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光学加工中高频误差对散射损失比的影响 被引量:5
1
作者 戴一帆 吴冬良 王贵林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期2365-2370,共6页
以光学系统主镜为研究对象,分析了中高频误差对散射损失比的影响。根据光学镜面面形误差近似高斯平稳随机过程特征,结合Harvey-Shack散射理论和统计光学理论,建立了光学镜面中高频误差RMS与散射损失比(RSL)之间的数学关系模型,并利用实... 以光学系统主镜为研究对象,分析了中高频误差对散射损失比的影响。根据光学镜面面形误差近似高斯平稳随机过程特征,结合Harvey-Shack散射理论和统计光学理论,建立了光学镜面中高频误差RMS与散射损失比(RSL)之间的数学关系模型,并利用实际加工数据进行了仿真验证。研究表明,RSL随着中高频误差RMS的增加近似呈指数规律增加,同时在聚焦范围内,理论分析与仿真计算结果非常吻合。在中频误差和高频误差RMS值分别<λ/63时,对RSL的影响均<1%,结果可为中高频误差的修正提供理论支持。 展开更多
关键词 光学主镜 中频误差 高频误差 散射损失比 误差均方根
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光学加工中高频误差对环围能量比的影响 被引量:3
2
作者 吴冬良 戴一帆 王贵林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期2705-2711,共7页
以大型光学系统主镜为研究对象,基于经典标量衍射理论分析了中高频误差对环围能量比(FEE)的影响。根据光学镜面面形误差近似为高斯平稳随机过程以及全频段面形误差对光强分布和FEE的影响,建立了光学镜面中高频误差梯度均方根(GRMS)与FE... 以大型光学系统主镜为研究对象,基于经典标量衍射理论分析了中高频误差对环围能量比(FEE)的影响。根据光学镜面面形误差近似为高斯平稳随机过程以及全频段面形误差对光强分布和FEE的影响,建立了光学镜面中高频误差梯度均方根(GRMS)与FEE之间的数学关系模型,进行了仿真分析并利用实际面形误差数据进行了验证。研究表明,FEE随着中高频误差GRMS的增加近似呈指数规律衰减,同时各频段误差将无误差时对应的光强分布边缘部分能量转移到光强分布的中心以及更宽范围,并且随着中高频误差的增大,能量转移曲线出现反复振荡。结果表明,在特定光学口径下,中高频误差GRMS值分别<12nm/mm以及30nm/mm时,中高频误差对FEE的影响均<5%,可用于控制中高频误差对FEE的影响,为中高频误差的进一步修形提供理论支持。 展开更多
关键词 光学主镜 中频误差 高频误差 环围能量比 梯度均方根
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基于伪随机罗斯轨迹的光学表面中频误差抑制研究 被引量:2
3
作者 乔励城 张静 +3 位作者 付秀华 艾博 李鑫 黄贺 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2019年第11期1369-1373,共5页
光学表面的中频误差的控制长期以来一直是光学加工中的热点、难点问题。对于接触式的计算机控制光学表面成形技术,传统的加工路径如光栅式路径和螺旋线式路径通常会引入固有的中频误差,而新型的伪随机轨迹对机床的动态性能要求过高,使... 光学表面的中频误差的控制长期以来一直是光学加工中的热点、难点问题。对于接触式的计算机控制光学表面成形技术,传统的加工路径如光栅式路径和螺旋线式路径通常会引入固有的中频误差,而新型的伪随机轨迹对机床的动态性能要求过高,使其难以普遍应用。基于对伪随机轨迹的研究,本文提出了利用伪随机罗斯轨迹对光学表面中频误差进行抑制的方法。在保证加工路径不重合和遍历工件表面的基础上,建立了伪随机罗斯轨迹的参数模型。针对传统的加工路径和伪随机罗斯轨迹进行了工艺对比实验,并对干涉结果进行功率谱密度分析。实验结果表明,三种路径对于低频误差均可以实现有效地抑制,而传统路径对于1/0.07 mm以上的频段误差会则会产生不良的影响,而伪随机罗斯轨迹则对于中频误差可以实现有效地抑制。 展开更多
关键词 伪随机罗斯轨迹 中频误差 光学表面质量 功率谱密度分析
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磁流变加工的连续相位板波前及光强特性 被引量:2
4
作者 颜浩 杨春林 +3 位作者 侯晶 唐才学 温圣林 张远航 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期199-204,共6页
