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ZnO纳米材料及掺杂ZnO材料的最新研究进展 被引量:9
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作者 赵铧 李韦 +3 位作者 刘高斌 熊稳 王伟 郭富胜 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第F11期105-109,113,共6页
作为一种新型的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,ZnO具有优良的光学和电学性能。目前国际上除纳米线外,ZnO纳米带、纳米棒、纳米阵列、纳米弹簧、纳米环已合成出来,并有广泛的应用前景。在ZnO中掺入Mg、Co等元素可以实现带隙调节,有望开发出紫外、绿... 作为一种新型的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,ZnO具有优良的光学和电学性能。目前国际上除纳米线外,ZnO纳米带、纳米棒、纳米阵列、纳米弹簧、纳米环已合成出来,并有广泛的应用前景。在ZnO中掺入Mg、Co等元素可以实现带隙调节,有望开发出紫外、绿光、特别是蓝光等多种发光器件。稀磁半导体材料更是当今研究的热点。结合国内外的研究现状,分别介绍了有关ZnO纳米新材料、掺杂非磁性元素和磁性元素的ZnO材料的最新研究进展。 展开更多
关键词 氧化锌 纳米材料 稀磁半导体(dms)
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过渡金属掺杂ZnO稀磁半导体铁磁特性研究进展 被引量:5
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作者 王爱华 张丽伟 +1 位作者 张兵临 姚宁 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期114-123,共10页
ZnO基稀磁半导体是目前研究的热门课题,关于3d过渡金属掺杂(transition-m etal-doped)ZnO的室温铁磁性有很多报道。本文对不同方法和不同条件制备的过渡金属掺杂的ZnO基稀磁半导体的磁性和相应机理进行了综述。
关键词 自旋电子学 稀磁半导体 ZNO 过渡金属掺杂 室温铁磁性
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过渡金属掺杂ZnO稀磁半导体的发光特性 被引量:2
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作者 徐明 胡志刚 +3 位作者 吴艳南 周海平 徐禄祥 周勋 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第19期27-33,48,共8页
ZnO是一种宽带隙Ⅱ-Ⅵ族半导体,具有良好的光电耦合特性和稳定性,在光、电、磁功能集成等新型器件方面可获得重要应用。近来的研究表明,过渡金属掺杂的ZnO基半导体有望成为实现高居里温度稀磁半导体的候选材料,是目前研究的热点。总结... ZnO是一种宽带隙Ⅱ-Ⅵ族半导体,具有良好的光电耦合特性和稳定性,在光、电、磁功能集成等新型器件方面可获得重要应用。近来的研究表明,过渡金属掺杂的ZnO基半导体有望成为实现高居里温度稀磁半导体的候选材料,是目前研究的热点。总结了近几年人们在Fe、Co、Ni、Cu、Mn等过渡金属掺杂的ZnO基稀磁半导体的发光特性研究结果,讨论了过渡金属掺杂后ZnO中观察到的可见发光机制,分析认为过渡金属掺杂ZnO的可见光发射主要与这些发光过渡金属引入后所产生的缺陷有关,而紫外发光峰的变化则与过渡金属掺入后ZnO晶体质量与禁带宽度的改变相关。 展开更多
关键词 ZNO 稀磁半导体 过渡金属 掺杂 发光
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Structural and magnetic properties of Yb-implanted GaN
4
作者 尹春海 刘超 +1 位作者 陶东言 曾一平 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第5期16-19,共4页
