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Type Inversion and Certain Physical Properties of Spray Pyrolysed SnO_2:Al Films for Novel Transparent Electronics Applications 被引量:2
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作者 K.Ravichandran K.Thirumurugan 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第2期97-102,共6页
Aluminium doped tin oxide films have been deposited onto glass substrates by using a simplified and low cost spray pyrolysis technique. The AI doping level varies between 0 and 30 at.% in the step of 5 at.%. The resis... Aluminium doped tin oxide films have been deposited onto glass substrates by using a simplified and low cost spray pyrolysis technique. The AI doping level varies between 0 and 30 at.% in the step of 5 at.%. The resistivity (p) is the minimum (0.38 Ω cm) for 20 at.% of AI doping. The possible mechanism behind the phenomenal zig-zag variation in resistivity with respect to AI doping is discussed in detail. The nature of conductivity changes from n-type to p-type when the AI doping level is 10 at.%. The results show that 20 at.% is the optimum doping level for good quality p-type SnO2:AI films suitable for transparent electronic devices. 展开更多
关键词 tin oxide films P-type transparent conducting oxide (TCO) Spray pyrolysis Transparent electronics Electrical properties Optical properties
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钢化过程中低辐射玻璃SnO_x:F薄膜氧含量的变化及其影响 被引量:4
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作者 杨静凯 赵洪力 +1 位作者 董立中 张福成 《燕山大学学报》 CAS 2012年第6期482-485,490,共5页
采用有机金属化合物化学气相沉积法(MOCVD)在浮法玻璃上沉积了F掺杂的氧化锡薄膜,制备低辐射镀膜玻璃,并在高温电阻炉和钢化炉内分别进行热处理和钢化实验,对不同条件下的电学性能进行了研究。采用XPS和AES对薄膜中[O]/[Sn]平均含量的... 采用有机金属化合物化学气相沉积法(MOCVD)在浮法玻璃上沉积了F掺杂的氧化锡薄膜,制备低辐射镀膜玻璃,并在高温电阻炉和钢化炉内分别进行热处理和钢化实验,对不同条件下的电学性能进行了研究。采用XPS和AES对薄膜中[O]/[Sn]平均含量的变化进行了分析。结果表明,在650℃之内,表面电阻没有发生明显改变,但此后快速上升至86.68Ω/□;薄膜O和Sn的含量不符合化学计量比,[O]/[Sn]比均小于1.20;随着热处理温度的提高和时间的延长,薄膜中O含量有所提高,与表面电阻的变化趋势接近。 展开更多
关键词 低辐射玻璃 氧化锡薄膜 钢化 表面电阻 光电子能谱
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Enhancement and Optimization of ATO Nano-crystalline Films Properties by the Addition of Acetylacetone as Modifier in the Sol-gel Process 被引量:2
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作者 Galaviz-pérez J A CHEN Fei +2 位作者 SHEN Qiang Vargas-garcía J R 张联盟 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2015年第5期873-881,共9页
