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三种静磁模与导波光的非共线衍射作用 被引量:4
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作者 武保剑 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第S1期909-912,共4页
根据任意倾斜偏置磁场情形下的磁光耦合模理论,分析了传统磁化时磁光薄膜波导中静磁正向体波、静磁反向体波和静磁表面波等3种静磁模对导波光的非共线衍射作用.给出了用静磁波复振幅表示的导波光衍射效率公式,理论计算与实验结果一致,... 根据任意倾斜偏置磁场情形下的磁光耦合模理论,分析了传统磁化时磁光薄膜波导中静磁正向体波、静磁反向体波和静磁表面波等3种静磁模对导波光的非共线衍射作用.给出了用静磁波复振幅表示的导波光衍射效率公式,理论计算与实验结果一致,所得结论可为磁光Bragg器件的优化设计以及它在磁光信息处理中的应用分析提供理论基础。 展开更多
关键词 静磁模 衍射效率 Bragg器件 磁光薄膜
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外加偏置磁场对静磁波模式及其频带的影响 被引量:1
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作者 武保剑 孙维勇 +2 位作者 史双瑾 陈福深 邱昆 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期2198-2200,共3页
本文完整地展现了磁光薄膜中任意倾斜的外加直流偏置磁场对微波静磁波激发模式及其带宽的影响,实现了对不同静磁模的统一考虑,为进一步分析磁光Bragg器件的衍射性能提供理论基础.计算分析表明:(1)当外加偏置磁场的大小不变时,传统磁化... 本文完整地展现了磁光薄膜中任意倾斜的外加直流偏置磁场对微波静磁波激发模式及其带宽的影响,实现了对不同静磁模的统一考虑,为进一步分析磁光Bragg器件的衍射性能提供理论基础.计算分析表明:(1)当外加偏置磁场的大小不变时,传统磁化情形下的静磁波带宽最大,此时基于静磁反向体波(MSBVW)的磁光Bragg器件较相应的静磁正向体波(MSFVW)器件有更高的工作频率;(2)在适当倾斜的偏置磁场作用下,MSBVW、MSFVW和静磁表面波(MSSW)均可被激发,它们的激发频率依次增大;(3)通过倾斜偏置磁场可使MSFVW的频带向高频移动. 展开更多
关键词 静磁波 偏置磁场 磁光薄膜 Bragg器件
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用表面磁光克尔效应实验系统测量铁磁性薄膜的磁滞回线 被引量:4
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作者 刘平安 丁菲 +1 位作者 陈希江 陆申龙 《物理实验》 2006年第9期3-6,共4页
用自制的表面磁光克尔效应实验系统开发了研究性近代物理实验,测出铁磁性薄膜的磁滞回线,并求得克尔旋转角和克尔椭偏率.
关键词 表面磁光克尔效应 铁磁性薄膜 磁滞回线 克尔旋转角 克尔椭偏率
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磁光薄膜电流传感器 被引量:2
4
作者 苏永道 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2002年第1期1-2,15,共3页
磁光薄膜电流传感器 ,是基于磁致旋光介质在外磁场的作用下 ,对偏振光振动面的旋光原理、光导纤维对高压电场的隔离特性而设计的一种新型电流传感器。它可用于低压、高压和超高压配电网中 ,对直流。
关键词 磁光薄膜 电流传感器 磁致旋光 电磁干扰 高压隔离
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复合外场中磁光薄膜(BiTm)_3(FeGa)_5O_(12)缺陷周围磁畴壁的形貌特征
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作者 曾文光 邓雪儿 林长净 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期611-614,共4页