N-type, p-type and unintentionally-doped GaN were implanted with Yb ions by double energy ion im- plantation and the samples were annealed at 900 ℃. The structural and magnetic properties of the samples have been stu... N-type, p-type and unintentionally-doped GaN were implanted with Yb ions by double energy ion im- plantation and the samples were annealed at 900 ℃. The structural and magnetic properties of the samples have been studied by high-resolution X-ray diffraction (HRXRD), Raman scattering and with a superconducting quan- tum interference device (SQUID). No second phase has been observed and implantation induced defects can not be completely removed by rapid thermal annealing. The annealed samples show magnetic anisotropy and clear ferromagnetic behavior at room temperature. P-, u- and n-GaN:Yb samples show an effective magnetic moment of 1.60, 1.24 and 0.59 μB/Yb, respectively. 展开更多
关键词 diluted magnetic semiconductors dms room temperature ferromagnetism ion implantation magnetic anisotropy
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共沉淀法制备的Cu掺杂ZnO体系的磁性 被引量:1
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作者 李云龙 王永强 周远明 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2008年第3期31-33,共3页
利用共沉淀法制备了Cu掺杂的Zn1-xCuxO(x=0,0.01,0.02)系列样品。利用X射线衍射仪(XRD)分析了样品的相成分,结果显示600℃烧结、掺杂浓度为1%的样品为单相纤锌矿结构,掺杂浓度为2%的样品出现第二相CuO。利用综合物性测试仪(PPMS)测量了... 利用共沉淀法制备了Cu掺杂的Zn1-xCuxO(x=0,0.01,0.02)系列样品。利用X射线衍射仪(XRD)分析了样品的相成分,结果显示600℃烧结、掺杂浓度为1%的样品为单相纤锌矿结构,掺杂浓度为2%的样品出现第二相CuO。利用综合物性测试仪(PPMS)测量了样品的室温(300K)及低温(10K)磁性能,结果表明所有样品均呈室温铁磁性,掺杂浓度为1%、600℃烧结样品磁转变温度高于300K。最后简要讨论了铁磁性起因。 展开更多
关键词 Zn1-xCuxO 稀磁半导体 共沉淀法 铁磁性
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混合碱法制备立方体状Ni_(1-x)Fe_xO纳米粉体及其磁性分析 被引量:1
6
作者 王娇 刘少辉 +1 位作者 赵利敏 郝好山 《中国陶瓷》 CSCD 北大核心 2017年第5期31-35,共5页
采用混合碱法制备了立方体状Ni_(1-x)Fe_xO(x=0,0.01,0.02,0.05)纳米粉体,采用SEM、XRD、Raman光谱和超导量子干涉仪(SQUID)研究了不同浓度Fe掺杂对其形貌、结构及磁性能的影响。测量结果表明:少量的Fe掺杂,对其结构及形貌未产生影响,N... 采用混合碱法制备了立方体状Ni_(1-x)Fe_xO(x=0,0.01,0.02,0.05)纳米粉体,采用SEM、XRD、Raman光谱和超导量子干涉仪(SQUID)研究了不同浓度Fe掺杂对其形貌、结构及磁性能的影响。测量结果表明:少量的Fe掺杂,对其结构及形貌未产生影响,Ni O仍然是Na Cl型立方晶体结构,样品在室温条件下表现出明显的铁磁性,并且饱和磁化强度随着Fe浓度的增加而提高。分析认为样品的室温铁磁性是由于Fe离子对NiO中的Ni的替代,促进了磁性离子键的铁磁性交换作用,从而使其在与反铁磁性交换作用的竞争中占据优势,表现出了显著增强的室温铁磁性。 展开更多
关键词 稀磁半导体 混合碱法 NIO