Sb-doped Sn O2(ATO) thin films have been prepared using the spin coating method by selecting the proper amount of acetylacetone as solution modifier. All ATO powders and films exhibited the cassiterite rutile-like str... Sb-doped Sn O2(ATO) thin films have been prepared using the spin coating method by selecting the proper amount of acetylacetone as solution modifier. All ATO powders and films exhibited the cassiterite rutile-like structure in a crystal size below 10 nm under all the experimental conditions and a nonpreviously reported crystal structure was observed at high acetylacetone loads. The acetylacetone molar ratio influenced notably the optical and electrical properties of ATO films. When prepared at an acetylacetone molar ratio of 4, ATO films exhibited optical transparencies above 90% in the visible region and above 40% in the UV region for thicknesses of 100 and 300 nm. Films in a thickness of 100 nm and at an annealing temperature of 650 ℃ accounted for a high transparency of 97% in the visible wavelength. Films prepared at an acetylacetone molar ratio of 4 exhibited an electric resistivity of 1.33×10-3 Ω·cm at an annealing temperature of 650 ℃. The optimal Sb content for ATO films was found to be 8 at%. The relationships among the properties of starting solutions, the experimental parameters, and properties of ATO films are discussed. 展开更多
关键词 tin oxide films antimony doping ACETYLACETONE optical transparency electric properties
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SnCl_4结晶水对SnO_2成膜的光电性质影响 被引量:2
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作者 徐慢 袁启华 +1 位作者 徐建梅 赵宏声 《武汉工业大学学报》 CSCD 1995年第3期13-15,共3页
报道了用无水SnCl4和SnCl4·5H2O为原料,用热喷涂法制备SnO2薄膜,在基片温度为530℃时,制得薄膜的X-射线,SEM图及其光电性质.总结出含H2O的SnCl4制得的薄膜生长速度快,电阻率低,两者在结... 报道了用无水SnCl4和SnCl4·5H2O为原料,用热喷涂法制备SnO2薄膜,在基片温度为530℃时,制得薄膜的X-射线,SEM图及其光电性质.总结出含H2O的SnCl4制得的薄膜生长速度快,电阻率低,两者在结构上无明显差异。 展开更多
关键词 薄膜 氧化锡 光电性质 氯化锡 结晶水
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氮掺杂对SnO2薄膜光电性能的影响 被引量:1
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作者 丁啸雄 方峰 蒋建清 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期379-384,共6页
SnO2薄膜具有透明导电的特性,因而被制成透明电极而广泛应用于平板显示器和太阳能电池中。研究表明,经掺杂的薄膜具有更优异的光电性能,然而传统的掺杂元素Sb,Te或F较为昂贵且有毒性,因此,掺氮将有望解决上述问题。本文利用反应射频磁... SnO2薄膜具有透明导电的特性,因而被制成透明电极而广泛应用于平板显示器和太阳能电池中。研究表明,经掺杂的薄膜具有更优异的光电性能,然而传统的掺杂元素Sb,Te或F较为昂贵且有毒性,因此,掺氮将有望解决上述问题。本文利用反应射频磁控溅射法制备出不同氧含量的SnO2以及氮掺杂SnO2薄膜,并分析了薄膜的形貌结构及光电性能。结果表明:薄膜沉积过程中氧分压和氮掺杂对薄膜性能影响较大。在SnO2薄膜中,晶粒呈包状形态,随着氧分压的增加,晶粒取向从(101)转向(110)方向,晶粒尺寸逐渐变小,可见光透光率提升到80%以上,光学带隙增加到4.05 eV;在氮掺杂SnO2薄膜中,晶粒呈四棱锥形态,晶粒取向为(101)方向,随着氧分压的增加,可见光的透过率同样提升到80%以上,光学带隙增加到3.99 eV。SnO2薄膜和氮掺杂SnO2薄膜的电阻率最低分别达到1.5×10-1和4.8×10-3Ω.cm。 展开更多
关键词 SNO2薄膜 氮掺杂 光电性能 磁控溅射
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溅射功率对氧化锡薄膜结构和电化学性能的影响
6
作者 蔡敏真 宋杰 +3 位作者 吴启辉 郑明森 吴孙桃 董全峰 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期66-70,共5页