对采用磁流变抛光(MRF)工艺加工的大口径连续相位板(CPP)的波前及其光强控制特性进行了分析,对由不同的加工参数(走刀间距和走刀偏置)所加工的三组CPP进行了比较,并分析了MRF加工所引入的中频误差对CPP波前和光强特性的影响。... 对采用磁流变抛光(MRF)工艺加工的大口径连续相位板(CPP)的波前及其光强控制特性进行了分析,对由不同的加工参数(走刀间距和走刀偏置)所加工的三组CPP进行了比较,并分析了MRF加工所引入的中频误差对CPP波前和光强特性的影响。结果表明,走刀间距为2mm、对应走刀偏置范围为0.1~0.3mm时所加工CPP的波前及其光强控制能力较差,远场有一定程度的旁瓣产生;走刀间距为2mm、偏置范围为0.4~0.5mm时所加工CPP和走刀间距为1mm、偏置范围为0.1~0.3mm时所加工CPP相比较,迭代加工效率提高,CPP波前中频误差得到一定的改善。进一步分析表明MRF所引入的中频误差对CPP波前梯度及旁瓣影响较大。 展开更多
关键词 连续位相板 磁流变 中频误差 焦斑
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奇异值方法在大口径反射镜面形分析中的应用 被引量:1
5
作者 安其昌 张景旭 杨飞 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2014年第8期111-115,共5页
为了更好地分析大口径反射镜的面形,引入奇异值方法来分析系统的重力印透造成的大尺度起伏以及由磨削加工、测量噪声等因素造成的中高频误差。首先对奇异值分解的基本方法以及在反射镜表面评价中的具体应用方法进行了研究;之后利用数值... 为了更好地分析大口径反射镜的面形,引入奇异值方法来分析系统的重力印透造成的大尺度起伏以及由磨削加工、测量噪声等因素造成的中高频误差。首先对奇异值分解的基本方法以及在反射镜表面评价中的具体应用方法进行了研究;之后利用数值仿真,验证了奇异值分解应用在反射镜表面分析中的可行性;最后,将提出的方法应用在实际的反射镜镜面评价之中,得到系统去除高频误差后的结果。所提出的方法对于低信噪比的大口径反射系统面形评价有较好的指导作用。 展开更多
关键词 测量 奇异值 中频误差 大口径反射镜 面形评价
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气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响
6
作者 林桂丹 毕果 +2 位作者 胡陈林 姜涛 彭云峰 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期281-285,共5页
为了寻找消除中频误差的有效抛光路径,进行了2组实验.第1组实验采用单步进动Z字光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,并对加工后得到试件表面的中频误差进行分析.第2组实验先采用单步进动Z字光栅路径对... 为了寻找消除中频误差的有效抛光路径,进行了2组实验.第1组实验采用单步进动Z字光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,并对加工后得到试件表面的中频误差进行分析.第2组实验先采用单步进动Z字光栅路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,接着用基于改进普里姆(Prim)算法的路径对其进行加工,最后对加工得到光学试件表面的中频误差进行分析,从而验证基于改进Prim算法的抛光路径的优良性. 展开更多
关键词 抛光路径 光学试件 中频误差
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不同干涉仪检测光学元件功率谱密度的比较 被引量:4
7
作者 杨相会 沈卫星 +1 位作者 张雪洁 马晓君 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期112-119,共8页
为了探究不同干涉仪对中频误差的响应规律,获得相对真实的功率谱密度(PSD)分布,分别利用4D AccuFiz、ZYGO DynaFiz以及ZYGO GPI三台干涉仪检测周期性波纹和划痕样品,并对一维实测PSD曲线进行对比分析。结果表明,不同干涉仪对中高频信息... 为了探究不同干涉仪对中频误差的响应规律,获得相对真实的功率谱密度(PSD)分布,分别利用4D AccuFiz、ZYGO DynaFiz以及ZYGO GPI三台干涉仪检测周期性波纹和划痕样品,并对一维实测PSD曲线进行对比分析。结果表明,不同干涉仪对中高频信息的响应度不同;干涉仪分辨率越高,响应度越高。利用仪器传递函数(ITF)曲线对实测PSD分布进行了修正,获得了较为真实的PSD分布。在某些频率范围内,标定的ITF曲线和实际响应仍存在差异。 展开更多
关键词 测量 功率谱密度 干涉仪 中频波面误差 仪器传递函数
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光学表面中频误差的控制方法—确定区域修正法 被引量:17
