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改性石墨烯光催化薄膜的制备及可见光光催化性能 被引量:5
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作者 郑艳银 顾宝珊 +4 位作者 孙世清 刘洋洋 梁东明 杨培燕 张启富 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期250-256,285,共8页
根据改进的Hummers法制备了5mg/mL的改性石墨烯分散液并采用匀胶法在玻璃片上制备改性石墨烯薄膜,分别研究了转速(600~2000r/min)、滴胶时间(10~30s)、转加速度(100~500r·min^(-1)·s^(-1))、pH值(4~12)等匀胶工艺条件对... 根据改进的Hummers法制备了5mg/mL的改性石墨烯分散液并采用匀胶法在玻璃片上制备改性石墨烯薄膜,分别研究了转速(600~2000r/min)、滴胶时间(10~30s)、转加速度(100~500r·min^(-1)·s^(-1))、pH值(4~12)等匀胶工艺条件对改性石墨烯薄膜附着力的影响;通过拉曼光谱以及激光共聚焦光谱等方法,对改性石墨烯及其薄膜的微观形貌、成分、结构进行表征研究;以亚甲基蓝作为目标降解物,研究了改性石墨烯薄膜在可见光照射下的光催化性能,初步揭示了其可见光催化原理。结果如下:①确定了匀胶镀膜的优化工艺,成功制备的改性石墨烯薄膜对亚甲基蓝的可见光光催化降解率达35.3%。②激光共聚焦显微镜测定改性石墨烯薄膜在422nm处有最大吸收峰。 展开更多
关键词 改性石墨烯薄膜 匀胶工艺 可见光光催化
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旋涂工艺对镁合金表面环氧涂层结构及性能的影响
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作者 王毅梦 王硕 李悦铭 《商洛学院学报》 2023年第4期59-63,68,共6页
为了获得覆盖均匀、厚度适中的环氧涂层,采用旋涂法在镁合金基体上涂覆形状记忆环氧树脂,选择不同旋涂速度和旋涂次数设计旋涂工艺,通过涂层厚度测试、电化学阻抗、浸泡试验等对样品的表面形貌、耐蚀性能进行了测试。结果表明,旋涂转速... 为了获得覆盖均匀、厚度适中的环氧涂层,采用旋涂法在镁合金基体上涂覆形状记忆环氧树脂,选择不同旋涂速度和旋涂次数设计旋涂工艺,通过涂层厚度测试、电化学阻抗、浸泡试验等对样品的表面形貌、耐蚀性能进行了测试。结果表明,旋涂转速、旋涂次数对涂层厚度及耐蚀性影响很大,适当提高旋涂速度可降低单层涂层厚度。适当增加旋涂次数能使膜层厚度明显增加,且涂层更均匀,有助于修补涂层缺陷位置。当采用低速+高速多次旋涂的方式时,所制备涂层表面均匀致密且具有优异的耐蚀性能,平均厚度约为114.9μm,腐蚀介质中浸泡400 d以内涂层无鼓包、脱落现象,180 d内电化学阻抗模值log|Z|一直稳定在最高值。 展开更多
关键词 镁合金 环氧涂层 旋涂工艺
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ICF分解实验用双介质调制靶的研制 被引量:4
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作者 朱秀榕 周斌 +1 位作者 杜艾 李晓芬 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第1期118-123,共6页
为了研究惯性约束聚变(ICF)实验用靶丸不同密度界面的流体力学不稳定性增长,设计并制备了聚苯乙烯(CH)/碳气凝胶(CRF),CRF/硅气凝胶(SiO2)和CH/Al三种双介质调制靶。采用溶胶-凝胶工艺制备了密度分别为250和800mg/cm3的CRF气凝胶薄片;... 为了研究惯性约束聚变(ICF)实验用靶丸不同密度界面的流体力学不稳定性增长,设计并制备了聚苯乙烯(CH)/碳气凝胶(CRF),CRF/硅气凝胶(SiO2)和CH/Al三种双介质调制靶。采用溶胶-凝胶工艺制备了密度分别为250和800mg/cm3的CRF气凝胶薄片;采用激光微加工工艺分别在两种不同密度的CRF薄片和工业用纯Al箔上引入调制图形;采用旋涂工艺在Al箔和CRF薄片(250mg/cm3)的调制表面制备一层CH薄膜,得到CH/Al和CH/CRF双介质调制靶,采用溶胶-凝胶工艺在CRF薄片(800mg/cm3)表面制备一层低密度SiO2气凝胶,得到CRF/SiO2双介质调制靶。采用电子天平、扫描电子显微镜、工具显微镜和台阶仪对所制备的CH/CRF,CRF/SiO2和CH/Al三种双介质调制靶进行靶参数测量。结果表明:三种双介质调制靶层与层之间结合紧密,界面清晰,调制图形为正弦,靶参数测量准确。 展开更多
关键词 惯性约束聚变 双介质调制靶 流体力学不稳定性 碳气凝胶 旋涂工艺 激光微加工