应用射频磁控溅射技术在硅基底上制备氧化锡薄膜,着重研究溅射功率对薄膜结构和电化学性能的影响.XRD,SEM分析及恒电流充放电测试表明,随着溅射功率的增大,薄膜的结晶程度提高;生长速率和晶粒尺寸增大;电池的贮锂容量减少,且首圈不可逆... 应用射频磁控溅射技术在硅基底上制备氧化锡薄膜,着重研究溅射功率对薄膜结构和电化学性能的影响.XRD,SEM分析及恒电流充放电测试表明,随着溅射功率的增大,薄膜的结晶程度提高;生长速率和晶粒尺寸增大;电池的贮锂容量减少,且首圈不可逆容量损失增大.溅射功率对薄膜的电化学性能有较大的影响. 展开更多
关键词 氧化锡薄膜 阳极材料 磁控溅射 电化学性能
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锡氧化物电热膜的过电压耐量问题
7
作者 张治国 《泉州师范学院学报》 2009年第2期25-29,共5页
从电热转换元件的电毁现象出发,利用膜材料电性能的各向同性性质,建立了一维晶粒列模型,给出了晶粒列模型的平衡态能带图和带尾态分布以及在外加电压下的非平衡态能带图,并分析了自由电子在越过晶间势垒时受到的加速和散射的情况.通过... 从电热转换元件的电毁现象出发,利用膜材料电性能的各向同性性质,建立了一维晶粒列模型,给出了晶粒列模型的平衡态能带图和带尾态分布以及在外加电压下的非平衡态能带图,并分析了自由电子在越过晶间势垒时受到的加速和散射的情况.通过导出数学模型,得出了电子束的电毁能量应大于等于晶体结合能的结论,并得到了晶粒子大小不同的膜材料有不同的过电压耐量的比值,为元件的工艺设计、可靠性研究和过电压保护器件研究提供了参考. 展开更多
关键词 锡氧化物薄膜 电热材料 电毁电压比
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ITO薄膜的光学和电学性质及其应用 被引量:30
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作者 马勇 孔春阳 《重庆大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第8期114-117,共4页
介绍了氧化铟锡 (ITO)薄膜的光学和电学性质及应用。优化的ITO薄膜有立方铁锰矿结构。掺杂的Sn替代In2 O3 晶格上的In原子 ,每个Sn原子可以看作给导带提供一个自由电子。ITO薄膜载流子浓度为~ 10 2 0 cm-3 ,电阻率为~ 10 -4Ωcm ,是... 介绍了氧化铟锡 (ITO)薄膜的光学和电学性质及应用。优化的ITO薄膜有立方铁锰矿结构。掺杂的Sn替代In2 O3 晶格上的In原子 ,每个Sn原子可以看作给导带提供一个自由电子。ITO薄膜载流子浓度为~ 10 2 0 cm-3 ,电阻率为~ 10 -4Ωcm ,是高度简并半导体 ,其能带为抛物线型结构。由于Burstein -Moss效应 ,光学能隙加宽。除了紫外带间吸收和远红外的声子吸收 ,Drude理论与ITO的介电常数实际值符合得很好 ,说明自由电子对ITO薄膜的光学性质有决定性作用。 展开更多
关键词 ITO薄膜 结构 能带 电学性质 氧化铟锡薄膜 光学性质
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有机衬底SnO_2:Sb透明导电膜的制备与特性研究 被引量:8
9
作者 郝晓涛 马瑾 +4 位作者 徐现刚 杨莺歌 张德恒 杨田林 马洪磊 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期351-354,共4页
常温下 ,采用射频磁控溅射法在有机的柔性衬底上制备出了SnO2 :Sb透明导电膜 ,并对薄膜的结构和光电性质进行了研究 .制备的样品为多晶薄膜 ,并且保持了二氧化锡的金红石结构 .性能良好的薄膜电阻率为 6 .5× 10 - 3Ω·cm ,载... 常温下 ,采用射频磁控溅射法在有机的柔性衬底上制备出了SnO2 :Sb透明导电膜 ,并对薄膜的结构和光电性质进行了研究 .制备的样品为多晶薄膜 ,并且保持了二氧化锡的金红石结构 .性能良好的薄膜电阻率为 6 .5× 10 - 3Ω·cm ,载流子浓度为 1.2× 10 2 0 cm- 3 ,霍耳迁移率是 9.7cm2 ·V- 1 ·s- 1 .薄膜在可见光区的平均透过率达到了 85 %. 展开更多
关键词 柔性衬底 SnO2:Sb透明导电膜 射频磁控溅射法 制备 氧化锡 光学透过率 光电性质 结构
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磁控溅射法在有机衬底上制备SnO_2掺Sb透明导电膜 被引量:8
10
作者 杨田林 杨光德 +1 位作者 高绪团 万云芳 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第12期64-67,共4页
采用射频磁控溅射法在有机柔性衬底上制备出了SnO2: Sb透明导电膜,讨论了薄膜的结构和光电性质对制备条件的依赖关系。制备的样品为多晶薄膜,并且保持了二氧化锡的金红石结构。对衬底适当地加热,当衬底温度为200℃时,在PI(聚酰亚胺)胶... 采用射频磁控溅射法在有机柔性衬底上制备出了SnO2: Sb透明导电膜,讨论了薄膜的结构和光电性质对制备条件的依赖关系。制备的样品为多晶薄膜,并且保持了二氧化锡的金红石结构。对衬底适当地加热,当衬底温度为200℃时,在PI(聚酰亚胺)胶片上制备出了性能良好的薄膜,薄膜相应自由载流子霍耳迁移率的最大值为13.9cm2/V·s,载流子浓度为15.5×1019 cm-3,薄膜电阻率的最小值为3.7×10-3W·cm。在可见光范围内,样品的相对透过率为85%左右。 展开更多
关键词 磁控溅射法 制备 SNO2 Sb透明导电膜
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有机衬底SnO_2∶Sb透明导电膜的研究 被引量:8