8
作者 周旭升 李圣怡 +2 位作者 戴一帆 郑子文 杨智 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1668-1673,共6页
提出了一种有效控制光学表面中频误差的方法——确定区域修正法。给出了确定区域修正法的基本思想和工作流程,并基于最大熵原理对抛光盘运动参数进行了优化选择(行星运动方式转速比为-1或0,偏心率为接近于0但不等于0)。最后,在Φ100 mm... 提出了一种有效控制光学表面中频误差的方法——确定区域修正法。给出了确定区域修正法的基本思想和工作流程,并基于最大熵原理对抛光盘运动参数进行了优化选择(行星运动方式转速比为-1或0,偏心率为接近于0但不等于0)。最后,在Φ100 mm K9玻璃平面镜上进行了抛光对比实验。实验结果表明,应用确定区域修正法,在1.5 min内可使0.28 mm-1频率误差对应的PSD值从14.76 nm2.mm下降到3.70 nm2.mm,有效地控制了光学表面的中频误差。与其他方法相比,确定区域修正法的突出优点在于其确定性和高效性。 展开更多
关键词 光学表面 中频误差 确定区域 最大熵原理
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Restraint of mid-spatial frequency error in magnetorheological finishing (MRF) process by maximum entropy method 被引量:5
9
作者 DAI YiFan SHI Feng +1 位作者 PENG XiaoQiang LI ShengYi 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2009年第10期3092-3097,共6页
In order to restrain the mid-spatial frequency error in magnetorheological finishing (MRF) process, a novel part-random path is designed based on the theory of maximum entropy method (MEM). Using KDMRF-1000F polishing... In order to restrain the mid-spatial frequency error in magnetorheological finishing (MRF) process, a novel part-random path is designed based on the theory of maximum entropy method (MEM). Using KDMRF-1000F polishing machine, one flat work piece (98 mm in diameter) is polished. The mid-spatial frequency error in the region using part-random path is much lower than that by using common raster path. After one MRF iteration (7.46 min), peak-to-valley (PV) is 0.062 wave (1 wave =632.8 nm), root-mean-square (RMS) is 0.010 wave and no obvious mid-spatial frequency error is found. The result shows that the part-random path is a novel path, which results in a high form accuracy and low mid-spatial frequency error in MRF process. 展开更多
关键词 MAGNETORHEOLOGICAL finishing (MRF) maximum entropy method (MEM) part-random path mid-spatial frequency error
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平面光学元件中频误差的磁流变加工控制 被引量:4
10
作者 颜浩 唐才学 +1 位作者 罗子健 温圣林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期3076-3082,共7页