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锰掺杂ZnO稀磁半导体的制备及铁磁性能 被引量:7
7
作者 黄贵军 王金斌 +1 位作者 钟向丽 周功程 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期597-599,共3页
用溶胶-凝胶法,在超声波辅助条件下制备了Mn掺杂ZnO(Zn1-xMnxO,x≤0.05)稀磁半导体(DMS)纳米晶粉末样品。用透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射(XRD)仪、超导量子干涉(SQUID)测磁仪分别对样品形貌、结构和磁性能进行了表征。较低的掺杂浓... 用溶胶-凝胶法,在超声波辅助条件下制备了Mn掺杂ZnO(Zn1-xMnxO,x≤0.05)稀磁半导体(DMS)纳米晶粉末样品。用透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射(XRD)仪、超导量子干涉(SQUID)测磁仪分别对样品形貌、结构和磁性能进行了表征。较低的掺杂浓度下样品很好地保持ZnO的纤锌矿结构,随着掺杂浓度x的增加,样品的晶格常数近似线性增大,没有观察到杂质相。样品Zn0.98Mn0.02O显示了很好的铁磁性,居里温度在350K以上。 展开更多
关键词 ZnO稀磁半导体(dms) 铁磁性 纳米晶 溶胶-凝胶法
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TM掺杂的Ⅲ-Ⅴ族稀磁半导体电磁性质的第一原理计算 被引量:23
8
作者 林秋宝 李仁全 +1 位作者 曾永志 朱梓忠 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期873-878,共6页
使用基于自旋局域密度泛函理论的第一性原理方法对3d过渡金属(TM=V,Cr,Mn,Fe,Co和Ni)掺杂的Ⅲ-Ⅴ族半导体(GaAs和GaP)的电磁性质进行了计算.结果发现:用V,Cr和Mn掺杂时体系将出现铁磁状态,而Fe掺杂时将出现反铁磁状态,Co和Ni掺杂时,其... 使用基于自旋局域密度泛函理论的第一性原理方法对3d过渡金属(TM=V,Cr,Mn,Fe,Co和Ni)掺杂的Ⅲ-Ⅴ族半导体(GaAs和GaP)的电磁性质进行了计算.结果发现:用V,Cr和Mn掺杂时体系将出现铁磁状态,而Fe掺杂时将出现反铁磁状态,Co和Ni掺杂时,其磁性则不稳定.其中,Cr掺杂的GaAs和GaP将可能是具有较高居里温度的稀磁半导体(DMS).在这些DMS系统中,V离子的磁矩大于理论期待值,Fe,Co和Ni离子的磁矩小于理论期待值,Cr和Mn离子的磁矩与期待值的差距取决于晶体的对称性以及磁性离子的能带分布.此外,使用Si和Mn共同对Ⅲ-Ⅴ族半导体进行掺杂,将有利于DMS表现为铁磁状态,并可以使体系的TC进一步提高. 展开更多
关键词 稀磁半导体 过渡金属 掺杂 共掺杂
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反铁磁性交换作用对稀磁半导体(DMS)居里温度的影响 被引量:7
9
作者 胡作启 陈飞 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2007年第4期21-24,共4页
DMS的居里温度与空穴载流子浓度有着极大的关系。基于局域空穴模型,本文定量地分析了反铁磁性交换作用对DMS居里温度的影响。结果表明反铁磁性交换作用对居里温度的影响与磁性离子浓度ni和空穴浓度nc的比值有着密切关系.当ni/nc>100... DMS的居里温度与空穴载流子浓度有着极大的关系。基于局域空穴模型,本文定量地分析了反铁磁性交换作用对DMS居里温度的影响。结果表明反铁磁性交换作用对居里温度的影响与磁性离子浓度ni和空穴浓度nc的比值有着密切关系.当ni/nc>10000 时,反铁磁性交换作用对居里温度的影响十分显著;当 ni/nc<10时,反铁磁性交换作用对居里温度的影响将会明显减弱,随着空穴浓度的增加,空穴对反铁磁性交换作用有强的抑制作用。 展开更多
关键词 稀磁半导体 居里温度 反铁磁性交换作用
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C掺杂AlN的电子结构和光学性质的第一性原理研究 被引量:6
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作者 王腊节 聂招秀 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2019年第1期116-122,共7页
