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基于锗硅异质纳米晶的非易失浮栅存储器的存储特性
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作者 闾锦 陈裕斌 +3 位作者 左正 施毅 濮林 郑有炓 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期770-773,共4页
利用自组织生长和选择化学刻蚀方法在超薄SiO2隧穿氧化层上制备了渐变锗硅异质纳米晶,并通过电容-电压特性和电容-时间特性研究了该纳米结构浮栅存储器的存储特性.测试结果表明,该异质纳米晶非易失浮栅存储器具有良好的空穴存储特性,这... 利用自组织生长和选择化学刻蚀方法在超薄SiO2隧穿氧化层上制备了渐变锗硅异质纳米晶,并通过电容-电压特性和电容-时间特性研究了该纳米结构浮栅存储器的存储特性.测试结果表明,该异质纳米晶非易失浮栅存储器具有良好的空穴存储特性,这是由于渐变锗硅异质纳米晶中Ge的价带高于Si的价带形成了复合势垒,空穴有效地存储在复合势垒的Ge的一侧. 展开更多
关键词 异质纳米晶 非易失浮栅存储器 电容-电压特性 自组织生长 选择化学刻蚀
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非挥发浮栅存储器用PtAu纳米颗粒单层膜的制备
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作者 闾锦 陈裕斌 +3 位作者 潘力佳 濮林 施毅 郑有炓 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2008年第2期81-84,共4页
将Langmuir-Blodgett(LB)膜等化学方法应用于非挥发浮栅存储器制备工艺中.采用反相微乳液方法合成的分散良好的PtAu纳米颗粒粒径约为5 nm,并应用LB膜方法在存储器隧穿氧化层上制备了PtAu纳米颗粒的单层膜.采用SEM对LB膜的表面形貌进行观... 将Langmuir-Blodgett(LB)膜等化学方法应用于非挥发浮栅存储器制备工艺中.采用反相微乳液方法合成的分散良好的PtAu纳米颗粒粒径约为5 nm,并应用LB膜方法在存储器隧穿氧化层上制备了PtAu纳米颗粒的单层膜.采用SEM对LB膜的表面形貌进行观测,研究了表面压对成膜质量的影响,结果表明在表面压为15 mN/m时可获得密度为1011cm-2均匀分布的PtAu纳米颗粒单层二维阵列,可应用于非挥发性金属纳米颗粒浮栅存储器,并成功拓展了LB膜等化学方法的应用范围. 展开更多
关键词 非挥发浮栅存储器 PtAu纳米颗粒 反相微乳液 LB膜
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