为了利用磁流变加工实现对大口径平面光学元件波前中频误差的控制,研究了磁流变抛光去除函数的频谱误差校正能力和磁流变加工残余误差抑制方法。首先,比较了模拟加工前后元件中频功率谱密度(PSD1)误差和元件PSD曲线的变化,分析了磁流变... 为了利用磁流变加工实现对大口径平面光学元件波前中频误差的控制,研究了磁流变抛光去除函数的频谱误差校正能力和磁流变加工残余误差抑制方法。首先,比较了模拟加工前后元件中频功率谱密度(PSD1)误差和元件PSD曲线的变化,分析了磁流变去除函数的可修正频谱误差范围。然后,利用均匀去除方法分析了加工深度、加工轨迹间距和去除函数尺寸等磁流变加工参数对中频PSD2误差的影响,提出了抑制中频PSD2误差的方法。最后,对一块400mm×400mm口径平面元件的频谱误差进行了磁流变加工控制实验。实验显示:3次迭代加工后,该元件的波前PV由加工前的0.6λ收敛至0.1λ,中频PSD1误差由5.57nm收敛至1.36nm,PSD2由0.95nm变化至0.88nm。结果表明:通过优化磁流变加工参数并合理选择加工策略,可实现磁流变加工对大口径平面光学元件中频误差的收敛控制。 展开更多
关键词 磁流变加工 平面光学元件 中频误差 功率谱密度 去除函数
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400mm口径平面窗口元件中频误差控制技术 被引量:3
11
作者 钟波 陈贤华 +4 位作者 王健 邓文辉 谢瑞清 袁志刚 廖德锋 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3287-3291,共5页
针对高功率激光装置所需的大口径光学元件,进行了小工具数控抛光中频误差控制工艺研究。对数控加工过程中卷积效应对中频误差的影响进行分析,并建立了残余误差分析模型,对卷积效应所引入的残余误差进行定量分析。利用该模型对中频误差... 针对高功率激光装置所需的大口径光学元件,进行了小工具数控抛光中频误差控制工艺研究。对数控加工过程中卷积效应对中频误差的影响进行分析,并建立了残余误差分析模型,对卷积效应所引入的残余误差进行定量分析。利用该模型对中频误差修正工艺参数进行了仿真分析,并进行了修正工艺参数实验验证,确定了全面匀滑最优化参数。在最优化工艺参数的基础上,针对大口径光学元件开展了数控抛光中频误差控制工艺实验验证,使400mm口径平面窗口元件加工精度达到透射波前PV值为0.27λ,透射波前PSD1RMS值为1.67nm。该实验结果表明,通过400mm口径平面窗口元件的中频PSD1控制技术研究,使窗口元件能够达到高功率激光装置对中频PSD1的指标要求。 展开更多
关键词 光学元件 中频误差 去除函数 残余误差
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基于经验模态分解-Wigner分布的光学元件中频误差识别 被引量:3
12
作者 姜涛 杨炜 +1 位作者 郭隐彪 王健 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期108-113,共6页
对于大尺寸高精密光学元件,不仅要对光学元件表面低频面形精度和高频粗糙度进行控制,还需要严格限制中频误差,以保证其使用性能和稳定性.为了确定光学元件的不合格区域并指导其返修,引入经验模态分解(EMD)和Wigner分布(WVD)函数方法... 对于大尺寸高精密光学元件,不仅要对光学元件表面低频面形精度和高频粗糙度进行控制,还需要严格限制中频误差,以保证其使用性能和稳定性.为了确定光学元件的不合格区域并指导其返修,引入经验模态分解(EMD)和Wigner分布(WVD)函数方法,通过理论分析确定该方法与功率谱密度函数间的关系,实现对光学元件表面中频误差的辨识与定位.实验结果表明:EMDWVD方法不仅可以识别分布在实验光学元件表面15~27 mm空间频率为0.1mm-1的中频误差,还可以减小多分量信号所引起的空间频率为1.0~1.5 mm-1的交叉项干扰,提高中频误差辨识的准确率. 展开更多
关键词 中频误差 经验模态分解 固有模态函数 WIGNER分布
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光学表面非均匀中频误差的评价与修正 被引量:2
13
作者 张昊宇 钟波 +3 位作者 赵世杰 李瑞洁 李海波 陈贤华 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期294-299,共6页
针对光学元件使用过程中中频误差将导致光学元件的激光破坏这一问题,提出一种中频误差突出频率提取方法。采用基于统计学的多样本数据处理,对于每一种采样方向都可以得到数个较为突出的不合格频率。利用这些频率进行确定性加工后,在特... 针对光学元件使用过程中中频误差将导致光学元件的激光破坏这一问题,提出一种中频误差突出频率提取方法。采用基于统计学的多样本数据处理,对于每一种采样方向都可以得到数个较为突出的不合格频率。利用这些频率进行确定性加工后,在特定方向,空间频率0.044 1mm-1,0.085 8mm-1,0.041 7mm-1所出现的不合格次数分别降至加工前的23.9%,18.3%,29.2%,而整体中频误差减少至50.1%。结果表明,此方法降低了由光学表面中频误差方向性与局部性引起的不确定性。 展开更多