11
作者 马瑾 郝晓涛 +2 位作者 马洪磊 张德恒 徐现刚 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期599-603,共5页
采用射频磁控溅射法在有机薄膜衬底上制备出 Sn O2 ∶ Sb透明导电膜 ,并对薄膜的结构和光电特性以及制备参数对薄膜性能的影响进行了研究 .制备的样品为多晶薄膜 ,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构 .Sn O2 ∶ Sb薄膜中 Sb2 O3的最佳掺... 采用射频磁控溅射法在有机薄膜衬底上制备出 Sn O2 ∶ Sb透明导电膜 ,并对薄膜的结构和光电特性以及制备参数对薄膜性能的影响进行了研究 .制备的样品为多晶薄膜 ,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构 .Sn O2 ∶ Sb薄膜中 Sb2 O3的最佳掺杂比例为 6 % .适当调节制备参数 ,可以获得在可见光范围内平均透过率大于 85 %的有机衬底 Sn O2 ∶ Sb透明导电薄膜 ,其电阻率~ 3.7× 10 - 3Ω· cm ,载流子浓度~ 1.5 5× 10 2 0 cm- 3,霍耳迁移率~ 13cm2 · V- 1 · 展开更多
关键词 有机衬底 SnO2:Sb膜 磁控溅射 透明导电膜 二氧化锡
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直流磁控溅射工艺对ITO薄膜光电性能的影响 被引量:11
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作者 彭寿 蒋继文 +7 位作者 李刚 张宽翔 杨勇 姚婷婷 金克武 曹欣 徐根保 王芸 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期987-994,共8页
采用直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、分光光度计、Hall效应测试系统研究了热退火与原位生长、衬底温度、直流溅射功率对薄膜结构、表面形貌以及光电性能的影响。结果表明:与... 采用直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、分光光度计、Hall效应测试系统研究了热退火与原位生长、衬底温度、直流溅射功率对薄膜结构、表面形貌以及光电性能的影响。结果表明:与室温生长并经410℃热退火后的薄膜相比,410℃原位生长可获得光电性能更好的薄膜;随着衬底温度的增加,电阻率单调减小,光学吸收边出现蓝移;在溅射功率为85 W时薄膜的光电性能达到最佳。在衬底温度为580℃、溅射功率为85 W的工艺条件下,可制备出电阻率为1.4×10^(–4)?·cm、可见光范围内平均透过率为93%的光电性能优异的ITO薄膜。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 氧化铟锡薄膜 衬底温度 溅射功率
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有机衬底SnO_2掺Sb透明导电膜的制备 被引量:6
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作者 杨田林 韩圣浩 +1 位作者 高绪团 杨光德 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期273-277,共5页
采用射频磁控溅射法在有机的柔性衬底上制备出了SnO2 :Sb透明导电膜 ,讨论了薄膜的结构和光电性质对制备条件的依赖关系。制备的样品为多晶薄膜 ,并且保持了二氧化锡的金红石结构。对衬底适当的加热 ,当衬底温度为2 0 0℃时 ,在PI(Polyi... 采用射频磁控溅射法在有机的柔性衬底上制备出了SnO2 :Sb透明导电膜 ,讨论了薄膜的结构和光电性质对制备条件的依赖关系。制备的样品为多晶薄膜 ,并且保持了二氧化锡的金红石结构。对衬底适当的加热 ,当衬底温度为2 0 0℃时 ,在PI(Polyisocyanate聚酰亚胺 )胶片上制备出了性能良好的薄膜 ,薄膜相应的自由载流子霍耳迁移率有最大值为 13cm2 /VS ,载流子浓度为 15 .5× 10 19cm-3 ,薄膜的电阻率有最小值 3.7× 10 -3 Ω·cm。在可见光范围内 ,样品的相对透过率为 85 展开更多
关键词 柔性衬底 SnO2:Sb透明导电膜 射频磁控溅射
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氧流量对铟锡氧化物薄膜光电性能的影响 被引量:6
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作者 李世涛 乔学亮 陈建国 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期138-141,共4页
采用射频磁控溅射法,在不同氧流量(0~10sccm)的条件下沉积了铟锡氧化物(In2O3-SnO2)透明导电薄膜。紫外分光光度计测试薄膜的透射率,四点探针测试薄膜的方阻,椭偏仪测试薄膜的复折射率和薄膜厚度,XPS测试ITO薄膜的成分和电子结构。结果... 采用射频磁控溅射法,在不同氧流量(0~10sccm)的条件下沉积了铟锡氧化物(In2O3-SnO2)透明导电薄膜。紫外分光光度计测试薄膜的透射率,四点探针测试薄膜的方阻,椭偏仪测试薄膜的复折射率和薄膜厚度,XPS测试ITO薄膜的成分和电子结构。结果表明:薄膜的沉积速率和折射率与氧流量有关,薄膜厚度为60nm,氧流量在9sccm时,透射率超过80%(波长λ=400nm^700nm,包括玻璃基体),退火后透射率、方阻明显改善。XPS分析表明,薄膜中的亚氧化物的存在降低了薄膜的光电性能,控制氧流量可减少亚氧化物。 展开更多
