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窄带缺陷模在入射角缓慢变化中的变化规律 被引量:5
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作者 于志明 周静 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期876-878,883,共4页
用特征矩阵法研究了窄带缺陷模在入射角缓慢变化中的变化规律。结果表明:随着入射角的缓慢增大,可以使s(或p)偏振光的缺陷模的强度由小变大,再由大变小,缺陷模的波长稍微变短,然后重复前边的变化过程。随着入射角的增大,s偏振光的缺陷... 用特征矩阵法研究了窄带缺陷模在入射角缓慢变化中的变化规律。结果表明:随着入射角的缓慢增大,可以使s(或p)偏振光的缺陷模的强度由小变大,再由大变小,缺陷模的波长稍微变短,然后重复前边的变化过程。随着入射角的增大,s偏振光的缺陷模的变化要比而p偏振光的缺陷模的变化快。在一定的入射角下,很小的入射角的变化,就可以改变缺陷模的偏振性。 展开更多
关键词 一维光子晶体 窄带缺陷模 入射角 透射强度 偏振性 特征矩阵
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一维缺陷光子晶体多个禁带中的窄带缺陷模 被引量:3
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作者 于志明 廖树帜 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期422-426,共5页
用特征矩阵法研究了一维缺陷光子晶体的透射谱。结果发现:在一维缺陷光子晶体的透射谱中的多个禁带内都有窄带缺陷模,窄带缺陷模的波长越大,其宽度越大;当入射角增大后,波长越长的窄带缺陷模的强度变化越小,位置向短波方向移动越多,且S... 用特征矩阵法研究了一维缺陷光子晶体的透射谱。结果发现:在一维缺陷光子晶体的透射谱中的多个禁带内都有窄带缺陷模,窄带缺陷模的波长越大,其宽度越大;当入射角增大后,波长越长的窄带缺陷模的强度变化越小,位置向短波方向移动越多,且S偏振光与P偏振光的窄带缺陷模的分离越大;增大一维缺陷光子晶体中周期性介质的厚度,窄带缺陷模的波长和移动的范围都增大。本研究对一维缺陷光子晶体的窄带缺陷模的选择使用具有重要意义。 展开更多
关键词 一维缺陷光子晶体 窄带缺陷模 特征矩阵
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