关键词 光学加工 中频误差 小波变换 频率提取
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高陡度深型光学元件主动平滑技术研究 被引量:1
14
作者 张穗 王佳 +2 位作者 王朝阳 邓永红 侯溪 《半导体光电》 CAS 北大核心 2022年第2期358-362,共5页
提出一种针对高陡度非球面元件表面中频误差的主动平滑技术。通过构建离轴高陡度非球面平滑加工接触模型,获得加工过程中的不吻合度分布,设计主动平滑工具。采用有限元分析方法模拟主动平滑过程中磨盘材料、厚度及结构之间的关系,获得... 提出一种针对高陡度非球面元件表面中频误差的主动平滑技术。通过构建离轴高陡度非球面平滑加工接触模型,获得加工过程中的不吻合度分布,设计主动平滑工具。采用有限元分析方法模拟主动平滑过程中磨盘材料、厚度及结构之间的关系,获得优选的主动平滑参数。实验结果验证了计算模型的准确性及主动平滑技术对于高陡度非球面元件的中频误差具有更好的平滑效果。 展开更多
关键词 非球面元件 主动平滑 中频误差 光学加工
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基于斜率的TMT三镜面形检测方法 被引量:2
15
作者 安其昌 张景旭 +1 位作者 杨飞 乔兵 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第6期1884-1889,共6页
为了完成对于30 m望远镜(TMT)三镜面形的检测,引入了基于斜率的测量方法。首先,针对斜率信息分别提出了对于低阶像差拟合以及中频误差分析的方法,并利用数值仿真以及实测数据对于之前提出的理论进行验证;最后,针对所提出的方法进行了基... 为了完成对于30 m望远镜(TMT)三镜面形的检测,引入了基于斜率的测量方法。首先,针对斜率信息分别提出了对于低阶像差拟合以及中频误差分析的方法,并利用数值仿真以及实测数据对于之前提出的理论进行验证;最后,针对所提出的方法进行了基于蒙特卡洛法的误差分配,讨论了在TMT招标方所提出的精度要求下,各个检测仪器的精度如何分配。文中使用的方法 ,不仅对于TMT三镜的面形检测有很好的指导作用,同时对于类似的大口径平面镜的检测也有一定助力作用。 展开更多
关键词 30 m望远镜 波前斜率 中频误差 低阶像差 蒙特卡洛法
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大口径光学元件斜入射反射波前误差测量和计算 被引量:1
16
作者 徐隆波 周游 +2 位作者 朱日宏 刘世杰 郑万国 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期3027-3032,共6页
针对测量高功率激光驱动装置中大口径矩形反射光学元件的波前误差时测量角度和使用角度不完全相同引入的测量误差,提出了将测量角度下的反射波前转换到使用角度的反射波前的换算及恢复方法。首先分析了将斜入射测量角度下的波前转换到... 针对测量高功率激光驱动装置中大口径矩形反射光学元件的波前误差时测量角度和使用角度不完全相同引入的测量误差,提出了将测量角度下的反射波前转换到使用角度的反射波前的换算及恢复方法。首先分析了将斜入射测量角度下的波前转换到使用角度下波前的余弦换算方法,得到了实际测量角度与实际使用角度下的波前误差计算关系;然后计算并分析了双三次插值算法本身引起的中频PSD1(功率谱密度)误差,指出在满足有效口径测量的情况下,选择的入射角度应该与实际使用的角度尽可能的相接近。最后,基于410mm×410mm的熔石英反射镜开展了误差分析和实验验证。利用该方法将0°反射波前换算到45°反射波前,并将得到的测试结果与45°直接测量得到的测试结果进行了比较。结果显示上述结果的PV值相差0.01λ,RMS值相差0.003λ,PSD1值相差0.08nm;表明该换算方法不仅能够准确计算出使用角度下反射波前的低频误差,而且能获得相对准确的中频段PSD1误差。 展开更多
关键词 高功率激光装置 大口径光学元件 反射波前 波前误差 双三次插值 中低频误差
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抛光过程主要参数对中频误差形成的影响 被引量:1
17
作者 蔡发明 张蓉竹 《光学与光电技术》 2017年第1期54-58,共5页