用自组装系统记录了外场分别为匀速率增加的直流磁场、低频交变磁场和它们同时存在时,磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12一种缺陷周围磁畴壁的形貌特征。分析表明:三种不同取向磁畴壁的交界处往往是磁光薄膜的缺陷所在处;在低频交变场下,该缺... 用自组装系统记录了外场分别为匀速率增加的直流磁场、低频交变磁场和它们同时存在时,磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12一种缺陷周围磁畴壁的形貌特征。分析表明:三种不同取向磁畴壁的交界处往往是磁光薄膜的缺陷所在处;在低频交变场下,该缺陷区域出现无畴条块或区域,在直流场中无此现象。在低频交变场以及复合外场下该缺陷周围磁畴壁形成椭圆形图案。 展开更多
关键词 复合外场 磁光薄膜 (BiTm)3(FeGa)5O12 缺陷 磁畴壁 形貌特征 复合外场
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(PrGdYb)_(3-x)(FeAl)_5O_(12)石榴石外延膜及其磁光特性
6
作者 李呈祥 于含云 李艺 《曲阜师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1992年第2期53-56,共4页
文中详细讨论了新型磁光材料(PrGdYb)3-xBix(FeAl)5O12单晶薄膜的外延生长法及所得样品的测试数据,样品比法拉第旋转θF-1.6×^4deg/cm,并有较宽的光谱透过区。
关键词 磁光薄膜 法拉第旋转 磁光特性
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新型掺铈钇铁石榴石磁光薄膜材料
7
作者 黄强 冯则坤 何华辉 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第5期35-37,共3页
对新型掺铈钇铁石榴石磁光薄膜材料(Ce:YIG)的制备工艺、磁光特性及理论分析进行了较全面的评述,并指出今后研究的方向。
关键词 磁光薄膜 溅射 钇铁石榴石 外延生长
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聚焦磁光克尔效应研究坡莫合金图形阵列中的局部磁性
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作者 孙丽 韩琦 +3 位作者 赵崇谊 黄兆聪 翟亚 徐永兵 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第4期492-497,共6页
利用聚焦磁光克尔效应(MOKE)研究了不同形状单元组成的坡莫合金图形化阵列的单个单元磁化过程,研究发现单元的形状对单元磁性有很大影响,主要是单元的退磁场和形状有很大关联。研究还发现矩形阵列单个单元的磁滞回线不但与其矩形比有关... 利用聚焦磁光克尔效应(MOKE)研究了不同形状单元组成的坡莫合金图形化阵列的单个单元磁化过程,研究发现单元的形状对单元磁性有很大影响,主要是单元的退磁场和形状有很大关联。研究还发现矩形阵列单个单元的磁滞回线不但与其矩形比有关,与单元间隔和在阵列中的阵列位置也有关。矩形单元易磁化方向沿着其长边方向,而短边方向为难磁化方向,其形状磁各向异性随矩形比而增大。当阵列单元之间的间隔大于单元尺寸时,在阵列中单元的位置对磁性影响相对较少,基本与单个单元的磁性相同。当单元之间的间隔接近单元尺寸时,不同位置的单元的磁性表现出磁各向异性不同,表明单元间的磁相互作用对磁性产生影响。 展开更多
关键词 激光物理 磁各向异性 聚焦磁光克尔效应 图形化阵列 化学湿蚀刻
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新型磁光石榴石薄膜的液相外延生长 被引量:3
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作者 张秀成 何华辉 《华中理工大学学报》 CSCD 北大核心 1997年第3期103-105,共3页
对高掺铋(YbTbBi)3Fe5O12及(ErGdBi)3Fe5O12磁光单晶薄膜的液相外延生长进行了实验研究.用液相外延法将薄膜生长在大晶格常数的CaMgZr:GGG基片上,实验中采用新的材料配方与工艺技术,特别是... 对高掺铋(YbTbBi)3Fe5O12及(ErGdBi)3Fe5O12磁光单晶薄膜的液相外延生长进行了实验研究.用液相外延法将薄膜生长在大晶格常数的CaMgZr:GGG基片上,实验中采用新的材料配方与工艺技术,特别是在薄膜晶体生长中采用变化熔料温度与基片转速的新技术,生长出多分层而不开裂的薄膜,使用D/MAX-ⅢB型晶体衍射仪测量了样品的X射线衍射谱。 展开更多
关键词 磁光石榴石薄膜 薄膜 生长 液相外延 掺杂
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