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ICF流体力学不稳定性实验用柱状激波管的研制 被引量:3
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作者 朱秀榕 周斌 +1 位作者 杜艾 李晓芬 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第2期80-86,共7页
在惯性约束聚变(ICF)实验中,点火靶丸表面(界面)的粗糙度和缺陷所产生的流体力学不稳定性是决定点火成功与否的关键因素之一,设计和研制流体力学不稳定性分解实验用靶是解决该问题的主要技术手段。结合国内外的研究现状和神光-Ⅱ激光装... 在惯性约束聚变(ICF)实验中,点火靶丸表面(界面)的粗糙度和缺陷所产生的流体力学不稳定性是决定点火成功与否的关键因素之一,设计和研制流体力学不稳定性分解实验用靶是解决该问题的主要技术手段。结合国内外的研究现状和神光-Ⅱ激光装置的特点,设计并研制了一种新型柱状激波管。该靶型由三种介质组成,分别为调制聚苯乙烯(CH)圆片、柱状碳气凝胶(CRF)和CH微套管。调制CH圆片和柱状CRF通过微加工技术装配到CH微套管内,封装后形成柱状激波管。介绍了该靶型的设计原理和详细的制备工艺,并对相应的靶参数进行了测量。结果表明:柱状CRF气凝胶具有较好的成型性,长度、直径和密度分别为1000μm、730μm和250mg·cm-3;CH圆片的厚度和直径分别为15μm和730μm,表面调制图形的周期和峰谷差分别为100μm和4.3μm;实验得到的柱状激波管的轴向和径向最大装配误差分别为2μm和3μm。 展开更多
关键词 惯性约束聚变 流体力学不稳定性 柱状激波管 柱状碳气凝胶 旋涂工艺 微加工
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CCD紫外增强薄膜旋涂法工艺优化 被引量:2
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作者 冯宇祥 孟银霞 +2 位作者 张国玉 吴一辉 郝鹏 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第9期2826-2831,共6页
在硅基探测器的入射窗上制备荧光下转换薄膜,是一种有效降低成本的紫外荧光增强技术。从理论上探讨了由聚二甲基硅氧烷与颜料黄101混合胶体的紫外荧光薄膜旋涂工艺参数与性能之间关系,搭建紫外荧光薄膜应用于光谱分析的性能测试实验平台... 在硅基探测器的入射窗上制备荧光下转换薄膜,是一种有效降低成本的紫外荧光增强技术。从理论上探讨了由聚二甲基硅氧烷与颜料黄101混合胶体的紫外荧光薄膜旋涂工艺参数与性能之间关系,搭建紫外荧光薄膜应用于光谱分析的性能测试实验平台,对紫外荧光增强薄膜旋涂工艺参数质量配比、旋涂转速进行优化。光谱分析探测器有两个主要指标,光谱响应灵敏度和光谱分辨率,分析与实验结果表明,利用旋涂法制备紫外增强荧光薄膜,旋涂转速将直接影响薄膜的厚度、表面粗糙度和荧光物质的分布,从而影响光谱分析系统的分辨率;紫外荧光增强薄膜的增强效率与荧光溶剂聚二甲基硅氧烷与荧光物质颜料黄101的质量比密切相关,质量比低无法满足对紫外响应效率的提高,但高质量比,荧光物质处在聚集态荧光自猝灭严重,也不利于增强薄膜的紫外响应效率。最终,在薄膜旋涂工艺优化的基础上,旋涂转速2 500~3 000r·min^(-1),荧光物质与荧光溶剂质量比为7∶100制备出紫外荧光增强薄膜。汞灯特征光谱测试结果表明该薄膜313nm紫外波长处探测响应灵敏度提高了1.6倍左右,对比分析镀膜前后特征光谱的半波带宽,镀制紫外增强荧光薄膜对其影响很小。 展开更多
关键词 紫外增强 旋涂法 荧光薄膜 工艺优化
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Synthesis of Aluminum-doped Zinc Oxide Nanowires Hydrothermally Grown on Plastic Substrate
6
作者 Concepción Mejía García Elvia Díaz Valdés +4 位作者 Ana Ma. Paniagua Mercado Arturo F. Méndez Sánchez José A. Andraca Adame Velumani Subramaniam Josué Romero Ibarra 《Advances in Materials Physics and Chemistry》 2012年第4期56-59,共4页
