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微波电子回旋共振等离子体技术及其应用
被引量：
4
1
作者
甄汉生
《真空科学与技术》
CSCD
1993年第2期79-86,共8页
微波电子回旋共振等离子体是淀积薄膜、微细加工和材料表面改性的一种重要手段。由于这种等离子体电离水平高,化学活性好,可以用来实现基片上薄膜的室温化学气相淀积和反应离子刻蚀,因此对于微电子学、光电子学和薄膜传感器件的发展,这...
微波电子回旋共振等离子体是淀积薄膜、微细加工和材料表面改性的一种重要手段。由于这种等离子体电离水平高,化学活性好,可以用来实现基片上薄膜的室温化学气相淀积和反应离子刻蚀,因此对于微电子学、光电子学和薄膜传感器件的发展,这种等离子体会具有重要的意义。此外,采用微波电子回旋共振等离子体原理,没有灯丝的离子源可以提高离子源的使用寿命,可以增加离子束的束流密度。可以确信,微波电子回旋共振等离子体的发展,将把离子源技术提高到一个新的水平。显然,这必将对材料表面改性工艺,包括离子注入掺杂等工艺的发展发挥作用。自从1985年以来,为了得到大容积等离子体而发展了微波电子回旋共振多磁极等离子体,这些技术在薄膜技术、微细加工以及材料表面改性中的应用前景是乐观的。我们将在本文中,介绍微波电子回旋共振等离子体的原理及其应用。
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关键词
等离子体
电子回旋共振
微波
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职称材料
聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源
被引量：
1
2
作者
王凯歌
王雷
+1 位作者
王鹏业
牛憨笨
《应用光学》
CAS
CSCD
2004年第1期5-8,38,共5页
利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳...
利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑 X射线。本文介绍这一新型微束斑 X射线源的结构、机理及其特性等。
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关键词
微束斑X射线源
电子束离子源
电子束离子陷阱
离子光学聚束系统
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职称材料
用于聚焦离子束系统的离子源
3
作者
尚勇
赵环昱
《原子核物理评论》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期439-443,共5页
介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——...
介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——电子束离子源,并介绍了电子束离子源的基本原理,给出了设计参数、模拟结果(20kV的Ar+离子束,发射度约为5.8×10-5π.mm.mrad,束斑约为1μm)和初步的实验结果。
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关键词
聚焦离子束系统
液态金属离子源
气体场发射离子源
电子束离子源
原文传递
一种新型超短脉冲离子源
4
作者
王利
李海洋
+4 位作者
白吉玲
吕日昌
王理德
邢恒
魏希文
《大连理工大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期261-265,共5页
介绍了一种新型超短脉冲离子源．把聚焦后的激光照射到不锈钢板上，产生超短脉冲的光发射电子束．在飞行时间质谱仪（ＴＯＦ－ＭＳ）上，利用这种电子束来轰击超音速射流气体，给出了这些气体离子的飞行时间质谱．这种离子源可作为飞行...
