探测器 切割角 外延
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温度对氮化铝表面形貌的调控及演化机理 被引量:1
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作者 牛慧丹 孔苏苏 +7 位作者 杨少延 刘祥林 魏鸿源 姚威振 李辉杰 陈庆庆 汪连山 王占国 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第11期1739-1747,共9页
氮化铝(AlN)是一种重要的超宽禁带半导体材料。本文研究了采用氢化物气相外延(HVPE)方法生长氮化铝的表面形貌演化和生长机理。AlN的制备过程是氮化处理后以700~1100℃的不同温度生长,得到四组不同温度下的表面形貌。结果表明,生长温度... 氮化铝(AlN)是一种重要的超宽禁带半导体材料。本文研究了采用氢化物气相外延(HVPE)方法生长氮化铝的表面形貌演化和生长机理。AlN的制备过程是氮化处理后以700~1100℃的不同温度生长,得到四组不同温度下的表面形貌。结果表明,生长温度对AlN的生长形貌和生长模式具有重要的影响。AlN的生长形貌体现在纳米尺度和微米尺度的形貌差异,该结果归因于受生长温度主导的Al原子的表面迁移能力和位错演化。另外,在900℃生长温度下得到具有倒金字塔结构的V坑形貌。V坑面为{10-11}半极性面,并遵循三维(3D)生长模式。这种具有半极性面微观形貌的AlN可作为模板进行半极性紫外LED器件结构或其他Ⅲ族氮化物外延生长,在光电子器件和电子器件研制方面具有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 超宽禁带半导体材料 氮化铝 氢化物气相外延 生长温度 表面形貌
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位置敏感日盲深紫外光电探测器
14
作者 廖梅勇 《中国科学:物理学、力学、天文学》 CSCD 北大核心 2021年第2期155-156,共2页
超宽禁带半导体β-Ga_(2)O_(3)的带隙约为4.9 eV,是理想的日盲深紫外光电探测材料.最近,研究者利用β-Ga_(2)O_(3)薄膜,成功研制了四象限结构位置敏感日盲深紫外光电探测器.该研究为Ga_(2)O_(3)在深紫外光、X射线定位或成像等领域的实... 超宽禁带半导体β-Ga_(2)O_(3)的带隙约为4.9 eV,是理想的日盲深紫外光电探测材料.最近,研究者利用β-Ga_(2)O_(3)薄膜,成功研制了四象限结构位置敏感日盲深紫外光电探测器.该研究为Ga_(2)O_(3)在深紫外光、X射线定位或成像等领域的实际应用提供了思路. 展开更多
关键词 光电导 超宽禁带半导体 位置敏感探测器
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超宽禁带半导体材料检测标准研究
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作者 曹可慰 《电子工业专用设备》 2019年第5期48-52,共5页
系统梳理了半导体材料和金刚石等超宽禁带半导体材料现行国际和国内标准体系,总结半导体材料标准化经验,结合超宽禁带半导体材料发展阶段和现阶段标准化需求,提出了超宽禁带半导体材料检测方法标准先行的发展思路,并具体提出了热导率、... 系统梳理了半导体材料和金刚石等超宽禁带半导体材料现行国际和国内标准体系,总结半导体材料标准化经验,结合超宽禁带半导体材料发展阶段和现阶段标准化需求,提出了超宽禁带半导体材料检测方法标准先行的发展思路,并具体提出了热导率、电学性质、位错密度、几何尺寸和表面粗糙度五项超宽禁带半导体材料检测标准需求。 展开更多
关键词 超宽禁带半导体材料 检测标准 检测方法
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