关键词 磁控溅射 铟锡氧化物 透明导电薄膜 氧流量
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气溶胶辅助CVD法制备F掺杂SnO_2薄膜及其性能 被引量:6
15
作者 王轩 梁波 +2 位作者 邸庆银 赵洪力 杨静凯 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期243-249,共7页
采用气溶胶辅助化学气相沉积法(AACVD)在玻璃衬底上沉积F掺杂SnO_2(FTO)薄膜,研究了前驱液中不同F/Sn摩尔比制备的FTO薄膜的结构、表面形貌、光学、电学及光致发光性能。结果表明:所制备FTO薄膜均为(200)面择优取向的多晶四方金红石相结... 采用气溶胶辅助化学气相沉积法(AACVD)在玻璃衬底上沉积F掺杂SnO_2(FTO)薄膜,研究了前驱液中不同F/Sn摩尔比制备的FTO薄膜的结构、表面形貌、光学、电学及光致发光性能。结果表明:所制备FTO薄膜均为(200)面择优取向的多晶四方金红石相结构;前驱液中F/Sn摩尔比的增加,会导致(110)面的衍射峰强度增加,薄膜表面堆积颗粒形状发生变化,薄膜样品光学透过率提升;当F/Sn摩尔比=40%时,FTO薄膜具有最大的载流子浓度1.031×10^(21) cm^(–3)以及最小的电阻率3.42×10^(–4)?·cm,这可归结为适量F的存在产生不同的缺陷影响。(200)面择优取向FTO薄膜光致发光谱可用于表征不同缺陷形式的跃迁。 展开更多
关键词 气溶胶辅助化学气相沉积法 氟掺杂二氧化锡薄膜 氟掺杂量 电学性能 光致发光
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Effect of surfactants on the structure and photoelectric properties of ITO films by sol-gel method 被引量:4
16
作者 LIU Jiaxiang, WU Da, ZHANG Nan, and WANG Yue College of Materials Science and Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing 100029, China 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第2期143-148,共6页
The Indium tin oxide(ITO) thin film possesses excellent photoelectric properties that enable it to act as an ideal transparent conductor.To obtain high-quality ITO films through sol-gel method, the ionic surfactant ... The Indium tin oxide(ITO) thin film possesses excellent photoelectric properties that enable it to act as an ideal transparent conductor.To obtain high-quality ITO films through sol-gel method, the ionic surfactant monoethanolamine and the non-ionic surfactant polyethylene glycol(PEG) were added to the ITO precursor slurry.The influences of surfactants on the structural and photoelectric properties of ITO film samples were investigated.XRD patterns indicated that surfactant monoethanolamine contributed to film predominant grain orientation along the(400) plane.The high transmittance(over 95%) was attributed to the preferred orientation and the grain size expansion of ITO films.SEM showed that the surface particle size and the morphology of ITO films were strongly dependent on the kind of surfactants used.Moving to the shortwave region, the absorption edge of the films exhibited the Burstein-Moss shift. 展开更多
关键词 surfactants indium tin oxide films sol-gel structure photoelectricity
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基于氧化铟锡薄膜的医用护目镜加温除雾技术研究 被引量:1
17
作者 王宜馨 王洪亮 +2 位作者 施锦玮 皮大伟 王显会 《南京理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第1期15-23,共9页