为了确认抛光过程中抛光盘大小对光学元件表面中频误差的影响,对双轴式平面研磨抛光的去除特性进行了分析。推导了去除函数的表达式,计算了抛光盘大小对元件的去除量以及其分布的影响。结果表明,不论抛光盘大小如何改变,回转中心的去除... 为了确认抛光过程中抛光盘大小对光学元件表面中频误差的影响,对双轴式平面研磨抛光的去除特性进行了分析。推导了去除函数的表达式,计算了抛光盘大小对元件的去除量以及其分布的影响。结果表明,不论抛光盘大小如何改变,回转中心的去除量总是最大,去除量最大区域所对应半径随着抛光盘半径的增大而增大,利用这一关系确定了导致中频误差产生的磨头尺寸。通过选择合适的抛光盘尺寸,可以对最大去除量区域范围进行控制,从而有效减少工件在研磨抛光过程中中频误差的产生。 展开更多
关键词 平面研磨 去除量 去除函数 中频误差
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环形抛光中频误差的计算模拟
18
作者 谢磊 张云帆 +3 位作者 游云峰 马平 刘义彬 鄢定尧 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3307-3310,共4页
通过建立环形抛光的去除模型,从理论上分析了转速比、槽形、元件摆动对于抛光结果的影响,并分析了中频误差产生的原因。模拟结果表明:转速比的差异会产生较大的低频误差,而中频误差会随着低频误差的降低而降低;槽形是中频误差的主要来源... 通过建立环形抛光的去除模型,从理论上分析了转速比、槽形、元件摆动对于抛光结果的影响,并分析了中频误差产生的原因。模拟结果表明:转速比的差异会产生较大的低频误差,而中频误差会随着低频误差的降低而降低;槽形是中频误差的主要来源,复杂的非对称不规律槽形使抛光路径复杂化,降低中频误差;同时元件的小幅度摆动能够使抛光更加均匀,减小定心式抛光造成的元件表面规则状纹路结构,从而有效减小元件的中频误差。 展开更多
关键词 环形抛光 中频误差 模拟 转速比 槽形
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偏心双转子运动抛光工艺研究及中频误差的抑制研究
19
作者 董子铭 章亚男 +4 位作者 刘志刚 焦翔 朱健强 崔文辉 林炜恒 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第24期76-87,共12页
在计算机控制光学表面抛光中,高斯形状的去除函数是一种理想的去除函数,然而传统的双转子运动抛光产生的去除函数与高斯形状有较大偏差,不够平滑,因此会在被抛光表面引入较大的中频误差,影响高功率激光系统的性能。针对该问题,在传统双... 在计算机控制光学表面抛光中,高斯形状的去除函数是一种理想的去除函数,然而传统的双转子运动抛光产生的去除函数与高斯形状有较大偏差,不够平滑,因此会在被抛光表面引入较大的中频误差,影响高功率激光系统的性能。针对该问题,在传统双转子抛光的基础上,本文提出了偏心双转子运动抛光技术,并建立了数学模型。理论分析表明,偏心双转子抛光可以产生更加接近高斯形状的去除函数。对各关键参数进行优化,理论上获得了拟合优度(R^(2))达到0.9986的高斯型去除函数。进行了偏心双转子定点抛光实验和光栅轨迹数控抛光实验,定点抛光实验中获得了R^(2)=0.9895的高斯型去除函数,验证了理论分析的正确性;光栅轨迹数控抛光实验证明了偏心双转子抛光技术较传统双转子抛光技术对中频误差有更好的抑制作用。 展开更多
关键词 光学制造 小磨头抛光 高斯型去除函数 中频误差 偏心双转子运动
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大口径光学元件超精密加工技术与应用 被引量:24
20
作者 郭隐彪 杨炜 +3 位作者 王振忠 彭云峰 毕果 杨平 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第19期171-178,共8页
大口径光学元件超精密加工技术是多种学科新技术成果的综合应用,促进了民用和国防等尖端技术领域的发展,在国家大光学工程的推动下,我国的超精密加工技术取得显著的成果。围绕大口径光学元件'高精度磨削+确定性抛光'超精密加工... 大口径光学元件超精密加工技术是多种学科新技术成果的综合应用,促进了民用和国防等尖端技术领域的发展,在国家大光学工程的推动下,我国的超精密加工技术取得显著的成果。围绕大口径光学元件'高精度磨削+确定性抛光'超精密加工体系,介绍该领域研究进展及厦门大学微纳米加工与检测联合实验室取得的相关研究成果,主要针对光学元件磨削和抛光两个加工流程,详细分析磨削装备技术、磨削工艺技术、精密检测技术、可控气囊抛光技术、加工环境监控技术和中频误差评价技术等关键技术的研究应用情况。这些技术研究从超精密加工的需求出发,借鉴国内外的研究经验和成果,通过对装备、工艺、检测等各方面整合,形成具有自主知识产权的大口径光学元件磨抛超精密加工体系,从而实现大口径光学元件高精度、低缺陷加工。 展开更多
关键词 超精密加工 磨削加工装备 磨削加工工艺 精密检测 气囊抛光 环境监控 中频误差评价
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