We report the synthesis of undoped ZnO and Al-doped ZnO (ZnO:Al) nanowires grown using a two-step process: (a) preparation of the seed layer, and (b) growth of the nanostructures. In the first step,? 10 mM solutions o... We report the synthesis of undoped ZnO and Al-doped ZnO (ZnO:Al) nanowires grown using a two-step process: (a) preparation of the seed layer, and (b) growth of the nanostructures. In the first step,? 10 mM solutions of zinc acetate dihydrate and 1-propanol were spin coated on polyethylene terephthalate? (PET) substrate at 2000 rpm by 30 s. Vertical nanowires were then grown by dipping the substrates in an equimolar solution of zinc nitrate hexahydrate and hexamethylenetetramine. As doping source, aluminum nitrate nonahydrate powders were added in the solution. In the solutions, Al doping concentrations were established as 0.5 At %, 1.0 At %, 2.0 At % and 3.0 At %, respectively. The hydrothermal process were carried out with a commercially microwave at 140 W power setting. The nanowires were characterized optically and morphologically. XRD patterns show the presence of ZnO, Zn(OH)2 and Zn6Al2O9. Scanning electron microscopy analysis showed that the size of ZnO nanowires was 50 nm in diameter. The undoped ZnO and ZnO:Al nanowires bandgap energy was obtained from optical transmission spectra. 展开更多
关键词 NANOWIRES ZNO ZNO:AL NANOWIRES spin coating HYDROTHERMAL process
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ZnS光学表面平坦化工艺研究 被引量:1
7
作者 姬娇 刘卫国 +1 位作者 周顺 包强 《西安工业大学学报》 CAS 2015年第12期962-967,共6页
为了在ZnS光学晶体表面制备超光滑牺牲层,用于离子束沉积修正刻蚀抛光ZnS光学晶体表面,引入一种简单平坦化工艺.工艺实验所用的平坦化胶为苯并环丁烯树脂(BCB).研究了涂胶转速、胶的浓度及热烘温度对牺牲层表面粗糙度的影响,优化了平坦... 为了在ZnS光学晶体表面制备超光滑牺牲层,用于离子束沉积修正刻蚀抛光ZnS光学晶体表面,引入一种简单平坦化工艺.工艺实验所用的平坦化胶为苯并环丁烯树脂(BCB).研究了涂胶转速、胶的浓度及热烘温度对牺牲层表面粗糙度的影响,优化了平坦化工艺参数,并讨论了各因素对牺牲层表面粗糙度的影响趋势.采用自旋涂胶的方法制备平坦化牺牲层,研究结果表明:对于BCB-1500胶,可在ZnS晶体表面获得粗糙度低于1.4nm的牺牲层;对于BCB-700胶,可获得粗糙度低于1.2nm的牺牲层,两者均可用于离子束刻蚀抛光ZnS表面的牺牲层. 展开更多
关键词 ZNS 平坦化工艺 表面粗糙度 离子束刻蚀抛光
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旋涂法制备ICF分解实验用薄膜靶 被引量:1
8
作者 朱秀榕 余意 +4 位作者 苑举君 余华军 张宪科 周斌 杜艾 《赣南师范学院学报》 2015年第6期31-34,共4页
采用旋涂工艺,以K9玻璃为衬底,制备低表面粗糙度的惯性约束聚变(ICF)分解实验用的聚苯乙烯(CH)和聚氯乙烯(PVC)平面薄膜靶,对它们的厚度、宽度和表面光洁度等靶参数进行测量.结果表明,CH和PVC平面薄膜靶的厚度分别为18μm和6μm,对应的... 采用旋涂工艺,以K9玻璃为衬底,制备低表面粗糙度的惯性约束聚变(ICF)分解实验用的聚苯乙烯(CH)和聚氯乙烯(PVC)平面薄膜靶,对它们的厚度、宽度和表面光洁度等靶参数进行测量.结果表明,CH和PVC平面薄膜靶的厚度分别为18μm和6μm,对应的宽度分别为200μm和300μm.CH和PVC平面薄膜靶都具有较好的表面光洁度,它们平均粗糙度Ra的最大值分别3.7 nm和4.5 nm,TIR表面最高点与最低点差值TIR的最大值分别58.4 nm和56.8 nm. 展开更多