为了解决传统除雾方法在抗击新冠肺炎疫情的过程中所出现的除雾时效短且效果不稳定等问题,该文提出一种基于氧化铟锡(Indium tin oxide,ITO)薄膜的医用护目镜加温除雾技术。该技术提出了加温除雾装置系统方案,并利用ANSYS软件模拟该除... 为了解决传统除雾方法在抗击新冠肺炎疫情的过程中所出现的除雾时效短且效果不稳定等问题,该文提出一种基于氧化铟锡(Indium tin oxide,ITO)薄膜的医用护目镜加温除雾技术。该技术提出了加温除雾装置系统方案,并利用ANSYS软件模拟该除雾技术的使用环境并分析对应的温度场,获得了针对不同室温所需的除雾参数,同时以仿真结果为参考,进行了除雾效果验证试验,得到了不同环境温度下的最佳除雾温度。试验结果表明,该文提出的护目镜ITO薄膜加温除雾技术能有效延长除雾时间,且能保持除雾效果的稳定性。 展开更多
关键词 氧化铟锡薄膜 护目镜 除雾 新冠肺炎
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基材温度对铟锡氧化物膜结构与电性能的影响 被引量:2
18
作者 刘静 李秀荣 李长珍 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期251-254,共4页
采用阴极磁控溅射法 ,在不同基片温度 (180~ 30 0℃ )条件下镀覆铟锡氧化物 (ITO)透明导电膜 .由X射线衍射分析试样结构随温度的变化 ,并测试了样品的方块电阻、电阻率、Hall迁移率、载流子浓度等电性能和膜层的可见光透过率 .基片温度... 采用阴极磁控溅射法 ,在不同基片温度 (180~ 30 0℃ )条件下镀覆铟锡氧化物 (ITO)透明导电膜 .由X射线衍射分析试样结构随温度的变化 ,并测试了样品的方块电阻、电阻率、Hall迁移率、载流子浓度等电性能和膜层的可见光透过率 .基片温度为 180℃时 ,ITO膜 (2 2 2 )衍射峰很强 ,具有 [111]方向择优取向 ;随温度的升高 ,(40 0 )、(44 0 )衍射峰增强 ,晶面随机取向增加 ,同时晶粒变大 ,电阻率降低 .30 0℃时晶粒尺寸为 43 .5nm ,电阻率为 6 .8× 10 - 5 Ω·cm . 展开更多
关键词 铟锡氧化物膜 磁控溅射 基片温度 电性能 镀膜
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Preparation,Characterization and Electronic Properties of Fluorine-doped Tin Oxide Films 被引量:1
19
作者 Velázquez-Nevárez G A Vargas-García J R +3 位作者 Lartundo-Rojas L CHEN Fei SHEN Qiang ZHANG Lianmeng 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2016年第1期48-51,共4页
Tin oxide(SnO2) and fluorine doped tin oxide(FTO) films were prepared on glass substrates by sol-gel spin-coating using SnCl4 and NH4F precursors.Fluorine doping concentration was fixed at 4 at%and 20 at%by contro... Tin oxide(SnO2) and fluorine doped tin oxide(FTO) films were prepared on glass substrates by sol-gel spin-coating using SnCl4 and NH4F precursors.Fluorine doping concentration was fixed at 4 at%and 20 at%by controlling precursor sol composition.Films exhibited the tetragonal rutile-type crystal structure regardless of fluorine concentration.Uniform and highly transparent FTO films,with more than 85%of optical transmittance,were obtained by annealing at 600℃.Florine doping of films was verified by analyzing the valence band region obtained by XPS.It was found that the fluorine doping affects the shape of valence band of SnO2 films.In addition,it was observed that the band gap of SnO2 is reduced as well as the Fermi level is upward shifted by the effect of fluorine doping. 展开更多
关键词 tin oxide films fluorine doping energy band diagram
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氧化铟锡透明导电玻璃可见光透射率的研究 被引量:2
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作者 茅昕辉 张浩康 陈国平 《电子器件》 EI CAS 1997年第3期31-35,共5页
随着近年来平板显示工业的飞速发展,ITO透明导电玻璃获得了广泛的应用。透明导电玻璃的可见光透射率和ITO膜的膜厚有关,本文通过实验数据和理论计算。
关键词 氧化铟锡 透明导电玻璃 可见光透射率
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