采用基于密度泛函理论(DFT)的平面波超软赝势法,研究了C掺杂铅锌矿AlN的电子结构、磁性和光学性质.结果表明,C掺杂AlN产生了自旋极化,在带隙中引入杂质带形成受主能级,实现p型掺杂,同时表现出较强的半金属铁磁性,半金属能隙为0.315eV,... 采用基于密度泛函理论(DFT)的平面波超软赝势法,研究了C掺杂铅锌矿AlN的电子结构、磁性和光学性质.结果表明,C掺杂AlN产生了自旋极化,在带隙中引入杂质带形成受主能级,实现p型掺杂,同时表现出较强的半金属铁磁性,半金属能隙为0.315eV,理论上可实现100%的自旋载流子注入.掺杂后体系的介电函数虚部和光吸收系数在低能区出现新的峰值,吸收边向低能方向延展,能量损失明显减少. 展开更多
关键词 C掺杂AlN 铁磁性 稀磁半导体(dms) 光学性质 第一性原理
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生长温度对Mn掺杂ZnO纳米棒铁磁性的影响 被引量:6
11
作者 闫海龙 钟向丽 +3 位作者 王金斌 黄贵军 丁书龙 周功程 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期58-61,共4页
用化学气相沉积法(CVD),在生长温度为600、650和700℃条件下,未采用任何催化剂制备了Mn掺杂ZnO纳米棒。研究发现,随着生长温度的升高,样品中O空位的浓度逐渐增加。低浓度的O空位可以增强Mn掺杂ZnO纳米棒的铁磁性,但O空位浓度过高时,Mn掺... 用化学气相沉积法(CVD),在生长温度为600、650和700℃条件下,未采用任何催化剂制备了Mn掺杂ZnO纳米棒。研究发现,随着生长温度的升高,样品中O空位的浓度逐渐增加。低浓度的O空位可以增强Mn掺杂ZnO纳米棒的铁磁性,但O空位浓度过高时,Mn掺杂ZnO纳米棒表现出超顺磁性或反铁磁性。在3个样品中,650℃的样品具有最好的室温铁磁性,其饱和磁化强度为0.85μB/Mn,矫顽力为50Oe。 展开更多
关键词 稀磁半导体(dms) 晶体缺陷 化学气相沉积(CVD) 阴极射线发光(CL)
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Co掺杂SiC稀磁半导体薄膜的磁与电阻率特性 被引量:2
12
作者 李响 安玉凯 +3 位作者 肖庆 段岭申 吴忠华 刘技文 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1038-1041,共4页
采用射频磁控溅射法制备了不同Co掺杂浓度的SiC薄膜。X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、Hall以及电阻率-温度(-ρT)曲线测试结果表明,Co掺杂SiC薄膜具有4H-SiC(100)晶体结构和典型的半导体导电特征,未发现Co金属团簇以及其它CoSi... 采用射频磁控溅射法制备了不同Co掺杂浓度的SiC薄膜。X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、Hall以及电阻率-温度(-ρT)曲线测试结果表明,Co掺杂SiC薄膜具有4H-SiC(100)晶体结构和典型的半导体导电特征,未发现Co金属团簇以及其它CoSi第二相化合物生成,显示了Co原子以替位掺杂的形式进入了SiC晶格;电流-电压(I-V)特性测试发现,Co掺杂SiC薄膜是一种非均匀掺杂;PPMS磁性测量表明,Co掺杂SiC薄膜具有明显的室温铁磁性,饱和磁化强度随着Co掺杂浓度的增加而增加,其铁磁性的来源符合缺陷机制的束缚磁极子(BMP)机制。 展开更多
关键词 SIC 稀磁半导体(dms) CO掺杂 铁磁性
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过渡金属掺杂CuGaS_2的磁学性质
13
作者 曾志钦 《漳州师范学院学报(自然科学版)》 2005年第3期71-76,共6页
应用基于自旋极化的第一性原理系统地对3d过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和Ni)掺杂CuGaS2的磁学性质进行理论计算.通过对过渡金属对CuGaS2掺杂,在铁磁状态下取代不同离子(Cu和Ga)结合能的比较,我们发现:过渡金属在CuGaS2中比较容易占据G... 应用基于自旋极化的第一性原理系统地对3d过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和Ni)掺杂CuGaS2的磁学性质进行理论计算.通过对过渡金属对CuGaS2掺杂,在铁磁状态下取代不同离子(Cu和Ga)结合能的比较,我们发现:过渡金属在CuGaS2中比较容易占据Ga的位置.通过对稀磁半导体(DMS)磁性稳定性的研究,可以发现到:在Cr、Mn掺杂的CuGaS2中,DMS表现为铁磁状态,其居里温度将可能高于(Ga,Mn)As,其他过渡金属掺杂时,DMS则表现为反铁磁状态.并验算了一条判断DMS磁性状态的简单规律. 展开更多