关键词 惯性约束聚变 聚苯乙烯 聚氯乙烯 平面薄膜靶 旋涂 薄膜
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匀胶法制备改性石墨烯光催化薄膜的工艺及光催化性能
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作者 孙世清 郑艳银 +3 位作者 顾宝珊 国栋 秦森 付凯 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 北大核心 2018年第1期38-46,共9页
采用改进的Hummers法制备改性石墨烯分散液,然后用匀胶法在玻璃基底上制备改性石墨烯薄膜,研究低速(600~800 r/min)、中速(1 000~2 000 r/min)、高速(3 000~5 000 r/min)、滴胶时间(10~30 s)、加速度(100~700r/(min·s))和pH值(4~11... 采用改进的Hummers法制备改性石墨烯分散液,然后用匀胶法在玻璃基底上制备改性石墨烯薄膜,研究低速(600~800 r/min)、中速(1 000~2 000 r/min)、高速(3 000~5 000 r/min)、滴胶时间(10~30 s)、加速度(100~700r/(min·s))和pH值(4~11)等匀胶工艺参数对改性石墨烯薄膜附着力的影响,优化匀胶工艺参数。通过扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、能谱仪、拉曼光谱以及激光共聚焦光谱,对最佳工艺下制备的改性石墨烯及其薄膜进行表征,重点研究可见光下改性石墨烯薄膜对亚甲基蓝的光催化降解性能,分析其可见光光催化原理。结果表明:在低速800 r/min旋转60 s,然后中速1 500 r/min旋转30 s,高转速4 000 r/min下旋转60 s,滴胶时间为20 s,加速度为100 r/(min·s),分散液pH=7条件下制备的改性石墨烯薄膜附着力最好。薄膜在可见光波段波长为421 nm处有最大吸收峰,对亚甲基蓝溶液进行光催化降解,4 h时降解率达到34.4%。其催化原理为改性石墨烯薄膜在可见光的作用下,产生强氧化剂·OH,把亚甲基蓝等污染物逐步氧化成二氧化碳和水,达到降解的目的。 展开更多
关键词 改性石墨烯薄膜 匀胶工艺 亚甲基蓝 可见光光催化 羟基自由基
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聚酰亚胺平面/调制薄膜的制备与测量
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作者 曾祥华 朱秀榕 《赣南师范学院学报》 2016年第6期38-40,共3页
采用联苯四羧酸二酐(PMDA)和对苯二胺(PDA)为二酐和二胺,以N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)为溶剂制备了聚酰胺酸溶液(PAA).采用旋涂工艺,以K9玻璃或调制模版为衬底,制备了聚酰亚胺(PI)平面/调制薄膜.对其厚度、结构、表面粗糙度和表面调制图形... 采用联苯四羧酸二酐(PMDA)和对苯二胺(PDA)为二酐和二胺,以N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)为溶剂制备了聚酰胺酸溶液(PAA).采用旋涂工艺,以K9玻璃或调制模版为衬底,制备了聚酰亚胺(PI)平面/调制薄膜.对其厚度、结构、表面粗糙度和表面调制图形进行了测量,研究了其厚度与旋涂速度和PAA溶液浓度的对应关系.结果表明,PAA溶液在马弗炉中进行370℃热处理,可以完全转化为PI;通过旋涂法制备PI平面薄膜的平均粗糙度Ra的最大值和最小值分别为3.7 nm和3.1 nm;PI平面薄膜最小厚度为1μm,且其厚度随着旋涂速度增大而减小,随着PAA溶液浓度的增大而增大;PI调制薄膜的周期和振幅分别为100μm和4.8μm,在调制图形转移过程中,周期不变,而振幅存在0.2μm的转移误差. 展开更多
关键词 聚酰亚胺 聚酰胺酸 薄膜 旋涂 惯性约束聚变
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有机物/硅杂化太阳能电池的研究进展 被引量:8
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作者 刘瑞远 孙宝全 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2015年第3期225-236,共12页
