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题名I-Line光刻胶材料的研究进展
被引量：11
- 1
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作者
郑金红
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机构
北京科华微电子材料有限公司
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出处
《影像科学与光化学》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期81-90,共10页
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文摘
酚醛树脂-重氮萘醌正型光刻胶由于其优异的光刻性能,在g-line(436nm)、i-line(365nm)光刻中被广泛使用.g-line光刻胶胶、i-line光刻胶,两者虽然都是用线型酚醛树脂做成膜树脂,重氮萘醌型酯化物作感光剂,但当曝光波长从g-line发展到i-line时,为适应对应的曝光波长以及对高分辨率的追求,酚醛树脂及感光剂的微观结构均有变化.在i-line光刻胶中,酚醛树脂的邻-邻′相连程度高,感光剂酯化度高,重氮萘醌基团间的间距远.溶解促进剂是i-line光刻胶的一个重要组分,本文对其也进行了介绍.
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关键词
i-line
光刻胶
酚醛树脂
感光剂
溶解促进剂
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Keywords
i-line
photoresist
novolak
photoactive compounds
dissolution promoter
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分类号
TQ437
[化学工程]
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题名光刻胶烘培特性研究
被引量：8
- 2
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作者
李淑红
杜春雷
董小春
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机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
中国科学院研究生院
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出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期17-19,24,共4页
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文摘
通过研究光刻胶厚度与烘培过程中光敏混合物(PAC)浓度分布的关系,对光刻胶前烘模型进行了修正,得出了光刻胶内 PAC 相对浓度与光刻胶厚度、烘培温度和烘培时间之间的函数关系。设计了求解光刻胶激活能 E0和 Arrhenius 系数 Ar的实验方案,并以 AZ50XT 正型紫外光刻胶为例开展了实验研究。结果表明,对不同厚度的光刻胶,可以通过调整烘培温度或烘培时间达到所需要的 PAC 浓度。
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关键词
微光学
光刻胶
前烘模型
特性分析
光敏混合物
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Keywords
Micro optics
Photoresist
Pre-baking model
Characteristics analysis
photoactive compound
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分类号
O434.14
[机械工程—光学工程]
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题名聚酰亚胺正性光刻胶材料的制备及性能研究综述
被引量：2
- 3
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作者
郑凤
路庆华
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机构
上海交通大学化学化工学院
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出处
《上海航天》
CSCD
2017年第3期136-147,共12页
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基金
航天先进技术联合研究中心技术创新项目资助(USVAST2015-27)
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文摘
对聚酰亚胺(PI)+二叠氮萘醌(DNQ)型及聚酰亚胺前驱体(聚酰胺酸,PAA)+DNQ型正性光刻胶材料的研究成果进行了综述。讨论了这两种正性光刻胶材料中成膜剂的设计和制备方法。其中:前者在PAA主链中引入疏水基团,抑制PAA的溶解性;后者在PI主链中引入亲水基团,促进PI的溶解性,从而使其能被用于正性光敏聚酰亚胺。讨论了DNQ光敏剂的结构设计和种类、光刻胶的配比和光刻性能,以及正性光敏聚酰亚胺在航天领域中的应用现状与展望。
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关键词
聚酰亚胺
聚酰胺酸
光刻胶
二叠氮萘醌
光敏剂
制备
光刻性能
航天应用
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Keywords
polyimide
poly(amic acid)
photosensitive polyimide
diazonaphthoquinone
photoactive compound
preparation
lithographic performance
aerospace application
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分类号
TB34
[一般工业技术—材料科学与工程]
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题名减小光刻中驻波效应的新方法研究
被引量：5
- 4
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作者
肖啸
杜惊雷
郭永康
杨静
谢世伟
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机构
四川大学物理科学与技术学院
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出处
《微细加工技术》
2002年第4期36-39,44,共5页
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文摘
光刻过程中 ,抗蚀剂内部光敏混合物 (PAC)浓度受光场的影响呈驻波分布 ,导致抗蚀剂显影后的侧壁轮廓成锯齿状。分析了后烘 (PEB)对PAC浓度分布的影响 ,模拟了不同后烘扩散长度下的抗蚀剂显影轮廓 ,从模拟结果可知利用后烘可明显减小驻波效应 ,得到平滑的抗蚀剂显影轮廓 ,提高光刻质量。
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关键词
光刻
驻波效应
后烘
光敏混合物
模拟
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Keywords
post-exposure bake(PEB)
photoactive compound(PAC)
standing wave effect
simulation
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
TN40
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题名非热光敏杀菌技术在食品中的应用研究现状及发展趋势
被引量：1
- 5
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作者
韩彦慧
曾凡坤
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机构
西南大学食品科学学院
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出处
《食品工业科技》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第20期396-399,共4页
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文摘
光敏杀菌是一种新型非热杀菌技术,通过破坏细胞膜、使不同酶失活以及损坏DNA结构来杀灭食品中的致病菌,从而具有杀菌效果。文章主要介绍了光敏杀菌技术的构成和其在食品工业中的研究现状及应用前景。
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关键词
光敏杀菌
致病菌
光敏剂
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Keywords
photosensitization
pathogens photoactive compound
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分类号
TS201.1
[轻工技术与工程—食品科学]
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题名一种新型重氮萘醌感光剂用于阳图PS版的性能研究
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作者
李晓春
周海华
邹应全
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机构
北京师范大学化学学院
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出处
《信息记录材料》
2007年第2期5-9,共5页
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基金
北京印刷学院包装材料与技术北京市重点实验室开放基金(KF050101)
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文摘
重氮萘醌体系阳图PS版因具有感度高、上墨快、显影简单、环保以及储存稳定性好等特点,一直在印刷领域处于重要地位。随着印刷业的发展,还应进一步提高阳图PS版的感度,提高耐溶剂(异丙醇)性、耐印力。本文主要介绍了一种新型的用于阳图PS版的重氮萘醌系感光剂的合成方法和其成像性能的研究。这种感光剂是由6,7-二羟基-3,3-二苯基-3H-苯并呋喃-2-酮作为酯化母体,按照一定的摩尔比与2,1,5-重氮萘醌磺酰氯进行酯化反应制得。它与线性酚醛树脂、有机溶剂等成分组成配方。通过配方实验对这种新型感光剂的成像性能进行了研究,发现其不仅显影宽容度大,而且具有较高的感度,较好的抗碱留膜率和耐溶剂性能,良好的分辨率,并对其作为PS版感光剂的应用前景进行了评价。
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关键词
功能高分子材料
阳图PS版
重氮萘醌系感光剂
6
7-二羟基-3
3-二苯基-3H-苯并呋喃-2-酮
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Keywords
functional polymer material
positive PS plate
diazidonaphthoquinone photoactive compound
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分类号
TQ57
[化学工程—精细化工]
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