关键词 稀磁半导体(dms) 居里温度(TC) 过渡金属(TM)
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3d过渡金属掺杂II-IV-V_2黄铜矿半导体的电磁性质
14
作者 林琦 《宁德师专学报(自然科学版)》 2006年第4期374-377,共4页
利用自旋局域密度泛函的第一性原理对3d过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和N i)掺杂的II-IV-V2(CdGeP2和ZnGeP2)黄铜矿半导体进行系统计算.结果发现:V-、Cr-和N i-掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现铁磁状态(FM),而Mn-、Fe-以及Co-掺杂的CdGeP2... 利用自旋局域密度泛函的第一性原理对3d过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和N i)掺杂的II-IV-V2(CdGeP2和ZnGeP2)黄铜矿半导体进行系统计算.结果发现:V-、Cr-和N i-掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现铁磁状态(FM),而Mn-、Fe-以及Co-掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现反铁磁状态(AFM). 展开更多
关键词 稀磁半导体(dms) 过渡金属 双交换作用 铁磁状态
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非极性a面p型GaN∶Mn薄膜的结构、形貌和铁磁性质
15
作者 孙莉莉 闫发旺 +4 位作者 张会肖 王军喜 曾一平 王国宏 李晋闽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期127-128,139,共3页
采用离子注入和快速退火技术制备了稀磁非极性a面p型GaN∶Mn薄膜。通过高分辨X射线衍射、原子力显微镜和超导量子干涉仪等测试手段,对样品的结构、形貌和磁性质进行了分析。测试分析结果表明,在退火过程中生成了对样品的铁磁性质起重要... 采用离子注入和快速退火技术制备了稀磁非极性a面p型GaN∶Mn薄膜。通过高分辨X射线衍射、原子力显微镜和超导量子干涉仪等测试手段,对样品的结构、形貌和磁性质进行了分析。测试分析结果表明,在退火过程中生成了对样品的铁磁性质起重要贡献的Mn3Ga相,快速退火过程可以有效恢复离子注入过程对样品的损伤,所得非极性GaN∶Mn退火样品具有室温铁磁特性。 展开更多
关键词 稀磁半导体 非极性a面p-GaN 离子注入 室温铁磁性
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Mn离子注入Si材料的结构分析及磁学性质
16
作者 郭立平 欧阳中亮 +4 位作者 彭国良 叶舟 黎明 彭挺 潘杨 《武汉大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期656-660,共5页
采用剂量分别为1×1016(1E16),3×1016(3E16)和5×1016cm-2(5E16)的Mn离子注入方法制备Si基稀磁半导体样品.利用透射电子显微镜(TEM)和交变梯度磁强计(AGM)对不同剂量的样品退火前后的结构和磁学特性的变化进行了表征.实验... 采用剂量分别为1×1016(1E16),3×1016(3E16)和5×1016cm-2(5E16)的Mn离子注入方法制备Si基稀磁半导体样品.利用透射电子显微镜(TEM)和交变梯度磁强计(AGM)对不同剂量的样品退火前后的结构和磁学特性的变化进行了表征.实验发现,退火前,只有5E16样品出现球状偏析物,其直径在5 nm左右,但也有个别直径15 nm左右的大团簇.N2环境下800℃退火5 min部分修复了1E16样品注入区域的晶格损伤,并使该剂量样品出现偏析物,直径多在10 nm左右.衍射花样分析表明该偏析物为具有晶面间距0.333,0.191和0.163 nm的微晶,这说明该微晶最有可能是MnSi1.7.退火前,样品饱和磁化强度随注入剂量增大而显著增强,但从3E16到5E16增速放缓,退火使低剂量样品磁性大幅减弱,说明偏析物不利磁性增强. 展开更多
关键词 离子注入 Si基稀磁半导体(dms) 透射电子显微镜(TEM) 衍射花样
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