介绍了一种新型超短脉冲离子源．把聚焦后的激光照射到不锈钢板上，产生超短脉冲的光发射电子束．在飞行时间质谱仪（ＴＯＦ－ＭＳ）上，利用这种电子束来轰击超音速射流气体，给出了这些气体离子的飞行时间质谱．这种离子源可作为飞行时间质谱仪的一种理想的“软电离”离子源．
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关键词
电子束离子源
飞行时间质谱仪
超短脉冲
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职称材料
题名
微波电子回旋共振等离子体技术及其应用
被引量：
4
1
作者
甄汉生
机构
清华大学电子工程系
出处
《真空科学与技术》
CSCD
1993年第2期79-86,共8页
文摘
微波电子回旋共振等离子体是淀积薄膜、微细加工和材料表面改性的一种重要手段。由于这种等离子体电离水平高,化学活性好,可以用来实现基片上薄膜的室温化学气相淀积和反应离子刻蚀,因此对于微电子学、光电子学和薄膜传感器件的发展,这种等离子体会具有重要的意义。此外,采用微波电子回旋共振等离子体原理,没有灯丝的离子源可以提高离子源的使用寿命,可以增加离子束的束流密度。可以确信,微波电子回旋共振等离子体的发展,将把离子源技术提高到一个新的水平。显然,这必将对材料表面改性工艺,包括离子注入掺杂等工艺的发展发挥作用。自从1985年以来,为了得到大容积等离子体而发展了微波电子回旋共振多磁极等离子体,这些技术在薄膜技术、微细加工以及材料表面改性中的应用前景是乐观的。我们将在本文中,介绍微波电子回旋共振等离子体的原理及其应用。
关键词
等离子体
电子回旋共振
微波
Keywords
ECR(
electron
Cyclotron
Resonance),
Plasma,
CVD(Chemical
Vapor
Deposit
ion
),
Broad
beam
ion
source
分类号
O534 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源
被引量：
1
2
作者
王凯歌
王雷
王鹏业
牛憨笨
机构
中科院物理研究所软物质实验室
西安应用光学研究所第
中科院西安光学精密机械研究所光电子部
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
2004年第1期5-8,38,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目 (6 98780 33)
文摘
利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑 X射线。本文介绍这一新型微束斑 X射线源的结构、机理及其特性等。
关键词
微束斑X射线源
电子束离子源
电子束离子陷阱
离子光学聚束系统
Keywords
microfocal
X-ray
source
electron beam
ion
source
electron beam
ion
trap
ion
-optical
focusing
system
分类号
O434.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
用于聚焦离子束系统的离子源
3
作者
尚勇
赵环昱
机构
中国科学院近代物理研究所
中国科学院研究生院
出处
《原子核物理评论》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期439-443,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(60706006
10225523)~~
文摘
介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——电子束离子源,并介绍了电子束离子源的基本原理,给出了设计参数、模拟结果(20kV的Ar+离子束,发射度约为5.8×10-5π.mm.mrad,束斑约为1μm)和初步的实验结果。
关键词
聚焦离子束系统
液态金属离子源
气体场发射离子源
电子束离子源
Keywords
focus
ion
beam
system
liquid-metal
ion
source
gas
field
ion
source
electron beam
ion
source
分类号
O562 [理学—原子与分子物理]
原文传递
题名
一种新型超短脉冲离子源
4
作者
王利
李海洋
白吉玲
吕日昌
王理德
邢恒
魏希文
机构
中国科学院大连化学物理研究所分子反应动力学国家重点实验室
大连理工大学物理系
出处
《大连理工大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期261-265,共5页
文摘
介绍了一种新型超短脉冲离子源．把聚焦后的激光照射到不锈钢板上，产生超短脉冲的光发射电子束．在飞行时间质谱仪（ＴＯＦ－ＭＳ）上，利用这种电子束来轰击超音速射流气体，给出了这些气体离子的飞行时间质谱．这种离子源可作为飞行时间质谱仪的一种理想的“软电离”离子源．
关键词
电子束离子源
飞行时间质谱仪
超短脉冲
Keywords
electron
beam
ion
source
time
of
flight
mass
spectrometry/supershort
pulse
分类号
TL817.8 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微波电子回旋共振等离子体技术及其应用
甄汉生
《真空科学与技术》
CSCD
1993
4
下载PDF
职称材料
2
聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源
王凯歌
王雷
王鹏业
牛憨笨
《应用光学》
CAS
CSCD
2004
1
下载PDF
职称材料
3
用于聚焦离子束系统的离子源
尚勇
赵环昱
《原子核物理评论》
CAS
CSCD
北大核心
2011
0
原文传递
4
一种新型超短脉冲离子源
王利
李海洋
白吉玲
吕日昌
王理德
邢恒
魏希文
《大连理工大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
1998
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
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