有机/无机杂化太阳能电池既可以兼容无机材料的高稳定性,高载流子迁移率和成熟的制备工艺,又可以利用有机材料分子结构的可塑性,调节光谱吸收以及光学带隙,以及简便的溶液制作过程,具有取得高效率低成本太阳能电池的巨大潜力.硅和有机... 有机/无机杂化太阳能电池既可以兼容无机材料的高稳定性,高载流子迁移率和成熟的制备工艺,又可以利用有机材料分子结构的可塑性,调节光谱吸收以及光学带隙,以及简便的溶液制作过程,具有取得高效率低成本太阳能电池的巨大潜力.硅和有机物在低温下形成的异质结光伏电池吸引了广泛的研究,目前最高光电转换效率已经达到13.8%.而采用硅纳米线等纳米结构之后使在几十微米的低纯硅上制备高效太阳能电池成为可能,柔性硅基底的杂化太阳能电池效率已经超过12%.本文首先介绍了硅基杂化太阳能电池的结构、工作机理和使用的有机材料,按硅的结构分为平面硅基和微纳结构硅基杂化太阳能电池,重点概述了该类电池最近几年的发展状况,分析了硅的结构、有机材料和制备工艺对器件性能的影响.最后对众多研究方法进行了归纳总结,对存在的问题和解决策略提出了展望. 展开更多
关键词 硅结构 有机物 溶液旋涂 界面优化 杂化太阳能电池
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湿度对钙钛矿太阳能电池性能及其稳定性的影响 被引量:6
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作者 蒋佳佳 曹方旭 +2 位作者 王亢 谭斌 陶海军 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期181-186,共6页
本文在不同湿度的空气中采用两步旋涂法制备钙钛矿太阳能电池并对电池进行稳定性测试,系统地研究了湿度对电池性能及其稳定性的影响。研究结果表明:随着制备环境湿度的增大,PbI_2薄膜与钙钛矿薄膜覆盖率下降,导致电池吸光性能和光电转... 本文在不同湿度的空气中采用两步旋涂法制备钙钛矿太阳能电池并对电池进行稳定性测试,系统地研究了湿度对电池性能及其稳定性的影响。研究结果表明:随着制备环境湿度的增大,PbI_2薄膜与钙钛矿薄膜覆盖率下降,导致电池吸光性能和光电转换效率的降低;将电池置于不同湿度的空气中30天后,湿度越大,电池效率下降越快,且电池稳定性的降低主要是由于钙钛矿发生了分解。 展开更多
关键词 钙钛矿太阳能电池 两步旋涂法 湿度 稳定性
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采用PEABr添加剂获得高效且稳定的碳基CsPbBr_(3)太阳能电池 被引量:1
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作者 仲婷婷 张晨 +8 位作者 哈木 徐望舒 唐坤鹏 徐翔 孙文天 郝会颖 董敬敬 刘昊 邢杰 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第2期314-323,共10页
全无机CsPbBr_(3)钙钛矿材料因其本征稳定性好、成本低廉从而在光伏领域展现出巨大的应用潜力,但目前CsPbBr_(3)太阳能电池的光电转换效率仍远低于其他体系的钙钛矿太阳能电池.本文以无空穴传输层结构的碳基CsPbBr_(3)全无机钙钛矿电池... 全无机CsPbBr_(3)钙钛矿材料因其本征稳定性好、成本低廉从而在光伏领域展现出巨大的应用潜力,但目前CsPbBr_(3)太阳能电池的光电转换效率仍远低于其他体系的钙钛矿太阳能电池.本文以无空穴传输层结构的碳基CsPbBr_(3)全无机钙钛矿电池作为研究对象,以多步旋涂法为基础,通过在PbBr_(2)(DMF)溶液中添加2-苯乙胺溴盐(PEABr)来调控CsPbBr_(3)薄膜的结晶质量,降低薄膜缺陷态密度,钝化晶粒间界,并对其中的关键工艺参数包括CsBr的用量(旋涂次数)、旋涂PbBr_(2)薄膜时的衬底预热温度以及退火温度进行了优化.最终在大气环境下获得了兼具稳定和高效的无空穴传输层结构的碳基CsPbBr_(3)太阳能电池,器件的光电转换效率达到8.25%,并在无封装条件下保存1500 h仍可保持90%以上的效率,对于进一步拓展CsPbBr_(3)钙钛矿电池的优化设计思路具有重要意义. 展开更多
关键词 多步旋涂法 CsPbBr_(3) PEABr 工艺优化 钙钛矿太阳能电池
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旋转镀膜铌靶材加工工艺研究 被引量:1
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作者 张国军 汪凯 +1 位作者 李桂鹏 任晓 《材料开发与应用》 CAS 2014年第6期54-57,共4页
研究了靶材不同加工工艺的组织,通过多向锻造,在变形量为80%,热处理工艺为1 050℃×90 min,制得的靶材具有均匀的等轴晶组织,晶粒尺寸40—100μm。
关键词 旋转镀膜铌靶材 工艺控制 晶粒尺寸
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